[實用新型]一種用于石英晶片生產的浸蝕裝置

有效

• 申請號: 201921278460.5
• 申請日: 2019-08-08
• 公開（公告）號: CN210438640U
• 公開（公告）日: 2020-05-01
• 發明（設計）人: 夏良軍
• 申請（專利權）人: 菲特晶（南京）電子有限公司
• 主分類號: C03C15/00
• 分類號: C03C15/00
• 代理公司: 南京常青藤知識產權代理有限公司 32286
• 代理人: 金迪

1.一種用于石英晶片生產的浸蝕裝置，其特征在于，包括浸蝕槽和晶片盛放架，所述浸蝕槽內盛裝有浸蝕液，所述浸蝕槽的底部設有電機，所述浸蝕槽內設有攪拌軸，所述攪拌軸與所述電機相連，所述攪拌軸上設有螺旋攪拌葉；所述晶片盛放架包括若干圓形陣列分布的內桿和外桿，所述內桿圓形陣列的圓心與所述外桿圓形陣列的圓心相重合，所述外桿的頂部設有掛鉤，所述掛鉤掛在所述浸蝕槽的側壁上，所述內桿和所述外桿之間固定連接有若干層環形的固定板，所述固定板頂部設有若干均勻分布的卡槽，所述固定板的底部設有與所述卡槽相通的通槽，所述通槽的截面積小于所述卡槽的截面積，所述卡槽內放置晶片。

2.根據權利要求1所述的一種用于石英晶片生產的浸蝕裝置，其特征在于，所述浸蝕槽的外壁設有夾套，所述夾套內通入加熱介質，所述夾套的下端設有夾套進口，所述夾套的上端設有夾套出口。

3.根據權利要求1所述的一種用于石英晶片生產的浸蝕裝置，其特征在于，所述浸蝕槽底部設有固定槽，所述內桿插入所述固定槽。

4.根據權利要求1所述的一種用于石英晶片生產的浸蝕裝置，其特征在于，所述浸蝕槽頂部的側壁上設有凹槽，將所述掛鉤卡在所述凹槽內時，所述掛鉤頂部的高度與所述浸蝕槽側壁的高度一致。

5.根據權利要求1所述的一種用于石英晶片生產的浸蝕裝置，其特征在于，所述浸蝕槽頂部設有保護蓋，所述保護蓋包括蓋體，所述蓋體的頂部設有把手。

6.根據權利要求5所述的一種用于石英晶片生產的浸蝕裝置，其特征在于，所述蓋體的底部設有環形的卡接板，所述卡接板的外側設有若干外桿槽，將所述卡接板蓋卡入所述浸蝕槽內，所述外桿穿過所述外桿槽。

7.根據權利要求2所述的一種用于石英晶片生產的浸蝕裝置，其特征在于，所述浸蝕槽的所述夾套的外壁設有支撐耳。

8.根據權利要求1所述的一種用于石英晶片生產的浸蝕裝置，其特征在于，所述浸蝕槽的底部設有電機支架。