[實用新型]一種可控硅中頻淬火設備

有效

• 申請號: 201921119298.2
• 申請日: 2019-07-17
• 公開（公告）號: CN210176910U
• 公開（公告）日: 2020-03-24
• 發明（設計）人: 唐書超
• 申請（專利權）人: 襄陽利能電力電子有限公司
• 主分類號: C21D1/63
• 分類號: C21D1/63;C21D11/00
• 代理公司: 貴陽索易時代知識產權代理事務所(普通合伙) 52117
• 代理人: 呂景新

1.一種可控硅中頻淬火設備，包括冷卻槽(6)和淬火爐(3)，其特征在于：所述冷卻槽(6)和所述淬火爐(3)下表面設置有支架(2)，所述支架(2)下表面設置有底板(1)，所述冷卻槽(6)上設置有調節機構，所述調節機構包括冷卻箱(8)，所述冷卻箱(8)與所述底板(1)之間設置有兩組支撐環(13)，兩組所述支撐環(13)上表面設置有螺栓，所述冷卻箱(8)一側設置有水泵(10)，所述水泵(10)與所述冷卻箱(8)之間設置有連接管(11)，所述冷卻箱(8)與所述冷卻槽(6)之間設置有回流管(7)，所述連接管(11)和所述回流管(7)的中部分別設置有閥門(12)，所述水泵(10)與所述冷卻槽(6)之間設置有輸入管(9)，所述冷卻槽(6)一側設置有電機(16)，所述電機(16)的輸出軸上設置有轉動桿(15)，且所述轉動桿(15)的端部貫穿所述冷卻槽(6)并延伸至所述冷卻槽(6)內部，所述轉動桿(15)外壁設置有多組攪拌扇葉，所述冷卻槽(6)內壁分別設置有供所述攪拌扇葉防護的防護網(14)和溫度計，所述電機(16)外部設置有固定環(17)。

2.根據權利要求1所述的一種可控硅中頻淬火設備，其特征在于：所述淬火爐(3)頂部設置有溫度控制箱(5)，所述溫度控制箱(5)上設置有干燥機構，所述干燥機構包括固定盒(20)，所述固定盒(20)內部分別設置有固定盒(20)和除濕劑(21)，所述固定盒(20)外壁分別開設有多組凹槽，所述溫度控制箱(5)一側設置有門板(19)，所述門板(19)一端為固定端，所述門板(19)的固定端與所述溫度控制箱(5)之間設置有鉸鏈，所述門板(19)另一端為自由端，所述門板(19)的自由端與所述溫度控制箱(5)之間設置有第一安裝塊(25)和第二安裝塊(23)，所述第一安裝塊(25)內部開設有第一安裝腔，所述第一安裝腔內部分別設置有兩組滑柱(26)和限位塊(22)，兩組所述滑柱(26)外壁套設有復位彈簧，所述限位塊(22)內部開設有兩組通孔，且所述限位塊(22)可在所述兩組滑柱(26)上左右往復運動，所述限位塊(22)一側設置有嵌入桿(24)，所述第二安裝塊(23)內部開設有供所述嵌入桿(24)端部嵌入的第二安裝腔，所述限位塊(22)表面設置有把手。

3.根據權利要求2所述的一種可控硅中頻淬火設備，其特征在于：所述溫度控制箱(5)正面分別嵌入安裝有電壓表(18)、顯示屏、工作燈和電源開關。

4.根據權利要求1所述的一種可控硅中頻淬火設備，其特征在于：所述淬火爐(3)正面嵌入安裝有爐門(4)，所述爐門(4)一側設置有兩組合頁，所述爐門(4)正面設置有扶手。

5.根據權利要求1所述的一種可控硅中頻淬火設備，其特征在于：所述底板(1)底部四角均固定有支撐座。