[實用新型]無色單銀低輻射鍍膜玻璃

有效

• 申請號: 201921231569.3
• 申請日: 2019-07-30
• 公開（公告）號: CN211005131U
• 公開（公告）日: 2020-07-14
• 發明（設計）人: 董清世;周楓
• 申請（專利權）人: 信義節能玻璃（蕪湖）有限公司
• 主分類號: C03C17/36
• 分類號: C03C17/36
• 代理公司: 深圳中一聯合知識產權代理有限公司 44414
• 代理人: 張楊梅

1.一種無色單銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述無色單銀低輻射鍍膜玻璃包括玻璃基板、層疊于所述玻璃基板表面的第一電介質膜層、層疊于所述第一電介質膜層表面的光學折射膜層、層疊于所述光學折射膜層表面的第二電介質膜層、層疊于所述第二電介質膜層表面的第一功能保護膜層、層疊于所述第一功能保護膜層表面的功能膜層、層疊于所述功能膜層表面的第二功能保護膜層以及層疊于所述第二功能保護膜層表面的第三電介質膜層；

所述功能膜層為銀膜層；

所述第一電介質膜層為SiO_x膜層、SiAlO_x膜層、SiAlN_x膜層、SiAlN_xO_y膜層中的至少一層，x，y表示不完全氧化或氮化；

所述光學折射膜層為NiCrN_x膜層、NiCrO_x膜層、NbN_x膜層、NbO_x膜層中的至少一層，x表示不完全氧化或氮化；

所述第二電介質膜層為SiOx膜層、SiAlOx膜層、SiAlNx膜層、SiAlN_xO_y膜層中的至少一層，x，y表示不完全氧化或氮化；

所述第一功能保護膜層為Cr膜層、CrOx膜層、NiCrNx膜層、Nb膜層、NbO_x膜層、NbN_x膜層、Ti膜層、TiN_x膜層、TiO_x膜層、ZnO_x膜層、ZnAlO_x膜層中的至少一層，x表示不完全氧化或氮化；所述第二功能保護膜層為Cr膜層、CrOx膜層、NiCrN_x膜層、Nb膜層、NbO_x膜層、NbN_x膜層、Ti膜層、TiN_x膜層、TiO_x膜層中的至少一層；

所述第三電介質膜層為SiAlO_x膜層、SiAlN_x膜層、SiAlN_xO_y膜層、ZnO_x膜層、ZnAlO_x膜層、ZnSnO_x膜層、SnO_x膜層中的至少一層，x，y表示不完全氧化或氮化。

2.如權利要求1所述的無色單銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述功能膜層厚度為5nm～15nm。

3.如權利要求1所述的無色單銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一電介質膜層厚度為15nm～40nm。

4.如權利要求1～3任一所述的無色單銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述學折射膜層厚度為7nm～10nm。

5.如權利要求1～3任一項所述的無色單銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第二電介質膜層厚度為5nm～8nm。

6.如權利要求1所述的無色單銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一功能保護膜層厚度為6nm～10nm，所述第二功能保護膜層厚度為10nm～20nm。

7.如權利要求1所述的無色單銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述功能膜層為AgCu20膜，所述AgCu20膜的厚度為5nm～15nm。

8.如權利要求1～3任一項所述的無色單銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第三電介質膜層厚度為30nm～50nm。

9.如權利要求1所述的無色單銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述玻璃基板為普通白玻。