[實用新型]LPCVD和ALD兩用布氣裝置有效
| 申請號: | 201921362811.0 | 申請日: | 2019-08-21 |
| 公開(公告)號: | CN211005612U | 公開(公告)日: | 2020-07-14 |
| 發明(設計)人: | 王楊陽;楊陸晗;王紅美;彭為報;孫嵩泉 | 申請(專利權)人: | 普樂新能源(蚌埠)有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/455 | 分類號: | C23C16/455 |
| 代理公司: | 蚌埠鼎力專利商標事務所有限公司 34102 | 代理人: | 張建宏 |
| 地址: | 233030 *** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | lpcvd ald 兩用 裝置 | ||
1.LPCVD和ALD兩用布氣裝置,其特征在于:包括加熱爐,加熱爐爐口處設置有用于連接布氣裝置的緊固法蘭,緊固法蘭沿軸向遠離加熱爐的一側設有兩個同軸連接的布氣法蘭,兩個布氣法蘭與緊固法蘭通過螺栓配合連接,設沿布氣法蘭的軸向靠近加熱爐的一側為內、遠離加熱爐的一側為外,所述位于外側的那個布氣法蘭的外側設有一個與布氣法蘭相匹配的爐口蓋板。
2.根據權利要求1所述的LPCVD和ALD兩用布氣裝置,其特征在于:所述的任意一個布氣法蘭形狀為圓形,所述的布氣法蘭的周向內側設有若干第一環形槽,所述的若干第一環形槽沿布氣法蘭軸向間隔布置,每個第一環形槽的開口側均設有與第一環形槽相匹配的擋圈,擋圈的周向內側與布氣法蘭周向內側相平齊,每個第一環形槽與對應的擋圈形成一個環形氣道,所述的每個擋圈周向均布有若干連通第一環形槽內外的通孔,所述的每個通孔上均設有與通孔相匹配的柱塞,所述的柱塞為實心柱塞或帶有穿孔的柱塞,布氣法蘭周向外側設有若干氣孔,氣孔在布氣法蘭外側沿布氣法蘭周向間隔布置,所述的氣孔與第一環形槽一一對應且相對應的氣孔與第一環形槽相連通。
3.根據權利要求2所述的LPCVD和ALD兩用布氣裝置,其特征在于:所述的布氣法蘭內設有一個沿布氣法蘭周向布置的環形水道,所述的環形水道內設有一個與環形水道相匹配的隔板,布氣法蘭周向外側位置上對應環形水道中隔板的兩側處分別設有一個連通環形水道的通道。
4.根據權利要求2所述的LPCVD和ALD兩用布氣裝置,其特征在于:所述的布氣法蘭至少一個軸向側面上設有沿布氣法蘭周向布置的第二環形槽,所述的第二環形槽的開口處為收口結構。
5.根據權利要求2所述的LPCVD和ALD兩用布氣裝置,其特征在于:所述的柱塞與通孔為螺紋配合。
6.根據權利要求2所述的LPCVD和ALD兩用布氣裝置,其特征在于:相鄰位置上的擋圈上的通孔位置上交錯布置。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





