[實用新型]投射型顯示裝置

有效

• 申請號: 201921177337.4
• 申請日: 2019-07-24
• 公開（公告）號: CN210488215U
• 公開（公告）日: 2020-05-08
• 發明（設計）人: 井上和紀;山本力
• 申請（專利權）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: G03B21/14
• 分類號: G03B21/14;G03B21/00;G03B17/54
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 高穎

本實用新型提供一種在能夠進行投射及拍攝這兩者的投射型顯示裝置中，能夠抑制攝影質量的劣化的投射型顯示裝置。投射型顯示裝置具備攝像元件、光源、調整并射出來自光源的光的光閥及成像光學系統。成像光學系統具備在投射及拍攝中共用的第1光學系統、僅在投射中使用的第2光學系統、僅在拍攝中使用的第3光學系統及將從第2光學系統朝向第1光學系統的光路與從第1光學系統朝向第3光學系統的光路分離的分離部件。第3光學系統在第3光學系統的光圈位置的附近設置遮擋一部分光束的第1遮光部件。

技術領域

本公開涉及一種投射型顯示裝置。

背景技術

近年，提出有具備液晶顯示元件或DMD(Digital Micromirror Device/數字微鏡器件：注冊商標)顯示元件等光閥的同時具備CCD(Charge Coupled De vice/電荷耦合器件)或CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor/互補金屬氧化物半導體)等攝像元件，而且能夠進行投射及拍攝這兩者的投射型顯示裝置(例如，專利文獻1)。

專利文獻1：國際公開第2017/183249號

專利文獻1的投射型顯示裝置以如下方式構成，即，具備分離從光閥朝向屏幕的光路與從放大側(屏幕側)朝向攝像元件的光路的分離部件，并且在進行投射時及拍攝時，共用投射型顯示裝置所具備的成像光學系統的一部分。

在專利文獻1的投射型顯示裝置中，以在進行拍攝時來自成像光學系統的共用部分的光直接入射于攝像元件的方式構成，因此若欲具有較高的攝影質量，則不得不增加共用部分的透鏡片數。

然而，來自光閥的光入射于成像光學系統的共用部分，因此若共用部分的透鏡片數增加，則導致光的反射面數量增加，從而入射于攝像元件的雜散光增加而在攝影圖像中產生重影等導致攝影質量的劣化。

實用新型內容

本公開是鑒于上述情況而完成的，其目的在于提供一種在能夠進行投射及拍攝這兩者的投射型顯示裝置中，能夠抑制攝影質量劣化的投射型顯示裝置。

用于解決上述課題的具體方法中包含以下方式。

1一種投射型顯示裝置，其具備：攝像元件，對所接收的光進行拍攝；光源；光閥，對來自所述光源的光進行調制并射出；及成像光學系統，將基于通過光閥調制的光的光學像投射于放大側成像面上，且將從放大側入射的光成像于攝像元件上，成像光學系統具備：至少具備1片透鏡且在投射及拍攝中共用的第1光學系統；至少具備1片透鏡且僅在投射中使用的第2光學系統；至少具備1片透鏡且僅在拍攝中使用的第3光學系統；及將從第2光學系統朝向第1光學系統的光路與從第1光學系統朝向第3光學系統的光路分離的分離部件，第3光學系統在第3光學系統的光圈位置的附近設置遮擋一部分光束的第1遮光部件。

21的投射型顯示裝置中，第1遮光部件遮擋包含光軸的區域。

31或2的投射型顯示裝置中，攝像元件配置于從光源射出并入射至光閥之間的光不直接入射的位置。

41至3中的任一個投射型顯示裝置中，將第1遮光部件的遮光區域的面積設為S1，將第3光學系統的光圈的開口面積設為S時，滿足由

0.3＜S1/S＜0.9 (1)

表示的條件式(1)。

51至4中的任一個投射型顯示裝置中，第3光學系統的光圈位置的附近是指，當將包括使用于拍攝的第1光學系統及第3光學系統的光學系統的光圈直徑設為AD時，光軸上以第3光學系統的光圈位置為中心的±0.8AD的范圍。

61至5中的任一個投射型顯示裝置中，當將從第1光學系統的最靠放大側的面至分離部件的光軸上的距離設為L1，將從第1光學系統的最靠放大側的面至第2光學系統的最靠縮小側的面的光軸上的距離設為L時，滿足由