[實用新型]一種半導體設備同軸陽極環部件洗凈溶射保護治具

有效

• 申請號: 201921068030.0
• 申請日: 2019-07-10
• 公開（公告）號: CN210450213U
• 公開（公告）日: 2020-05-05
• 發明（設計）人: 王永東
• 申請（專利權）人: 安徽富樂德科技發展有限公司
• 主分類號: B08B13/00
• 分類號: B08B13/00
• 代理公司: 銅陵市天成專利事務所(普通合伙) 34105
• 代理人: 李坤

一種半導體設備同軸陽極環部件洗凈溶射保護治具，包括內保護，所述內保護的內部開設有第一通孔，所述內保護靠近第一通孔的一側固定連接有插入保護，所述插入保護的內部開設有第二通孔。該半導體設備同軸陽極環部件洗凈溶射保護治具，使用時將待洗凈熔射的部件平放，將本治具放于待洗凈熔射的部件上，露出需要洗凈熔射的區域，熔射后將本治具取下，洗凈溶射遮蔽保護治具可以重復利用，達到可重復使用和節省人力及物料成本的目的，通過高精度加工制作，能夠提供相對于人工膠帶保護更高的溶射范圍精度，可以代替人工用耐熱膠帶遮蔽部件的非溶射區域，達到定位準確和高精度的目的。

技術領域

本實用新型涉及一種洗凈溶射遮蔽治具，具體為一種半導體設備同軸陽極環部件洗凈溶射保護治具。

背景技術

目前在對半導體設備部件進行洗凈再生過程中，溶射工序中，需要對部件的非溶射區域進行遮蔽保護，通常是采用手工耐高溫膠帶進行保護，用溶射膠帶保護時，依據工藝要求，將膠帶根據部件所需要遮蔽的范圍進行粘貼，剪切，此做法存在以下三點缺陷：1、溶射后的膠帶無法重復利用，增加生產成本。2、用手工膠帶剪切保護，受人工作業限制，遮蔽部位范圍精度不足，尤其保護邊緣位置參次不齊，會造成溶射不良。3、耐高溫膠帶在使用后會內少量殘膠留在表面，再次造成不良，因此需要改進。

實用新型內容

(一)解決的技術問題

針對現有技術的不足，本實用新型提供了一種半導體設備同軸陽極環部件洗凈溶射保護治具，通過設置內保護和插入保護，解決了上述背景技術中提出的問題。

(二)技術方案

為實現以上目的，本實用新型通過以下技術方案予以實現：一種半導體設備同軸陽極環部件洗凈溶射保護治具，包括內保護，所述內保護的內部開設有第一通孔，所述內保護靠近第一通孔的一側固定連接有插入保護，所述插入保護的內部開設有第二通孔，所述內保護的形狀為圓環，所述插入保護的形狀為圓環，所述內保護的外徑大于插入保護的外徑，所述內保護的內徑與插入保護的內徑相同，所述內保護的厚度小于插入保護的厚度。

可選的，所述內保護和插入保護的材料均為優質不銹鋼。

可選的，所述內保護的平面度誤差為0.1mm。

可選的，所述插入保護外徑的長度為342mm。

可選的，所述插入保護外徑的誤差值在0mm-0.05mm之間。

(三)有益效果

本實用新型提供了一種半導體設備同軸陽極環部件洗凈溶射保護治具，具備以下有益效果：

1、通過設置兩個保護，內保護靠近第一通孔的一側固定連接有插入保護，內保護和插入保護的材料均為優質不銹鋼，治具的材質選用優質不銹鋼能夠達到比耐高溫膠帶更高的耐熱性，使用時將待洗凈熔射的部件平放，將本治具放于待洗凈熔射的部件上，露出需要洗凈熔射的區域，熔射后將本治具取下，洗凈溶射遮蔽保護治具可以重復利用，只需經過適當的清洗就可以使表面光亮如新，表面不會留下殘膠，污垢等副產物，達到可重復使用和節省人力及物料成本的目的。

2、通過設置內保護，內保護的外徑大于插入保護的外徑，內保護的內徑與插入保護的內徑相同，內保護的平面度誤差為0.1mm，通過高精度加工制作，能夠提供相對于人工膠帶保護更高的溶射范圍精度，可以代替人工用耐熱膠帶遮蔽部件的非溶射區域，達到定位準確和高精度的目的。

附圖說明

圖1為本實用新型的立體結構示意圖；

圖2為本實用新型的俯視結構示意圖；

圖3為本實用新型圖2中A-A處的截面示意圖。

圖中：1-內保護、2-第一通孔、3-插入保護、4-第二通孔。

具體實施方式