[實用新型]水平斜置方式逐片連續生產的化學沉積設備有效
| 申請號: | 201921111132.6 | 申請日: | 2019-07-16 |
| 公開(公告)號: | CN210237774U | 公開(公告)日: | 2020-04-03 |
| 發明(設計)人: | 黃信航 | 申請(專利權)人: | 黃信航 |
| 主分類號: | C23C18/16 | 分類號: | C23C18/16;H05K3/18 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243 | 代理人: | 許靜;安利霞 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 水平 方式 連續生產 化學 沉積 設備 | ||
1.一種水平斜置方式逐片連續生產的化學沉積設備,其特征在于,包括:
一沉積反應槽,兩個相對位置的長槽壁內分別安裝多個噴流模塊,所述噴流模塊能持續噴出反應液;
一移動機構,安裝于所述沉積反應槽外壁,包括馬達、傳動組件及兩組鏈條組,兩組所述鏈條組分別設置于所述長槽壁外側,所述鏈條組設有多個承接件,所述馬達經由所述傳動組件帶動兩個所述鏈條組同步移動;
多個載具,包括橫桿及兩承架,所述兩承架呈對稱狀固定于所述橫桿,所述兩承架在另一側具有開口,所述開口供電路板放入,所述載具以斜置形態由所述橫桿兩端架設于位置相對應的兩個所述承接件內,所述斜置形態指所述載具位置與前進方向具有斜置角度,所述斜置角度為74~81度。
2.如權利要求1所述的水平斜置方式逐片連續生產的化學沉積設備,其特征在于,多個所述噴流模塊呈交錯分布方式設置于兩個所述長槽壁。
3.如權利要求1所述的水平斜置方式逐片連續生產的化學沉積設備,其特征在于,多個所述噴流模塊的噴流方向垂直于所述載具的移動方向。
4.如權利要求1所述的水平斜置方式逐片連續生產的化學沉積設備,其特征在于,所述載具還包括多個連接桿及保持桿,所述連接桿橫向結合于兩所述承架之間,所述保持桿結合于所述兩承架的最底部位置,所述保持桿兩端各設有保持片,兩個所述保持片之間的距離,為所述電路板最大尺寸的寬度。
5.如權利要求1所述的水平斜置方式逐片連續生產的化學沉積設備,其特征在于,所述沉積反應槽安裝反應液供給循環裝置,所述反應液供給循環裝置經管路與所述噴流模塊相連接且控制運作時機。
6.如權利要求1所述的水平斜置方式逐片連續生產的化學沉積設備,其特征在于,還包括一轉向放置機構,所述轉向放置機構包括吊臂單元、轉向懸臂單元及升降單元,所述升降單元架設于所述沉積反應槽,所述升降單元帶動所述轉向懸臂單元升降,所述轉向懸臂單元具有懸臂,所述懸臂一端具有轉向機構且安裝著所述吊臂單元,所述吊臂單元兩端各設有吊鉤,所述轉向懸臂單元能帶動所述吊臂單元旋轉,以切換所述吊鉤的位置。
7.如權利要求6所述的水平斜置方式逐片連續生產的化學沉積設備,其特征在于,還包括一上板機構,所述上板機構位置于暫存機一側,所述上板機構位于所述轉向放置機構的所述吊臂單元下降路徑中,所述上板機構將所述載具調整為所述斜置形態,再供所述吊臂單元吊起所述載具。
8.如權利要求7所述的水平斜置方式逐片連續生產的化學沉積設備,其特征在于,所述上板機構包括第一位置調整件、第二位置調整件、第一推動組及第二推動組,所述第一位置調整件具有第一初始凹槽及第一定位凹槽,所述第二位置調整件具有第二初始凹槽及第二定位凹槽,所述第一初始凹槽至所述第一定位凹槽的距離不等于所述第二初始凹槽至所述第二定位凹槽的距離;所述第一推動組安裝于所述第一位置調整件,能帶動第一推桿由所述第一初始凹槽移動至所述第一定位凹槽,所述第二推動組安裝于所述第二位置調整件,能帶動第二推桿由所述第二初始凹槽移動至所述第二定位凹槽。
9.如權利要求1所述的水平斜置方式逐片連續生產的化學沉積設備,其特征在于,所述承接件具有朝上斜置的凹槽,所述凹槽用以承接所述載具。
10.如權利要求9所述的水平斜置方式逐片連續生產的化學沉積設備,其特征在于,所述凹槽的槽形呈由上而下漸漸縮小的喇叭型。
11.如權利要求9所述的水平斜置方式逐片連續生產的化學沉積設備,其特征在于,所述凹槽中具有尺寸最小的頸部槽,所述凹槽以所述頸部槽為分界點尺寸分別向槽深處或槽入口漸漸增加。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C18-00 通過液態化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應產物的化學鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法,例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法,例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍,即無電流化學鍍
C23C18-18 ..待鍍材料的預處理





