[實用新型]蒸發真空鍍膜機用蒸發裝置

有效

• 申請號: 201921187138.1
• 申請日: 2019-07-26
• 公開（公告）號: CN210560698U
• 公開（公告）日: 2020-05-19
• 發明（設計）人: 傅志堅
• 申請（專利權）人: 青島華磊真空鍍膜有限公司
• 主分類號: C23C14/26
• 分類號: C23C14/26
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種蒸發真空鍍膜機用蒸發裝置，其特征在于：包括支撐板(1)、轉動連接在支撐板(1)上的轉軸(2)、固定連接在支撐板(1)底部的用于帶動轉軸(2)進行轉動的電機(21)、固定連接在轉軸(2)頂部外周上的若干圍繞轉軸(2)均勻分布的蒸發塊(3)、沿豎直方向貫穿蒸發塊(3)的蒸發孔(31)、固定連接在蒸發塊(3)底部并且用于將蒸發孔(31)底部封堵住的電阻板(6)、固定連接在電阻板(6)底部的正極凸塊、固定連接在電阻板(6)底部的負極凸塊、固定連接在支撐板(1)頂部的正極柱(11)、固定連接在支撐板(1)頂部的負極柱(12)、固定連接在支撐板(1)頂部的若干豎板(4)以及固定連接在豎板(4)頂部靠近轉軸(2)一側的水平設置的密封板(41)；

正極柱(11)和負極柱(12)之間的距離等于正極凸塊與負極凸塊凸塊之間的距離，并且正極柱(11)和負極柱(12)與轉軸(2)之間的距離等于正極凸塊和負極凸塊到轉軸(2)之間的距離，正極柱(11)和負極柱(12)的頂面與正極凸起(61)和負極凸起(62)的底面相互平齊，正極柱(11)和負極柱(12)能夠與任一電阻板(6)底部的正極凸起(61)和負極凸起(62)相互接觸；

豎板(4)的數量比蒸發塊(3)的數量少一，正極柱(11)和負極柱(12)與其中一蒸發塊(3)上的電阻板(6)底部的正極凸起(61)和負極凸起(62)相互接觸時，其余蒸發塊(3)頂面都與密封板(41)底面相互接觸，并且密封板(41)將對應的蒸發塊(3)上的蒸發孔(31)的頂部封堵住；

蒸發塊(3)為絕緣材質制成的絕緣蒸發塊(3)。

2.根據權利要求1所述的蒸發真空鍍膜機用蒸發裝置，其特征在于：所述蒸發孔(31)為圓錐孔，蒸發孔(31)底部的直徑小于蒸發孔(31)頂部的直徑。

3.根據權利要求1所述的蒸發真空鍍膜機用蒸發裝置，其特征在于：所述蒸發孔(31)的內壁上固定連接有三組兩兩一組的導向桿(5)，導向桿(5)沿蒸發孔(31)側壁的傾斜方向設置。

4.根據權利要求3所述的蒸發真空鍍膜機用蒸發裝置，其特征在于：同一組的兩導向桿(5)靠近蒸發孔(31)軸線的一側固定連接有若干限位板(51)，若干限位板(51)沿導向桿(5)的長度方向排布。