[實用新型]LPCVD和ALD兩用布氣裝置

有效

• 申請號: 201921362811.0
• 申請日: 2019-08-21
• 公開（公告）號: CN211005612U
• 公開（公告）日: 2020-07-14
• 發明（設計）人: 王楊陽;楊陸晗;王紅美;彭為報;孫嵩泉
• 申請（專利權）人: 普樂新能源（蚌埠）有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455
• 代理公司: 蚌埠鼎力專利商標事務所有限公司 34102
• 代理人: 張建宏

LPCVD和ALD兩用布氣裝置，包括加熱爐，加熱爐爐口處設置有用于連接布氣裝置的緊固法蘭，緊固法蘭沿軸向遠離加熱爐的一側設有兩個同軸連接的布氣法蘭，兩個布氣法蘭與緊固法蘭通過螺栓配合連接，設沿布氣法蘭的軸向靠近加熱爐的一側為內、遠離加熱爐的一側為外，所述位于外側的那個布氣法蘭的外側設有一個與布氣法蘭相匹配的爐口蓋板。采用本裝置可以使一個加熱爐兼容兩種鍍膜工藝，可以減少加熱爐的采購量，減少成本而且還可以節省占用空間。

技術領域

本實用新型涉及一種LPCVD和ALD兩用布氣裝置。

背景技術

LPCVD和ALD是化學氣相沉積鍍膜工藝中的兩種常用的鍍膜工藝，兩者都需要在真空爐管式反應器中進行，但是由于LPCVD和ALD的原料和工藝細節不同，所以其對應的布氣裝置不能共用。現有技術中，是對LPCVD和ALD分別設置反應爐和與之相匹配布氣裝置，兩種工藝分別準備一套反應爐設備成本較高，而且占地面積較大。

實用新型內容

本實用新型所要解決的技術問題是提供一種LPCVD和ALD兩用布氣裝置，其通過一套設備即可兼容LPCVD和ALD兩種鍍膜工藝。

為解決上述技術問題，本實用新型提供了LPCVD和ALD兩用布氣裝置，包括加熱爐，加熱爐爐口處設置有用于連接布氣裝置的緊固法蘭，緊固法蘭沿軸向遠離加熱爐的一側設有兩個同軸連接的布氣法蘭，兩個布氣法蘭與緊固法蘭通過螺栓配合連接，設沿布氣法蘭的軸向靠近加熱爐的一側為內、遠離加熱爐的一側為外，所述位于外側的那個布氣法蘭的外側設有一個與布氣法蘭相匹配的爐口蓋板。

為簡單說明問題起見，以下對本實用新型所述的LPCVD和ALD兩用布氣裝置均簡稱為本裝置。

本裝置的優點在于：采用本裝置可以使一個加熱爐兼容兩種鍍膜工藝，可以減少加熱爐的采購量，減少成本而且還可以節省占用空間。

兩個布氣法蘭分別對應LPCVD和ALD兩種鍍膜工藝，設LPCVD所用的布氣法蘭為布氣法蘭a，ALD所用的布氣法蘭為布氣法蘭b：

使用低壓化學氣相沉積模式時，開啟對應的布氣法蘭a的管道，同時將布氣法蘭b的管道關閉，使用石英舟作為載體，硅片方向和氣流方向垂直；使用原子層沉積模式時，開啟對應的布氣法蘭b的管道，同時將布氣法蘭a的管道關閉，使用金屬舟，硅片方向和氣流方向平行。

為達到本實用新型更好的使用效果，其優選方案如下：

作為優選的，所述的任意一個布氣法蘭形狀為圓形，所述的布氣法蘭的周向內側設有若干第一環形槽，所述的若干第一環形槽沿布氣法蘭軸向間隔布置，每個第一環形槽的開口側均設有與第一環形槽相匹配的擋圈，擋圈的周向內側與布氣法蘭周向內側相平齊，每個第一環形槽與對應的擋圈形成一個環形氣道，所述的每個擋圈周向均布有若干連通第一環形槽內外的通孔，所述的每個通孔上均設有與通孔相匹配的柱塞，所述的柱塞為實心柱塞或帶有穿孔的柱塞，布氣法蘭周向外側設有若干氣孔，氣孔在布氣法蘭外側沿布氣法蘭周向間隔布置，所述的氣孔與第一環形槽一一對應且相對應的氣孔與第一環形槽相連通。

這種布氣法蘭的結構布氣均勻且可以通過更換不同孔徑的柱塞或者實心柱塞來調節進氣的大小、流向，從而應對不同種類的鍍膜需求。

作為優選的，所述的布氣法蘭內設有一個沿布氣法蘭周向布置的環形水道，所述的環形水道內設有一個與環形水道相匹配的隔板，布氣法蘭周向外側位置上對應環形水道中隔板的兩側處分別設有一個連通環形水道的通道。

兩個與環形水道連通的通道一個為進水口、另一個為出水口，這樣可以在布氣法蘭內構成循環水路，對布氣法蘭起到降溫的作用，保護布氣法蘭不被加熱爐高溫損壞。

作為優選的，所述的布氣法蘭至少一個軸向側面上設有沿布氣法蘭周向布置的第二環形槽，所述的第二環形槽的開口處為收口結構。