[實用新型]投射型顯示裝置有效
| 申請號: | 201921177337.4 | 申請日: | 2019-07-24 |
| 公開(公告)號: | CN210488215U | 公開(公告)日: | 2020-05-08 |
| 發明(設計)人: | 井上和紀;山本力 | 申請(專利權)人: | 富士膠片株式會社 |
| 主分類號: | G03B21/14 | 分類號: | G03B21/14;G03B21/00;G03B17/54 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 高穎 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 投射 顯示裝置 | ||
1.一種投射型顯示裝置,其特征在于,具備:
攝像元件,對所接收的光進行拍攝;
光源;
光閥,對來自所述光源的光進行調制并射出;及
成像光學系統,將基于通過所述光閥調制的光的光學像投射于放大側成像面上,且將從放大側入射的光成像于所述攝像元件上,
所述成像光學系統具備:
至少具備1片透鏡且在投射及拍攝中共用的第1光學系統;
至少具備1片透鏡且僅在投射中使用的第2光學系統;
至少具備1片透鏡且僅在拍攝中使用的第3光學系統;及
將從所述第2光學系統朝向所述第1光學系統的光路與從所述第1光學系統朝向所述第3光學系統的光路分離的分離部件,
所述第3光學系統在所述第3光學系統的光圈位置的附近設置遮擋一部分光束的第1遮光部件。
2.根據權利要求1所述的投射型顯示裝置,其特征在于,
所述第1遮光部件遮擋包含光軸的區域。
3.根據權利要求1或2所述的投射型顯示裝置,其特征在于,
所述攝像元件配置于從所述光源射出并入射至所述光閥之間的光不直接入射的位置。
4.根據權利要求1或2所述的投射型顯示裝置,其特征在于,
當將所述第1遮光部件的遮光區域的面積設為S1,
將所述第3光學系統的光圈的開口面積設為S時,
滿足由
0.3<S1/S<0.9 (1)
表示的條件式(1)。
5.根據權利要求1或2所述的投射型顯示裝置,其特征在于,
所述第3光學系統的所述光圈位置的附近是指,當將包括使用于拍攝的所述第1光學系統及所述第3光學系統的光學系統的光圈直徑設為AD時,光軸上以所述第3光學系統的所述光圈位置為中心的±0.8AD的范圍。
6.根據權利要求1或2所述的投射型顯示裝置,其特征在于,
當將從所述第1光學系統的最靠放大側的面至所述分離部件的光軸上的距離設為L1,
將從所述第1光學系統的最靠放大側的面至所述第2光學系統的最靠縮小側的面的光軸上的距離設為L時,
滿足由
0<L1/L<0.7 (2)
表示的條件式(2)。
7.根據權利要求1或2所述的投射型顯示裝置,其特征在于,
在所述第2光學系統的光圈位置的附近設置遮擋一部分光束的第2遮光部件。
8.根據權利要求7所述的投射型顯示裝置,其特征在于,
所述第2遮光部件遮擋所述第2光學系統的光圈內的周邊區域。
9.根據權利要求1或2所述的投射型顯示裝置,其特征在于,
與所述第1遮光部件不同地,所述第3光學系統具備遮擋一部分光束的第3遮光部件。
10.根據權利要求1或2所述的投射型顯示裝置,其特征在于,
所述第2光學系統具備遮擋一部分光束的第4遮光部件。
11.根據權利要求1或2所述的投射型顯示裝置,其特征在于,
所述第1光學系統沿光路從放大側依次連續地具備多個負透鏡,在所述多個負透鏡之間設置遮擋一部分光束的第5遮光部件。
12.根據權利要求1或2所述的投射型顯示裝置,其特征在于,
所述成像光學系統所具備的遮光部件的遮光區域的遮光率具有與光瞳強度分布對應的分布。
13.根據權利要求1或2所述的投射型顯示裝置,其特征在于,
包括使用于投射的所述第1光學系統及所述第2光學系統的光學系統為形成中間像的中繼光學系統。
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