[實(shí)用新型]微圖文轉(zhuǎn)印用真空層壓曝光裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201921378237.8
• 申請(qǐng)日: 2019-08-23
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN210348193U
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-04-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 馮煜;周永南;袁順年
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 江陰通利光電科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G03F7/20
• 分類(lèi)號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

本實(shí)用新型涉及微圖文轉(zhuǎn)印用真空層壓曝光裝置，其特征在于，包括裝置主體和壓蓋，裝置主體包括工作臺(tái)面、若干組支撐腳、定位部件、壓板和若干相互平行的紫外燈，壓蓋包括壓蓋主體、硅膠墊，在壓蓋主體的下沿邊緣設(shè)有若干第一限位塊和若干安裝座內(nèi)嵌槽，第一限位塊設(shè)有插銷(xiāo)孔；工作臺(tái)面包括長(zhǎng)方形滑槽、縱向滾珠絲杠滑道、橫向滾珠絲杠安裝孔、若干壓蓋安裝座、抽真空孔；定位部件包括滑軌、橫向滾珠絲杠、第二限位塊、縱向滾珠絲杠滑槽、縱向滾珠絲杠、第一定位組件和第二定位組件；壓板設(shè)有若干吸附孔。本實(shí)用新型不僅解決了光掩模版和薄膜基板快速精準(zhǔn)對(duì)以及壓合過(guò)程中由于受力過(guò)大而導(dǎo)致光掩模版受損的問(wèn)題。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及微圖文轉(zhuǎn)印設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及微圖文轉(zhuǎn)印用真空層壓曝光裝置。

背景技術(shù)

隨著科技的飛速發(fā)展，微圖文轉(zhuǎn)印技術(shù)被廣泛用于電子元器件、高密度磁盤(pán)介質(zhì)、防偽薄膜等領(lǐng)域，常用的微圖轉(zhuǎn)印文技術(shù)主要分為接觸式光刻和非接觸式光刻兩種，其中，接觸式光刻要求在曝光時(shí)將掩膜版壓在襯底基片的光刻膠上，因此，需要用層壓機(jī)進(jìn)行對(duì)壓。然而，現(xiàn)有的層壓機(jī)進(jìn)行對(duì)壓操作時(shí)，常常難以將掩膜版和襯底基片進(jìn)行精準(zhǔn)對(duì)位，而且層壓過(guò)程中容易因?yàn)槭芰^(guò)大或不均而對(duì)掩膜版和襯底基片造成損傷。

中國(guó)公開(kāi)號(hào)為CN 106154745A公開(kāi)的一種微納跨尺度高分辨力紫外壓印光刻機(jī)，包括紫外照明系統(tǒng)，壓印模塊機(jī)構(gòu)、XYZ三軸運(yùn)動(dòng)工件臺(tái)系統(tǒng)和電氣控制系統(tǒng)，采用“紫外固化+ 氣壓作用”實(shí)現(xiàn)微納圖形的精準(zhǔn)轉(zhuǎn)移，可以保證大面積微納圖形復(fù)制的均勻性，但該設(shè)備結(jié)構(gòu)復(fù)雜、制造成本高、其壓印模塊機(jī)構(gòu)在壓印時(shí)無(wú)法保證掩膜版和襯底基不移動(dòng)。

因此，有必要對(duì)現(xiàn)有的層壓裝置進(jìn)行改進(jìn)，以解決上述問(wèn)題。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的在于提供微圖文轉(zhuǎn)印用真空層壓曝光裝置，以實(shí)現(xiàn)光掩模版和薄膜基板快速精準(zhǔn)地對(duì)位并可防止壓合過(guò)程中掩膜版和襯底基移動(dòng)，以及解決壓合過(guò)程中由于受力過(guò)大而導(dǎo)致光掩模版受損的問(wèn)題，并簡(jiǎn)化了設(shè)備，降低了生產(chǎn)成本。

為達(dá)到上述實(shí)用新型的目的，本實(shí)用新型提供的技術(shù)方案為：微圖文轉(zhuǎn)印用真空層壓曝光裝置，包括裝置主體和壓蓋，所述裝置主體包括工作臺(tái)面、設(shè)置于工作臺(tái)面底部?jī)蓚?cè)的若干組支撐腳、定位部件、壓板和設(shè)置于工作臺(tái)面的底面的若干相互平行的紫外燈，所述紫外燈的開(kāi)啟和關(guān)閉由外部開(kāi)關(guān)控制；所述壓蓋包括壓蓋主體及其設(shè)置于壓蓋主體內(nèi)表面的硅膠墊，所述硅膠墊的厚度為1-2cm；所述壓蓋可相對(duì)裝置主體翻轉(zhuǎn)270°，且壓蓋可停留在0°或270°位置；

在所述壓蓋主體的下沿邊緣設(shè)有若干第一限位塊和若干安裝座內(nèi)嵌槽，所述第一限位塊與安裝座內(nèi)嵌槽交替設(shè)置，且所述第一限位塊設(shè)有插銷(xiāo)孔；

所述工作臺(tái)面為上方敞口的長(zhǎng)方體設(shè)計(jì)，包括設(shè)置于工作臺(tái)面左、右兩側(cè)面內(nèi)壁的長(zhǎng)方形滑槽，內(nèi)置于工作臺(tái)面前側(cè)面并與水平面相平行的縱向滾珠絲杠滑道，內(nèi)置于工作臺(tái)面右側(cè)面的橫向滾珠絲杠安裝孔，設(shè)置在工作臺(tái)面后側(cè)面頂部的若干壓蓋安裝座，以及內(nèi)置于工作臺(tái)面兩側(cè)面并貫通至長(zhǎng)方形滑槽的抽真空孔；

所述定位部件，水平設(shè)置在工作臺(tái)面的內(nèi)部，呈“H”型設(shè)計(jì)，包括滑軌、平行于滑軌設(shè)置的橫向滾珠絲杠、套接在橫向滾珠絲杠兩端的第二限位塊、架設(shè)在滑軌和橫向滾珠絲杠上方的縱向滾珠絲杠滑槽、設(shè)置在縱向滾珠絲杠滑槽內(nèi)部的縱向滾珠絲杠、固定設(shè)置在滑軌左端上表面的第一定位組件和套接在縱向滾珠絲杠上的第二定位組件；

所述壓板為長(zhǎng)方形設(shè)計(jì)，且所述壓板的長(zhǎng)度和寬度均與工作臺(tái)面的內(nèi)長(zhǎng)和內(nèi)寬相一致，所述壓板設(shè)置在所述長(zhǎng)方形滑槽的上端，壓板位于長(zhǎng)方形滑槽所在的區(qū)域設(shè)有若干吸附孔。

進(jìn)一步地，所述長(zhǎng)方形滑槽呈水平設(shè)置，且長(zhǎng)方形滑槽的一端與工作臺(tái)面的前側(cè)面內(nèi)壁固定在一起，另一端與工作臺(tái)面的后側(cè)面的內(nèi)壁固定在一起，且所述長(zhǎng)方形滑槽的頂端距工作臺(tái)面頂端0.5-1cm。

進(jìn)一步地，所述壓板為無(wú)色透明的鋼化玻璃材質(zhì)。