[實用新型]一種氣場均勻的高溫氣相沉積爐有效
| 申請號： | 201921151878.X | 申請日： | 2019-07-22 |
| 公開（公告）號： | CN210261975U | 公開（公告）日： | 2020-04-07 |
| 發明（設計）人： | 王金鐸;啜艷明;郭賓;郭鳳祥;周倩;胡士偉 | 申請（專利權）人： | 保定順天新材料股份有限公司 |
| 主分類號： | C23C16/44 | 分類號： | C23C16/44 |
| 代理公司： | 北京志霖恒遠知識產權代理事務所(普通合伙) 11435 | 代理人： | 郭棟梁 |
| 地址： | 074100 河*** | 國省代碼： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 均勻 高溫 沉積 | ||
【權利要求書】：
1.一種氣場均勻的高溫氣相沉積爐，包括爐蓋和爐體，所述爐蓋位于所述爐體的上方，其特征在于：所述爐蓋和所述爐體均為方體結構，所述爐蓋上方的中部設有與所述爐體連通的連接管，所述連接管通過排氣管道與真空泵連接；
所述爐蓋下方設有位于所述爐體內的緩沖架，所述緩沖架為空心圓臺結構，所述緩沖架上方的開口位于所述連接管的下方，所述緩沖架下方的內徑小于所述爐體的內徑，所述緩沖架的架體上均勻分布有通孔。
2.根據權利要求1所述的一種氣場均勻的高溫氣相沉積爐，其特征在于：所述爐體與所述爐蓋之間設有密封圈，所述爐蓋的外層設有保溫層。
3.根據權利要求1所述的一種氣場均勻的高溫氣相沉積爐，其特征在于：所述爐蓋通過螺栓連接在所述爐體上，所述緩沖架的頂部通過螺栓連接在所述爐體上。
4.根據權利要求1所述的一種氣場均勻的高溫氣相沉積爐，其特征在于：所述爐體的高度和內徑均為4m，所述緩沖架的高度為20cm，所述通孔為圓形，所述通孔之間間隔2cm，其直徑為5cm。
5.根據權利要求1所述的一種氣場均勻的高溫氣相沉積爐，其特征在于：所述緩沖架的材質為碳碳板材。
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C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
