[實(shí)用新型]一種氣場(chǎng)均勻的高溫氣相沉積爐有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201921151878.X | 申請(qǐng)日: | 2019-07-22 |
| 公開(公告)號(hào): | CN210261975U | 公開(公告)日: | 2020-04-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王金鐸;啜艷明;郭賓;郭鳳祥;周倩;胡士偉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 保定順天新材料股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C16/44 | 分類號(hào): | C23C16/44 |
| 代理公司: | 北京志霖恒遠(yuǎn)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11435 | 代理人: | 郭棟梁 |
| 地址: | 074100 河*** | 國(guó)省代碼: | 河北;13 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 均勻 高溫 沉積 | ||
本實(shí)用新型公開了一種氣場(chǎng)均勻的高溫氣相沉積爐,包括爐蓋和爐體,所述爐蓋位于所述爐體的上方,所述爐蓋和所述爐體均為方體結(jié)構(gòu),所述爐蓋上方的中部設(shè)有與所述爐體連通的連接管,所述連接管通過排氣管道與真空泵連接;所述爐蓋下方設(shè)有位于所述爐體內(nèi)的緩沖架,所述緩沖架為空心圓臺(tái)結(jié)構(gòu),所述緩沖架上方的開口位于所述連接管的下方,所述緩沖架下方的內(nèi)徑小于所述爐體的內(nèi)徑,所述緩沖架的架體上均勻分布有通孔。本實(shí)用新型采用上述結(jié)構(gòu)的一種氣場(chǎng)均勻的高溫氣相沉積爐,避免爐內(nèi)氣體因?yàn)榱鲃?dòng)空間變徑而不均勻、形成氣體渦流,增加爐體氣場(chǎng)均勻性,提高沉積效率。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及高溫氣相沉積爐技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種氣場(chǎng)均勻的高溫氣相沉積爐。
背景技術(shù)
目前,國(guó)內(nèi)高溫氣相沉積爐工作溫度為800-1200℃,爐體結(jié)構(gòu)為內(nèi)室沉積、外室加熱。多數(shù)工業(yè)用氣相沉積爐尺寸增大至直徑4m、高度4m,沉積氣體自爐底進(jìn)入爐內(nèi)從爐頂排出,除氣體熱運(yùn)動(dòng)向上運(yùn)動(dòng)外,關(guān)鍵、主要?jiǎng)恿κ钦婵毡脛?dòng)力,因爐體直徑是排氣管道直徑的20-30倍,會(huì)導(dǎo)致氣體流動(dòng)動(dòng)力不同從而出現(xiàn)氣場(chǎng)不均勻甚至在爐內(nèi)近頂部位置出現(xiàn)渦流現(xiàn)象。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的是提供一種氣場(chǎng)均勻的高溫氣相沉積爐,避免爐內(nèi)氣體因?yàn)榱鲃?dòng)空間變徑而不均勻、形成氣體渦流,增加爐體氣場(chǎng)均勻性,提高沉積效率。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供了一種氣場(chǎng)均勻的高溫氣相沉積爐,包括爐蓋和爐體,所述爐蓋位于所述爐體的上方,所述爐蓋和所述爐體均為方體結(jié)構(gòu),所述爐蓋上方的中部設(shè)有與所述爐體連通的連接管,所述連接管通過排氣管道與真空泵連接;
所述爐蓋下方設(shè)有位于所述爐體內(nèi)的緩沖架,所述緩沖架為空心圓臺(tái)結(jié)構(gòu),所述緩沖架上方的開口位于所述連接管的下方,所述緩沖架下方的內(nèi)徑小于所述爐體的內(nèi)徑,所述緩沖架的架體上均勻分布有通孔。
優(yōu)選的,所述爐體與所述爐蓋之間設(shè)有密封圈,所述爐蓋的外層設(shè)有保溫層。
優(yōu)選的,所述爐蓋通過螺栓連接在所述爐體上,所述緩沖架的頂部通過螺栓連接在所述爐體上。
優(yōu)選的,所述爐體的高度和內(nèi)徑均為4m,所述緩沖架的高度為20cm,所述通孔為圓形,所述通孔之間間隔2cm,其直徑為5cm。
優(yōu)選的,所述緩沖架的材質(zhì)為碳碳板材。
因此,本實(shí)用新型采用上述結(jié)構(gòu)的一種氣場(chǎng)均勻的高溫氣相沉積爐,避免爐內(nèi)氣體因?yàn)榱鲃?dòng)空間變徑而不均勻、形成氣體渦流,增加爐體氣場(chǎng)均勻性,提高沉積效率。
下面通過附圖和實(shí)施例,對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案做進(jìn)一步的詳細(xì)描述。
附圖說明
圖1是本實(shí)用新型一種氣場(chǎng)均勻的高溫氣相沉積爐實(shí)施例的示意圖;
圖2是本實(shí)用新型一種氣場(chǎng)均勻的高溫氣相沉積爐中緩沖架的立體圖。
附圖標(biāo)記
1、爐蓋;2、爐體;3、連接管;4、排氣管道;5、真空泵;6、緩沖架;7、通孔。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的實(shí)施方式做進(jìn)一步的說明。
圖1是本實(shí)用新型一種氣場(chǎng)均勻的高溫氣相沉積爐實(shí)施例的示意圖,圖2是本實(shí)用新型一種氣場(chǎng)均勻的高溫氣相沉積爐中緩沖架的立體圖,如圖所示,一種氣場(chǎng)均勻的高溫氣相沉積爐,包括爐蓋1和爐體2,爐蓋1位于爐體2的上方,爐蓋1通過螺栓連接在爐體2上。爐體2與爐蓋1之間設(shè)有密封圈,密封圈可以加強(qiáng)爐體2與爐蓋1的密封性。爐蓋1的外層設(shè)有保溫層,保溫層可以減少溫度的散失。爐蓋1和爐體2均為方體結(jié)構(gòu),爐體2的高度和內(nèi)徑均為4m。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的





