[實(shí)用新型]一種運(yùn)行壓力可調(diào)式O3/H2O2/UV高級氧化系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201921396303.4
• 申請日: 2019-08-27
• 公開（公告）號: CN210620314U
• 公開（公告）日: 2020-05-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 于振濱;王存峰;劉德民;朱清江;郭丕健
• 申請（專利權(quán)）人: 青島思普潤水處理股份有限公司
• 主分類號: C02F1/32
• 分類號: C02F1/32;C02F1/72;C02F1/78
• 代理公司: 青島智地領(lǐng)創(chuàng)專利代理有限公司 37252
• 代理人: 張紅鳳

本實(shí)用新型公開了一種運(yùn)行壓力可調(diào)式O₃/H₂O₂/UV高級氧化系統(tǒng)，屬于水處理技術(shù)領(lǐng)域。其解決了反應(yīng)器運(yùn)行壓力不足、臭氧利用率不高、O₃/H₂O₂/UV高級氧化系統(tǒng)效率低的技術(shù)問題。其包括反應(yīng)器、進(jìn)水單元、出水單元、紫外線照射裝置、臭氧擴(kuò)散器、H₂O₂投加器和壓力調(diào)節(jié)裝置，反應(yīng)器從下端進(jìn)水，穿過紫外線照射裝置后從上端出水；臭氧擴(kuò)散器設(shè)置在反應(yīng)器的底部；紫外線照射裝置通過紫外電控系統(tǒng)對其紫外線照射能量進(jìn)行調(diào)節(jié)，壓力調(diào)節(jié)裝置包含臭氧尾氣控制閥、系統(tǒng)壓力調(diào)節(jié)閥、壓力顯示器。本實(shí)用新型提高了系統(tǒng)去除污染物效果、拓展了O₃/H₂O₂/UV技術(shù)應(yīng)用范圍。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型屬于水處理技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種運(yùn)行壓力可調(diào)式O₃/H₂O₂/UV高級氧化系統(tǒng)。

背景技術(shù)

O₃/H₂O₂/UV高級氧化工藝可以產(chǎn)生強(qiáng)氧化性羥基自由基(·OH)，該自由基可將大分子難降解有機(jī)污染物斷鏈、開環(huán)，實(shí)現(xiàn)污染物降解。目前，O₃/H₂O₂/UV高級氧化工藝已運(yùn)用于市政污水與工業(yè)廢水深度處理領(lǐng)域，并取得了良好的效果。

O₃/H₂O₂/UV高級氧化工藝通過以下反應(yīng)原理產(chǎn)生·OH：

O₃+hv→O₂+O(1D)

O(1D)+H₂O→2·OH

O₃+OH^-→HO₂^-+O₂

O₃+HO₂^-→·OH+O₂^-+O₂

H₂O₂+hv→2·OH

通過以上反應(yīng)原理可知，O₃/H₂O₂/UV工藝中O₃濃度、H₂O₂濃度、UV劑量均是產(chǎn)生·OH的重要影響因素，可通過調(diào)整O₃、H₂O₂、UV三個系統(tǒng)的運(yùn)行工況優(yōu)化O₃/H₂O₂/UV工藝的運(yùn)行效果；其中，水中O₃濃度與溶液溫度、操作壓力、pH、水中成分、臭氧氣體濃度等有關(guān)；有研究表明，操作壓力是影響臭氧濃度的重要因素，一般操作壓力越高，水中臭氧濃度越高。工程中，基于臭氧的高級氧化系統(tǒng)一般通過有效水深控制系統(tǒng)操作壓力，設(shè)計(jì)水深一般不低于5m。

針對于中小型工程，考慮采用一體化處理裝置，高級氧化設(shè)計(jì)水深按照5m設(shè)計(jì)時(shí)，反應(yīng)器的加工、安裝及運(yùn)輸較為困難。此外，O₃/H₂O₂/UV高級氧化系統(tǒng)一般投資、運(yùn)行成本較高，有條件的工程應(yīng)在設(shè)計(jì)階段前通過模型實(shí)驗(yàn)研究確定合理的工藝設(shè)計(jì)參數(shù)，但常規(guī)小試、中試實(shí)驗(yàn)裝置因高度和運(yùn)行壓力有限，難以真實(shí)模擬O₃/H₂O₂/UV工藝運(yùn)行工況。