[實用新型]一種旋轉(zhuǎn)靶綁定設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201921362121.5 | 申請日: | 2019-08-21 |
| 公開(公告)號: | CN210481506U | 公開(公告)日: | 2020-05-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳明恒 | 申請(專利權(quán))人: | 東莞市歐萊濺射靶材有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35;B22D19/04 |
| 代理公司: | 北京天盾知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11421 | 代理人: | 李少歡 |
| 地址: | 523000 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 旋轉(zhuǎn) 綁定 設(shè)備 | ||
1.一種旋轉(zhuǎn)靶綁定設(shè)備,其特征在于:包括基座(17),基座(17)安裝有振動裝置,
基座(17)的安裝有工裝夾具,工裝夾具用于固定旋轉(zhuǎn)靶(10)的尾蓋(14)和端頭(13),工裝夾具包括支架(48)、底座(30)、延長端(40)和固定護套,基座(17)的側(cè)方設(shè)置有支架(48),尾蓋(14)安裝于底座(30),延長端(40)的一端連接于端頭(13),固定護套的一側(cè)套裝于延長端(40),固定護套的另一側(cè)固定于支架(48),
基座(17)插設(shè)有內(nèi)加熱裝置(71),內(nèi)加熱裝置(71)位于旋轉(zhuǎn)靶(10)的內(nèi)側(cè),旋轉(zhuǎn)靶(10)的外側(cè)設(shè)置有外加熱裝置(72),外加熱裝置(72)設(shè)置有多個外加熱部,外加熱部的一端固定于支架(48),外加熱部的另一端與旋轉(zhuǎn)靶(10)的外側(cè)面間隙配合,
綁定設(shè)備包括水冷環(huán)裝置,水冷環(huán)裝置設(shè)置有水冷環(huán)和水循環(huán)裝置,水冷環(huán)活動套設(shè)于旋轉(zhuǎn)靶(10),水循環(huán)裝置包括升降機構(gòu)(51)、循環(huán)池(54)和連接水管(52),升降機構(gòu)(51)安裝于旋轉(zhuǎn)靶(10)的上方,水冷環(huán)滑動連接于升降機構(gòu)(51),循環(huán)池(54)位于基座(17)的下側(cè),連接水管(52)的一端連接循環(huán)池(54),連接水管(52)的另一端連接水冷環(huán)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種旋轉(zhuǎn)靶綁定設(shè)備,其特征在于:所述水冷環(huán)包括環(huán)體(60),環(huán)體(60)內(nèi)設(shè)置有中空的儲水腔(61),儲水腔(61)貫穿于整個環(huán)體(60)的內(nèi)側(cè),環(huán)體(60)的底面設(shè)置有多個噴水孔(62),噴水孔(62)連接于儲水腔(61),環(huán)體(60)的側(cè)面設(shè)置有進水部(63),進水部(63)為一中空管體,進水部(63)的一端連接于儲水腔(61),進水部(63)的另一端連接所述水循環(huán)裝置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種旋轉(zhuǎn)靶綁定設(shè)備,其特征在于:所述環(huán)體(60)的底面設(shè)置有一噴水面(64),噴水面(64)向環(huán)體(60)的頂面方向傾斜設(shè)定角度,所述噴水孔(62)設(shè)置于噴水面(64),
環(huán)體(60)的底面的外側(cè)設(shè)置有一間隔面(65),環(huán)體(60)的底面內(nèi)側(cè)設(shè)置有噴水面(64),
環(huán)體(60)的側(cè)面的相對兩側(cè)各設(shè)置有升降連接部,升降連接部包括有兩個固定片(68),固定片(68)的一端固定連接于環(huán)體(60)的側(cè)面,固定片(68)的另一端設(shè)置有一升降連接孔(69),
所述水循環(huán)裝置包括水泵(53),所述連接水管(52)的一端連接所述進水部(63)的端口,連接水管(52)的另一端連接水泵(53)的出水口,水泵(53)的進水口連接所述循環(huán)池(54),循環(huán)池(54)用于收集并盛裝冷卻所述旋轉(zhuǎn)靶(10)的液體,所述水冷環(huán)滑動于循環(huán)池(54)的上方。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種旋轉(zhuǎn)靶綁定設(shè)備,其特征在于:所述噴水面(64)傾斜的設(shè)定角度為30°-60°,噴水面(64)的最高位置與所述環(huán)體(60)的頂面之間設(shè)置有設(shè)定1-2cm的距離形成靶體保護面(66),所述間隔面(65)的寬度設(shè)置在0.5-1.3cm,
所述噴水孔(62)間隔相等地圓周分布于噴水面(64),噴水孔(62)的直徑設(shè)置在1-3mm,噴水孔(62)的數(shù)量設(shè)置在30-50個,
環(huán)體(60)的側(cè)面設(shè)置有一手握部(67),手握部(67)為圓柱形,手握部(67)的一端固定連接于環(huán)體(60)的側(cè)面,手握部(67)的位置與所述進水部(63)的位置相對,
所述升降機構(gòu)(51)包括所述支架(48),支架(48)的一端固定于地面,另一端安裝有滑輪(56),滑輪(56)安裝于所述旋轉(zhuǎn)靶(10)的上方,滑輪(56)上安裝有鏈條(57),鏈條(57)分別穿過所述升降連接孔(69),水冷環(huán)滑動安裝于滑輪(56)。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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