[實用新型]一種運行壓力可調式O3/H2O2/UV高級氧化系統有效
| 申請號： | 201921396303.4 | 申請日： | 2019-08-27 |
| 公開（公告）號： | CN210620314U | 公開（公告）日： | 2020-05-26 |
| 發明（設計）人： | 于振濱;王存峰;劉德民;朱清江;郭丕健 | 申請（專利權）人： | 青島思普潤水處理股份有限公司 |
| 主分類號： | C02F1/32 | 分類號： | C02F1/32;C02F1/72;C02F1/78 |
| 代理公司： | 青島智地領創專利代理有限公司 37252 | 代理人： | 張紅鳳 |
| 地址： | 266500 山*** | 國省代碼： | 山東;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 運行 壓力 調式 o3 h2o2 uv 高級 氧化 系統 | ||
1.一種運行壓力可調式O3/H2O2/UV高級氧化系統，其包括反應器、進水單元、出水單元、紫外線照射裝置、臭氧擴散器、H2O2投加器，其特征在于：
還包括壓力調節裝置，所述的進水單元與出水單元均與所述的反應器相連通，所述進水單元與所述反應器的中下部連接，所述的出水單元與所述的反應器的中上部連接；
所述的壓力調節裝置包括壓力顯示器、壓力調節閥及臭氧尾氣控制閥，所述的壓力顯示器與所述的反應器連接，所述的壓力調節閥連接在所述的出水單元的出水管上；
所述的紫外線照射裝置，位于所述反應器的頂部，其包括腔體、位于腔體內的若干組紫外燈管及用于固定所述紫外燈管的支撐板；
所述的臭氧擴散器、H2O2投加器均設置在所述的反應器的底部。
2.根據權利要求1所述的一種運行壓力可調式O3/H2O2/UV高級氧化系統，其特征在于：所述的進水單元包括進水口和流量調節閥，所述的進水口位于所述反應器的中下方，與所述的進水口連接的進水管道上連接所述流量調節閥。
3.根據權利要求1所述的一種運行壓力可調式O3/H2O2/UV高級氧化系統，其特征在于：所述的出水單元包括出水口和與所述出水口連接的所述的出水管，所述的出水口位于所述反應器的中上方。
4.根據權利要求1所述的一種運行壓力可調式O3/H2O2/UV高級氧化系統，其特征在于：所述的紫外線照射裝置連接有與其配套的紫外電控系統，通過所述的紫外電控系統對其紫外線照射能量進行調節。
5.根據權利要求1所述的一種運行壓力可調式O3/H2O2/UV高級氧化系統，其特征在于：所述的臭氧尾氣控制閥位于與所述的反應器連接的臭氧排放管道上。
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