[實用新型]一種晶體取出裝置有效
| 申請號: | 201921364817.1 | 申請日: | 2019-08-20 |
| 公開(公告)號: | CN211005718U | 公開(公告)日: | 2020-07-14 |
| 發明(設計)人: | 萬冠軍;劉星;柏文文;張亮;李斌;張健;許登基 | 申請(專利權)人: | 山東天岳先進材料科技有限公司 |
| 主分類號: | C30B29/36 | 分類號: | C30B29/36;C30B23/00 |
| 代理公司: | 濟南千慧專利事務所(普通合伙企業) 37232 | 代理人: | 韓玉昆 |
| 地址: | 250100 山東省濟南市高新區*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 晶體 取出 裝置 | ||
本實用新型提供了一種晶體取出裝置,包括:筒體,其內側壁具有向內凸出的臺階,所述臺階用于放置附著晶體裝置,所述筒體的頂端對稱固設有多個彈簧;壓蓋,其外側具有邊沿,中部設置有按壓晶體的凸臺,所述邊沿和凸臺之間形成凹槽,所述邊沿端部設置有多個拆卸連接所述彈簧的孔槽。本申請采用筒體和壓蓋結構,在筒體臺階處放入附著晶體的裝置后,壓蓋的凸臺作用于晶體上,使晶體脫落滑動,可方便的取出晶體。本申請通過筒體和壓蓋中間的彈簧,使凸臺的力均勻作用于晶體上,防止晶體取出過程中晶體開裂。本申請的裝置結構簡單,可方便的取出晶體,能夠防止晶體取出過程中晶體開裂,保證取出的晶體的完好性及提高了工作效率。
技術領域
本實用新型涉及一種晶體取出裝置,屬于晶體生產用設備領域。
背景技術
碳化硅(SiC)單晶具有高導熱率、高擊穿電壓、載流子遷移率極高、化學穩定性很高等優良的半導體物理性質,可以制作成在高溫、強輻射條件下工作的高頻、高功率電子器件和光電子器件,在國防、高科技、工業生產、供電、變電領域有巨大的應用價值,被看作是極具發展前景的第三代寬禁帶半導體材料。
目前,物理氣相沉積法(PVT)是生長碳化硅晶體通常使用的方法,該方法中以碳化硅粉末為原材料,將坩堝中的碳化硅粉末加熱到一定溫度就會顯著升華,而分解的碳化硅氣體會沿著溫度梯度輸運并在碳化硅籽晶處凝聚。通常,將籽晶放置在中空貫通的籽晶托架上端,籽晶托架放置在坩堝體上部,蓋上坩堝蓋;或者將籽晶直接置于坩堝體上端,再蓋上坩堝蓋,用于籽晶的生長。晶體生長結束后,需要取出晶體,附著在坩堝體或籽晶托架上的晶體,目前全靠手工在操作臺上撞擊坩堝體或籽晶托架取出,易造成晶體開裂,效率低。現有技術中,還沒有一種將坩堝體或籽晶托架中的晶體取出的裝置。
實用新型內容
為了解決上述問題,本申請提供了一種晶體取出裝置,避免了依靠手工在操作臺上撞擊取出晶體的弊端,防止取晶體過程晶體開裂及提高了工作效率。
本申請采用的技術方案如下:
一種晶體取出裝置,包括:
筒體,其內側壁具有向內凸出的臺階,所述臺階用于放置附著晶體裝置,所述筒體的頂端對稱固設有多個彈簧;
壓蓋,其外側具有邊沿,中部設置有按壓晶體的凸臺,所述邊沿和凸臺之間形成凹槽,所述邊沿端部設置有多個拆卸連接所述彈簧的孔槽。
進一步的,所述臺階為L形臺階,L形臺階的寬度等于或小于附著晶體裝置的厚度,L形臺階的高度小于附著晶體裝置的高度。
進一步的,所述壓蓋的外徑與筒體的外徑大致相等。
進一步的,所述邊沿的高度小于凸臺的高度,邊沿的厚度小于筒體上部的厚度。
進一步的,所述彈簧的數量為4個。
進一步的,所述筒體的外部套設有外殼,外殼的高度大致相等于筒體與壓蓋的高度之和。
進一步的,所述筒體的頂端開口,底部鋪設有泡沫棉。
進一步的,所述附著晶體裝置為坩堝或中空貫通的籽晶托架。
進一步的,所述壓蓋的頂部設置有T形手柄。
進一步的,所述筒體為中空的圓柱體,凸臺為實心圓柱體。
本申請的有益效果為:本申請采用筒體和壓蓋結構,在筒體臺階處放入附著晶體的裝置后,壓蓋的凸臺作用于晶體上,使晶體脫落滑動,可方便的取出晶體;通過筒體和壓蓋中間的彈性件,使凸臺的力均勻作用于晶體上,防止晶體取出過程中晶體開裂。本申請的裝置結構簡單,可方便的取出晶體,能夠防止晶體取出過程中晶體開裂,保證取出的晶體的完好性及提高了工作效率。
附圖說明
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