[實用新型]一種半導體設備同軸陽極環部件洗凈溶射保護治具

有效

• 申請號: 201921068030.0
• 申請日: 2019-07-10
• 公開（公告）號: CN210450213U
• 公開（公告）日: 2020-05-05
• 發明（設計）人: 王永東
• 申請（專利權）人: 安徽富樂德科技發展有限公司
• 主分類號: B08B13/00
• 分類號: B08B13/00
• 代理公司: 銅陵市天成專利事務所(普通合伙) 34105
• 代理人: 李坤

1.一種半導體設備同軸陽極環部件洗凈溶射保護治具，其特征在于：包括內保護(1)，所述內保護(1)的內部開設有第一通孔(2)，所述內保護(1)靠近第一通孔(2)的一側固定連接有插入保護(3)，所述插入保護(3)的內部開設有第二通孔(4)，所述內保護(1)的形狀為圓環，所述插入保護(3)的形狀為圓環，所述內保護(1)的外徑大于插入保護(3)的外徑，所述內保護(1)的內徑與插入保護(3)的內徑相同，所述內保護(1)的厚度小于插入保護(3)的厚度。

2.根據權利要求1所述的一種半導體設備同軸陽極環部件洗凈溶射保護治具，其特征在于：所述內保護(1)和插入保護(3)的材料均為優質不銹鋼。

3.根據權利要求1所述的一種半導體設備同軸陽極環部件洗凈溶射保護治具，其特征在于：所述內保護(1)的平面度誤差為0.1mm。

4.根據權利要求1所述的一種半導體設備同軸陽極環部件洗凈溶射保護治具，其特征在于：所述插入保護(3)外徑的長度為342mm。

5.根據權利要求1所述的一種半導體設備同軸陽極環部件洗凈溶射保護治具，其特征在于：所述插入保護(3)外徑的誤差值在0mm-0.05mm之間。