[實用新型]一種真空磁控濺射設備腔室密封面研磨裝置

有效

• 申請號: 201921352152.2
• 申請日: 2019-08-20
• 公開（公告）號: CN210550129U
• 公開（公告）日: 2020-05-19
• 發明（設計）人: 余華駿;張青濤;解孝輝;王發展
• 申請（專利權）人: 吳江南玻華東工程玻璃有限公司;中國南玻集團股份有限公司
• 主分類號: B24B15/00
• 分類號: B24B15/00;B24B41/02;B24B47/12;B24B47/22
• 代理公司: 蘇州創元專利商標事務所有限公司 32103
• 代理人: 吳芳

1.一種真空磁控濺射設備腔室密封面研磨裝置，其特征在于，包括主體框架(1)、驅動機構、設置在所述主體框架(1)下的至少一個研磨機構(2)以及傳動機構；

所述驅動機構包括第一驅動機構(5)，所述第一驅動機構(5)與傳動機構連接；

所述傳動機構包括設置在所述主體框架(1)下表面邊沿的帶輪(3)以及繞設在所述帶輪(3)上的皮帶(4)，所述第一驅動機構(5)驅動帶輪(3)轉動，在所述帶輪(3)的帶動下，所述皮帶(4)移動；

每一個研磨機構(2)包括上下相對設置的基板(21)和支撐板(22)以及設置在所述支撐板(22)下的研磨件(23)，所述研磨件(23)用于打磨腔室密封面，所述基板(21)與皮帶(4)連接，所述研磨機構(2)與主體框架(1)通過導軌軸承(6)連接；

所述主體框架(1)下設置有導軌(7)，所述導軌軸承(6)的一端與所述基板(21)連接，另一端與所述導軌(7)滑動配合，在所述傳動機構的傳動作用下，所述研磨機構(2)隨著皮帶(4)的移動而沿導軌(7)移動。

2.根據權利要求1所述的真空磁控濺射設備腔室密封面研磨裝置，其特征在于，所述導軌(7)上設置有導向槽，所述導軌軸承(6)的一端設置在導向槽內，所述導軌軸承(6)能夠沿著導向槽移動。

3.根據權利要求1所述的真空磁控濺射設備腔室密封面研磨裝置，其特征在于，所述導軌軸承(6)與基板(21)通過第一緊固件連接。

4.根據權利要求1所述的真空磁控濺射設備腔室密封面研磨裝置，其特征在于，所述皮帶(4)上開設有安裝孔，通過在安裝孔內安裝第二緊固件將所述基板(21)與皮帶(4)固定連接。

5.根據權利要求1所述的真空磁控濺射設備腔室密封面研磨裝置，其特征在于，所述驅動機構還包括第二驅動機構，第二驅動機構用于驅動研磨件(23)上下移動。

6.根據權利要求5所述的真空磁控濺射設備腔室密封面研磨裝置，其特征在于，所述第二驅動機構為氣缸(8)，所述氣缸(8)與研磨件(23)連接，且所述氣缸(8)設置在所述基板(21)和支撐板(22)之間。

7.根據權利要求1所述的真空磁控濺射設備腔室密封面研磨裝置，其特征在于，所述研磨件(23)為盤狀結構。

8.根據權利要求1所述的真空磁控濺射設備腔室密封面研磨裝置，其特征在于，所述基板(21)和支撐板(22)之間通過連接件連接，且所述連接件外套設有彈性件(9)。

9.根據權利要求1所述的真空磁控濺射設備腔室密封面研磨裝置，其特征在于，所述研磨件(23)朝向待打磨的腔室密封面方向的一端設置有可拆卸的砂布。

10.根據權利要求1所述的真空磁控濺射設備腔室密封面研磨裝置，其特征在于，每一個研磨機構(2)中所述導軌軸承(6)的數量設置為四個。