[實用新型]石墨舟及使用該石墨舟的PECVD設備有效
| 申請號: | 201921036589.5 | 申請日: | 2019-07-04 |
| 公開(公告)號: | CN210394518U | 公開(公告)日: | 2020-04-24 |
| 發明(設計)人: | 鄧金生;王凱;趙峰;李操政 | 申請(專利權)人: | 深圳市捷佳偉創新能源裝備股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/505 | 分類號: | C23C16/505;C23C16/458 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 石墨 使用 pecvd 設備 | ||
本實用新型公開了一種石墨舟及使用該石墨舟的PECVD設備,包括多片縱向間隔排列的石墨舟片,所述石墨舟沿縱向分成多個子單元,相鄰兩個子單元的相鄰兩片石墨舟片之間填充絕緣材料,且每個子單元都設有獨立電極形成單獨的輝光區。本實用新型通過將石墨舟分為多個設有獨立電極的子單元,形成多個單獨的輝光區,使射頻控制分開,實現獨立控制輝光,因射頻獨立控制的區域變小,該區域所需的射頻功率減小,在石墨舟的總功率翻倍的情況下,射頻放電的波峰不變,便于控制,有效防止硅片與石墨舟卡點打火燒焦而造成的硅片報廢。
技術領域
本實用新型涉及太陽能工藝設備領域,特別是涉及一種石墨舟及使用該石墨舟的PECVD設備。
背景技術
隨著新能源行業的發展,太陽能作為人類取之不盡用之不竭的可再生能源,其特有的充分清潔性,絕對安全性,相對的廣泛性,在長期的能源戰略中具有重要的影響地位。PECVD設備作為太陽能電池片鍍減反射膜的主要設備。其工作原理是利用等離子增強化學氣相沉積法給硅片鍍上一層減反射膜。石墨舟作為PECVD設備工藝的載體,石墨舟的大小和承載硅片的數量決定了設備完成一次鍍膜的工藝能得到的鍍膜后硅片的數量,此數量決定了設備的產能。
目前石墨舟承載硅片在進行工藝時,主要通過射頻給石墨舟片在高頻電流,再使反應室氣體發生輝光放電,在輝光放電區域產生大量的電子,達到工藝反應條件。但目前光伏行業所用到的石墨舟舟片長度都沒超過2米,舟片數量都沒超過30片,單舟產能都有局限,主要存在的問題在于:石墨舟片數量超過30片后,在同等長度的情況下,舟片數量越多,石墨舟工藝放電需要的功率越高,射頻電源波峰越高,越難控制,會造成硅片與石墨舟卡點打火燒焦,造成硅片報廢。
實用新型內容
本實用新型為了解決上述現有技術中石墨舟片數量過多后射頻控制功率過大輝光不穩的技術問題,提出一種石墨舟及使用該石墨舟的PECVD設備。
本實用新型采用的技術方案是:
本實用新型提出了一種石墨舟,包括多片縱向間隔排列的石墨舟片,所述石墨舟沿縱向分成多個子單元,相鄰兩個子單元的相鄰兩片石墨舟片之間填充絕緣材料,且每個子單元都設有獨立電極形成單獨的輝光區。
優選地,所述石墨舟片延長度方向為一個整體。
優選地,所述石墨舟片延長度方向分為間隔的多段,且間隔處填充導電材料。
優選地,所述石墨舟片延長度方向分為間隔的多段,且間隔處填充絕緣材料。
本實用新型還提出了一種PECVD設備,使用上述石墨舟。
與現有技術比較,本實用新型通過將石墨舟分為多個設有獨立電極的子單元,形成多個單獨的輝光區,使射頻控制分開,實現獨立控制輝光,因射頻獨立控制的區域變小,該區域所需的射頻功率減小,在石墨舟的總功率翻倍的情況下,射頻放電的波峰不變,便于控制,有效防止硅片與石墨舟卡點打火燒焦而造成的硅片報廢;同時通過對石墨舟片沿長度方向進行多段拼接,可保證直線度,也可保證單個石墨舟片的導電性。
附圖說明
為了更清楚地說明本實用新型實施例中的技術方案,下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例,對于本領域普通技術人員來講,在不付出創造性勞動性的前提下,還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
圖1為本實用新型的石墨舟的俯視圖;
圖2為本實用新型的石墨舟片的結構示意圖。
具體實施方式
為了使本實用新型所要解決的技術問題、技術方案及有益效果更加清楚明白,以下結合附圖及實施例,對本實用新型進行進一步詳細說明。應當理解,此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本實用新型,并不用于限定本實用新型。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





