[實用新型]一種可控硅中頻淬火設備

有效

• 申請號: 201921119298.2
• 申請日: 2019-07-17
• 公開（公告）號: CN210176910U
• 公開（公告）日: 2020-03-24
• 發明（設計）人: 唐書超
• 申請（專利權）人: 襄陽利能電力電子有限公司
• 主分類號: C21D1/63
• 分類號: C21D1/63;C21D11/00
• 代理公司: 貴陽索易時代知識產權代理事務所(普通合伙) 52117
• 代理人: 呂景新

本實用新型公開了一種可控硅中頻淬火設備，包括冷卻槽和淬火爐，所述冷卻槽和所述淬火爐下表面設置有支架，所述支架下表面設置有底板，所述冷卻槽上設置有調節機構，所述調節機構包括冷卻箱，所述冷卻箱與所述底板之間設置有兩組支撐環；通過設計的調節機構，便于能不斷自動調整冷卻槽內冷卻液的水溫，使水溫能一直處于恒溫，設計合理，結構簡單，效果顯著，提高了淬火產品的質量；通過設計的干燥機構，便于能快速吸收溫度控制箱內的濕氣，讓內部一直處于干燥狀態，避免了濕氣會導致溫度控制箱內部的電器元件出現損壞的情況，方便更換除濕劑，操作便捷，省時省力，延伸長了該設備的使用壽命。

技術領域

本實用新型屬于淬火設備技術領域，具體涉及一種可控硅中頻淬火設備。

背景技術

淬火是把淬火產品加熱到臨界溫度以上，保溫一定時間，然后以大于臨界冷卻速度進行冷卻，從而獲得以馬氏體為主的不平衡組織(也有根據需要獲得貝氏體或保持單相奧氏體)的一種熱處理工藝方法。具體地，對高溫淬火產品進行冷卻時，需要將其浸入到淬火介質中，以使得高溫淬火產品快速冷卻；

現有的淬火設備的冷卻速度對于淬火質量至關重要，冷卻速度主要取決于冷卻液的溫度，溫度較低時，冷卻速度較快，反之，較慢，所以，有必要合理控制冷卻液的溫度，冷卻液在淬火時溫度會升高，尤其對大件淬火時，溫度上升明顯，而溫度升高到一定程度時會影響產品的淬火質量及其穩定性，而且溫度控制箱在長時間使用中，難免內部會出現從空氣中吸收的濕氣，濕氣不及時處理，會導致溫度控制箱內部的電器元件出現損壞，降低該設備的使用壽命的問題，為此我們提出一種可控硅中頻淬火設備。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種可控硅中頻淬火設備，以解決上述背景技術中提出的現有的淬火設備的冷卻速度對于淬火質量至關重要，冷卻速度主要取決于冷卻液的溫度，溫度較低時，冷卻速度較快，反之，較慢，所以，有必要合理控制冷卻液的溫度，冷卻液在淬火時溫度會升高，尤其對大件淬火時，溫度上升明顯，而溫度升高到一定程度時會影響產品的淬火質量及其穩定性，而且溫度控制箱在長時間使用中，難免內部會出現從空氣中吸收的濕氣，濕氣不及時處理，會導致溫度控制箱內部的電器元件出現損壞，降低該設備的使用壽命的問題。

為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案：一種可控硅中頻淬火設備，包括冷卻槽和淬火爐，所述冷卻槽和所述淬火爐下表面設置有支架，所述支架下表面設置有底板，所述冷卻槽上設置有調節機構，所述調節機構包括冷卻箱，所述冷卻箱與所述底板之間設置有兩組支撐環，兩組所述支撐環上表面設置有螺栓，所述冷卻箱一側設置有水泵，所述水泵與所述冷卻箱之間設置有連接管，所述冷卻箱與所述冷卻槽之間設置有回流管，所述連接管和所述回流管的中部分別設置有閥門，所述水泵與所述冷卻槽之間設置有輸入管，所述冷卻槽一側設置有電機，所述電機的輸出軸上設置有轉動桿，且所述轉動桿的端部貫穿所述冷卻槽并延伸至所述冷卻槽內部，所述轉動桿外壁設置有多組攪拌扇葉，所述冷卻槽內壁分別設置有供所述攪拌扇葉防護的防護網和溫度計，所述電機外部設置有固定環。

優選的，所述淬火爐頂部設置有溫度控制箱，所述溫度控制箱上設置有干燥機構，所述干燥機構包括固定盒，所述固定盒內部分別設置有固定盒和除濕劑，所述固定盒外壁分別開設有多組凹槽，所述溫度控制箱一側設置有門板，所述門板一端為固定端，所述門板的固定端與所述溫度控制箱之間設置有鉸鏈，所述門板另一端為自由端，所述門板的自由端與所述溫度控制箱之間設置有第一安裝塊和第二安裝塊，所述第一安裝塊內部開設有第一安裝腔，所述第一安裝腔內部分別設置有兩組滑柱和限位塊，兩組所述滑柱外壁套設有復位彈簧，所述限位塊內部開設有兩組通孔，且所述限位塊可在所述兩組滑柱上左右往復運動，所述限位塊一側設置有嵌入桿，所述第二安裝塊內部開設有供所述嵌入桿端部嵌入的第二安裝腔，所述限位塊表面設置有把手。

優選的，所述溫度控制箱正面分別嵌入安裝有電壓表、顯示屏、工作燈和電源開關。

優選的，所述淬火爐正面嵌入安裝有爐門，所述爐門一側設置有兩組合頁，所述爐門正面設置有扶手。