[實用新型]化學浴鍍膜設備和化學浴鍍膜系統

有效

• 申請號: 201921032224.5
• 申請日: 2019-07-03
• 公開（公告）號: CN210915837U
• 公開（公告）日: 2020-07-03
• 發明（設計）人: 徐鑫照
• 申請（專利權）人: 北京鉑陽頂榮光伏科技有限公司
• 主分類號: C03C17/22
• 分類號: C03C17/22
• 代理公司: 北京華夏泰和知識產權代理有限公司 11662
• 代理人: 孟德棟

本實用新型涉及鍍膜領域，具體的涉及一種化學浴鍍膜設備和化學浴鍍膜系統。該化學浴鍍膜設備，包括：鍍膜腔室；柔性托盤，設置在所述鍍膜腔室內，所述柔性托盤包括至少一個用于放置鍍膜基板的容納槽；傳送裝置，設置在所述鍍膜腔室內，用于驅動所述柔性托盤繞所述傳動裝置轉動；鍍膜液噴射裝置，設置在所述鍍膜腔室內且位于所述柔性托盤的上方，用于向所述柔性托盤內噴射鍍膜液。利用該設備能夠解決目前鍍膜工藝復雜、產能低的技術問題，達到簡化工藝，提高產能的目的。

技術領域

本實用新型涉及鍍膜技術領域，尤其涉及一種化學浴鍍膜設備和化學浴鍍膜系統。

背景技術

化學浴鍍膜是將鍍膜基板置于溶液中，然后使溶液中的鍍膜成分自動沉積到鍍膜基板上。化學浴鍍膜的優點為成本低/易于大規模量產，制程簡單易操作。目前，在薄膜太陽能電池領域，常用的化學浴鍍膜的方法在玻璃基板上沉積硫化鎘薄膜，以形成硫化鎘薄膜太陽能電池。

目前，常用的硫化鎘鍍膜設備有兩種，一種是反應槽為立式，來料基板鍍膜時，基板豎直放置在反應槽中，另一種是反應槽為水平式，來料基板鍍膜時，上腔蓋壓住鍍膜基板及反應平臺，由上部管道注入鍍膜液至分液盤，分液盤使鍍膜液大致均勻分布在整個基板，注入鍍膜液后，整個反應平臺由底部中心的搖擺電機帶動搖擺，使鍍膜液均勻分布，鍍膜300秒后，腔蓋升起，取出鍍膜基板。該化學水浴鍍膜系統，鍍膜較為均勻，但是由于設備鍍膜腔室較少，即同時可容納的鍍膜基板較少，所以產能受限制，且設備體積較大。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種化學浴鍍膜設備和化學浴鍍膜系統，以解決現有技術中化學浴鍍膜設備產能低且設備體積較大的問題。

為實現上述實用新型目的，本實用新型采用的技術方案為：

第一方面，本實用新型提供了一種化學浴鍍膜設備，包括：

設備殼體，所述設備殼體圍成鍍膜腔室；

柔性托盤，設置在所述鍍膜腔室內，所述柔性托盤包括至少一個用于放置鍍膜基板的容納槽；

傳送裝置，設置在所述鍍膜腔室內，用于驅動所述柔性托盤繞所述傳送裝置轉動；

噴射裝置，設置在所述鍍膜腔室內且位于所述柔性托盤的上方，用于向所述容納槽內噴射鍍膜液。

第二方面，本實用新型提供了一種化學浴鍍膜系統，包括：

本實用新型提供的上述化學浴鍍膜設備，所述鍍膜腔室包括進料口和出料口；

與所述進料口連通的入料裝置，所述入料裝置通過所述進料口將鍍膜基板傳送至所述容納槽內；

與所述出料口連通的出料裝置，所述出料裝置用于對鍍膜后的基板進行傳輸和清洗。

本實用新型提供的上述技術方案與現有技術相比具有如下優點：

本實用新型的化學浴鍍膜設備，包括鍍膜腔室與設置于所述鍍膜腔室內的柔性托盤、傳送裝置和噴射裝置，其中，柔性托盤包括至少一個容納槽，用于承載鍍膜基板，傳送裝置用于帶動柔性托盤轉動，噴射裝置用于向容納槽內噴射鍍膜液。可見，本實用新型中提供了一種較為新穎的鍍膜設備，主要采用柔性托盤作為對鍍膜基板進行鍍膜的反應槽(即容納槽)，每一柔性托盤中可以設置多個反應槽，且可以在傳送裝置的帶動下圍繞傳動裝置轉動，從而有利于依次對多個容納槽內的基板進行鍍膜，有利于提高設備的產能，且對多個反應槽通過回傳傳送的方式進行設計，進一步節省了設備的體積。

附圖說明

此處的附圖被并入說明書中并構成本說明書的一部分，示出了符合本實用新型的實施例，并與說明書一起用于解釋本實用新型的原理。