[實用新型]一種發光二極管有效
| 申請號: | 201921177905.0 | 申請日: | 2019-07-25 |
| 公開(公告)號: | CN210245537U | 公開(公告)日: | 2020-04-03 |
| 發明(設計)人: | 韓權威;汪學鵬;隗彪;陳亭玉;李燁;郭師宇;晉沙沙;戴志祥;孫旭;張家豪 | 申請(專利權)人: | 安徽三安光電有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/14 | 分類號: | H01L33/14;H01L33/02;H01L33/20 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 241000 安徽*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 發光二極管 | ||
1.一種發光二極管,包括襯底、層疊于襯底之上的N型半導體層、發光層和P型半導體層,以及分別與P型半導體層和N型半導體層電性連接的P電極和N電極,所述P電極和N電極位于襯底的同一側,所述P電極包括焊接區和指狀結構,其特征在于:所述襯底和發光層之間有與N電極連接的N擴展條。
2.根據權利要求1所述的一種發光二極管,其特征在于:所述N擴展條為金屬或金屬氧化物N擴展條。
3.根據權利要求1所述的一種發光二極管,其特征在于:所述N擴展條設置于襯底和N型層之間,刻蝕P型半導體層至襯底表面形成孔洞,N電極置于孔洞內,N擴展條與N電極連接。
4.根據權利要求1所述的一種發光二極管,其特征在于:所述N擴展條設置于N型層中間,刻蝕P型半導體層至N型層中間形成孔洞,N電極置于孔洞內,N擴展條與N電極連接。
5.根據權利要求1所述的一種發光二極管,其特征在于:所述N擴展條設置于N型層和發光層之間,刻蝕P型半導體層至N型層表面形成孔洞,N電極置于孔洞內,N擴展條與N電極連接。
6.根據權利要求1~5所述的任意一種發光二極管,其特征在于:所述指狀結構至少為1個以上,所述N擴展條至少為1個以上。
7.根據權利要求6所述的一種發光二極管,其特征在于:所述指狀結構至少為2個以上,所述N擴展條至少為2個以上,所述N擴展條對應于相鄰指狀結構之間。
8.根據權利要求7所述的一種發光二極管,其特征在于:所述N擴展條與相鄰指狀結構的距離相等。
9.根據權利要求1~5所述的任意一種發光二極管,其特征在于:所述P電極和P型半導體層之間還包括透明導電層。
10.根據權利要求1所述的一種發光二極管,其特征在于:所述襯底為平片襯底或者圖形化襯底。
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