[實用新型]一種用于石英晶片生產的浸蝕裝置

有效

• 申請號: 201921278460.5
• 申請日: 2019-08-08
• 公開（公告）號: CN210438640U
• 公開（公告）日: 2020-05-01
• 發明（設計）人: 夏良軍
• 申請（專利權）人: 菲特晶（南京）電子有限公司
• 主分類號: C03C15/00
• 分類號: C03C15/00
• 代理公司: 南京常青藤知識產權代理有限公司 32286
• 代理人: 金迪

本實用新型提供一種用于石英晶片生產的浸蝕裝置，包括浸蝕槽和晶片盛放架，所述浸蝕槽內盛裝有浸蝕液，所述浸蝕槽的底部設有電機，所述浸蝕槽內設有攪拌軸，所述攪拌軸與所述電機相連，所述攪拌軸上設有螺旋攪拌葉；所述晶片盛放架包括若干圓形陣列分布的內桿和外桿，所述外桿的頂部設有掛鉤，所述掛鉤掛在所述浸蝕槽的側壁上，所述內桿和所述外桿之間固定連接有若干層環形的固定板，所述固定板頂部設有若干均勻分布的卡槽，所述固定板的底部設有與所述卡槽相通的通槽，所述通槽的截面積小于所述卡槽的截面積，所述卡槽內放置晶片。本實用新型的浸蝕槽內浸蝕液的濃度和溫度分布均勻，且晶片不易碰觸，浸蝕處理效果較好。

技術領域

本實用新型涉及晶片加工技術領域，具體涉及一種用于石英晶片生產的浸蝕裝置。

背景技術

在石英晶片的加工過程中，經過磨削、切片、拋光等機械加工工序后的石英晶片，其表面上會具有損傷層，即加工變質層，加工變質層在器件的制作過程中容易誘發滑移、位錯等晶體缺陷，使得晶片的機械強度降低，對加工產品的性能也會產生影響。為了除去加工變質層，需要對石英晶片進行浸蝕處理。在利用浸蝕液對石英晶片進行浸蝕處理的時候，浸蝕液的濃度和溫度對浸蝕的效果影響較大。現有技術中，常利用攪拌裝置對浸蝕液進行攪拌，以促進浸蝕液濃度和溫度分布的均勻性，但是很容易引起晶片的磕碰損傷。因此，急需一種能夠解決現有問題的用于石英晶片生產的浸蝕裝置。

實用新型內容

本實用新型的目的是針對現有技術的不足，提供一種用于石英晶片生產的浸蝕裝置，該裝置中浸蝕液的濃度和溫度分布均勻，且晶片不易碰觸，晶片的浸蝕處理效果較好。

本實用新型提供了如下技術方案：

一種用于石英晶片生產的浸蝕裝置，包括浸蝕槽和晶片盛放架，所述浸蝕槽內盛裝有浸蝕液，所述浸蝕槽的底部設有電機，所述浸蝕槽內設有攪拌軸，所述攪拌軸與所述電機相連，所述攪拌軸上設有螺旋攪拌葉；所述晶片盛放架包括若干圓形陣列分布的內桿和外桿，所述內桿圓形陣列的圓心與所述外桿圓形陣列的圓心相重合，所述外桿的頂部設有掛鉤，所述掛鉤掛在所述浸蝕槽的側壁上，所述內桿和所述外桿之間固定連接有若干層環形的固定板，所述固定板頂部設有若干均勻分布的卡槽，所述固定板的底部設有與所述卡槽相通的通槽，所述通槽的截面積小于所述卡槽的截面積，所述卡槽內放置晶片。

優選的，所述浸蝕槽的外壁設有夾套，所述夾套內通入加熱介質，所述夾套的下端設有夾套進口，所述夾套的上端設有夾套出口。

優選的，所述浸蝕槽底部設有固定槽，所述內桿插入所述固定槽。

優選的，所述浸蝕槽頂部的側壁上設有凹槽，將所述掛鉤卡在所述凹槽內時，所述掛鉤頂部的高度與所述浸蝕槽側壁的高度一致。

優選的，所述浸蝕槽頂部設有保護蓋，所述保護蓋包括蓋體，所述蓋體的頂部設有把手。

優選的，所述蓋體的底部設有環形的卡接板，所述卡接板的外側設有若干外桿槽，將所述卡接板卡入所述浸蝕槽內，所述外桿穿過所述外桿槽。

優選的，所述浸蝕槽的所述夾套的外壁設有支撐耳。

優選的，所述浸蝕槽的底部設有電機支架。

本實用新型的有益效果是：

本實用新型的浸蝕槽上設有夾套，用于對浸蝕槽內的浸蝕液進行加熱，并結合電機、攪拌軸和螺旋攪拌葉等的設置，用于對浸蝕槽內的浸蝕液進行攪拌，使得浸蝕液的濃度和溫度分布更加均勻，有助于提高晶片的浸蝕效果；本實用新型還設置有晶片盛放架，該晶片盛放架在浸蝕槽上的安裝和拆取都非常方便，多層固定板的設置有助于放置更多的晶片，而晶片放置在卡槽內，不易碰撞；本實用新型還設置了保護蓋，在該裝置的使用過程中，蓋上保護蓋，有助于防止浸蝕液的濺出。

附圖說明

附圖用來提供對本實用新型的進一步理解和說明。