[實(shí)用新型]無(wú)色單銀低輻射鍍膜玻璃有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201921231569.3 | 申請(qǐng)日： | 2019-07-30 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN211005131U | 公開（公告）日： | 2020-07-14 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 董清世;周楓 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 信義節(jié)能玻璃（蕪湖）有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C03C17/36 | 分類號(hào)： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 深圳中一聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44414 | 代理人： | 張楊梅 |
| 地址： | 241000 安徽省蕪湖市*** | 國(guó)省代碼： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 無(wú)色 單銀低 輻射 鍍膜 玻璃 | ||
本實(shí)用新型涉及鍍膜玻璃技術(shù)領(lǐng)域，具體提供一種無(wú)色單銀低輻射鍍膜玻璃。該玻璃包括玻璃基板、層疊于玻璃基板表面的第一電介質(zhì)膜層、層疊于第一電介質(zhì)膜層表面的光學(xué)折射膜層、層疊于光學(xué)折射膜層表面的第二電介質(zhì)膜層、層疊于第二電介質(zhì)膜層表面的第一功能保護(hù)膜層、層疊于第一功能保護(hù)膜層表面的功能膜層、層疊于功能膜層表面的第二功能保護(hù)膜層以及層疊于第二功能保護(hù)膜層表面的第三電介質(zhì)膜層。本實(shí)用新型的鍍膜玻璃的反射率為Y(Rg)(10～12)、透過(guò)率Tr(46％～49％)、反射顏色a*(Rg)(1～?1)、b*(Rg)(1～?1)，室外顏色顯示無(wú)色，輻射率低于0.1，具有廣泛的市場(chǎng)應(yīng)用前景，可替代普通中空玻璃。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型屬于鍍膜玻璃技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種無(wú)色單銀低輻射鍍膜玻璃。
背景技術(shù)
鍍膜玻璃是一種在玻璃表面涂制一層或多層金屬、合金或金屬化合物薄膜，以改變玻璃的光學(xué)性能，滿足特定要求的玻璃。根據(jù)功能可以將鍍膜玻璃劃分為兩大類：陽(yáng)光控制鍍膜玻璃和低輻射鍍膜玻璃。
陽(yáng)光控制鍍膜玻璃是一種通過(guò)簡(jiǎn)單的太陽(yáng)光全波段無(wú)差別反射，來(lái)達(dá)到遮陽(yáng)效果的產(chǎn)品，其不具備低輻射效果；低輻射鍍膜玻璃是通過(guò)選擇性的反射太陽(yáng)光近紅外波段，來(lái)達(dá)到遮陽(yáng)效果的產(chǎn)品，其具備低輻射效果。
隨著鍍膜技術(shù)的發(fā)展，市場(chǎng)對(duì)產(chǎn)品的要求越來(lái)越高，在追求性能的同時(shí)，又要求有更好的私密性和豐富的外觀顏色可供選擇。
而目前市場(chǎng)上主流單銀產(chǎn)品的顏色以藍(lán)色、灰色、藍(lán)灰色為主，提供給設(shè)計(jì)師選擇的空間很小，因此現(xiàn)在大部分的建筑幕墻外觀顏色類似。
普通中空玻璃的顏色為無(wú)色，給人以最純正的玻璃顏色。想要實(shí)現(xiàn)普通中空玻璃的無(wú)色，還需要一定的遮蔽性，又需要很好的熱力學(xué)性能，使用普通單銀膜系通過(guò)調(diào)節(jié)各膜層厚度的比例沒(méi)有辦法實(shí)現(xiàn)，故對(duì)現(xiàn)有普通單銀膜系進(jìn)行改進(jìn)，提供一種無(wú)色單銀低輻射鍍膜玻璃。
發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)目前普通中空玻璃無(wú)法通過(guò)調(diào)整膜層厚度比例等來(lái)實(shí)現(xiàn)無(wú)色等問(wèn)題，本實(shí)用新型提供了一種無(wú)色單銀低輻射鍍膜玻璃。
為了實(shí)現(xiàn)上述實(shí)用新型目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下：
一種無(wú)色單銀低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板、層疊于所述玻璃基板表面的第一電介質(zhì)膜層、層疊于所述第一電介質(zhì)膜層表面的光學(xué)折射膜層、層疊于所述光學(xué)折射膜層表面的第二電介質(zhì)膜層、層疊于所述第二電介質(zhì)膜層表面的第一功能保護(hù)膜層、層疊于所述第一功能保護(hù)膜層表面的功能膜層、層疊于所述功能膜層表面的第二功能保護(hù)膜層以及層疊于所述第二功能保護(hù)膜層表面的第三電介質(zhì)膜層。
優(yōu)選地，所述功能膜層為銀膜層，厚度為5nm～15nm。
優(yōu)選地，所述第一電介質(zhì)膜層為TiOx膜層、SiOx膜層、SiAlOx膜層、SiAlNx膜層、SiNxOy膜層、SiAlNxOy膜層中的至少一層，厚度為15nm～40nm，x、y表示不完全氧化或氮化。
優(yōu)選地，所述學(xué)折射膜層為NiCrNx膜層、NiCrOx膜層、NbNx膜層、NbOx膜層中的至少一層，厚度為7nm～10nm，x表示不完全氧化或氮化。
優(yōu)選地，所述第二電介質(zhì)膜層為TiOx膜層、SiOx膜層、SiAlOx膜層、SiAlNx膜層、SiNxOy膜層、SiAlNxOy膜層、ZnOx膜層、ZnAlOx膜層、ZnSnOx膜層、SnOx膜層中的至少一層，厚度為5nm～8nm，x、y表示不完全氧化或氮化。
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