[實用新型]化學浴鍍膜設備和化學浴鍍膜系統

有效

• 申請號: 201921032224.5
• 申請日: 2019-07-03
• 公開（公告）號: CN210915837U
• 公開（公告）日: 2020-07-03
• 發明（設計）人: 徐鑫照
• 申請（專利權）人: 北京鉑陽頂榮光伏科技有限公司
• 主分類號: C03C17/22
• 分類號: C03C17/22
• 代理公司: 北京華夏泰和知識產權代理有限公司 11662
• 代理人: 孟德棟

1.一種化學浴鍍膜設備，其特征在于，包括：

設備殼體，所述設備殼體圍成鍍膜腔室；

柔性托盤，設置在所述鍍膜腔室內，所述柔性托盤包括至少一個用于放置鍍膜基板的容納槽；

傳送裝置，設置在所述鍍膜腔室內，用于驅動所述柔性托盤繞所述傳送裝置轉動；

噴射裝置，設置在所述鍍膜腔室內且位于所述柔性托盤的上方，用于向所述容納槽內噴射鍍膜液。

2.根據權利要求1所述的化學浴鍍膜設備，其特征在于，所述傳送裝置包括：

支撐結構，用于支撐所述柔性托盤；

驅動機構，與所述支撐結構連接，用于驅動所述柔性托盤繞所述支撐結構轉動。

3.根據權利要求2所述的化學浴鍍膜設備，其特征在于，所述化學浴鍍膜設備還包括：

加熱裝置，設置在所述支撐結構和所述柔性托盤之間，用于給所述容納槽內的鍍膜液加熱。

4.根據權利要求1所述的化學浴鍍膜設備，其特征在于，所述噴射裝置包括：

噴射管，所述噴射管上設置有至少一個噴嘴，所述噴嘴的噴出方向朝向所述容納槽；

混料槽，與所述噴射管連接，用于給所述噴射管提供鍍膜液。

5.根據權利要求1所述的化學浴鍍膜設備，其特征在于，所述化學浴鍍膜設備還包括：

集液槽，設置于所述傳送裝置的下方，用于在所述容納槽轉動至所述傳送裝置的底部或者側面時，收集所述容納槽內的鍍膜液；

其中，所述集液槽內設有排液口和與所述排液口連接的排液管。

6.根據權利要求5所述的化學浴鍍膜設備，其特征在于，所述化學浴鍍膜設備還包括：

清洗裝置，設置于所述傳送裝置的下方且位于所述集液槽上方，所述清洗裝置用于對轉動至所述傳送裝置底部的所述容納槽進行清洗。

7.根據權利要求1-6任一項所述的化學浴鍍膜設備，其特征在于，所述化學浴鍍膜設備還包括：

鍍膜液均化裝置，用于對所述容納槽內的鍍膜液進行震蕩或攪拌。

8.根據權利要求7所述的化學浴鍍膜設備，其特征在于，所述鍍膜液均化裝置包括傾斜式均化機構、刮拌式均化機構、氣泡式均化機構或震動式均化機構中的至少一種；其中，

所述傾斜式均化機構包括：設置于所述柔性托盤和所述傳送裝置之間的承托板、用于驅動所述承托板傾斜運動的驅動機構，所述承托板帶動所述柔性托盤震蕩；

所述刮拌式均化機構包括：設置在所述傳送裝置兩側的支撐架、設置于所述支撐架上的刮板、以及用于驅動所述支撐架豎直或水平運動的第一控制器，其中，所述刮板位于所述容納槽上方；

所述氣泡式均化機構包括：設置在所述柔性托盤上側的支撐柱、與所述支撐柱連通的氣泡發生柱、以及用于驅動所述支撐柱升降的第二控制器，其中，所述氣泡發生柱上設有出氣孔；

所述震動式均化機構包括：設置于所述柔性托盤的底部或者側面、用于驅動所述柔性托盤震動的震動器。

9.一種化學浴鍍膜系統，其特征在于，包括：

權利要求1-8任一權項所述的化學浴鍍膜設備，所述鍍膜腔室包括進料口和出料口；

與所述進料口連通的入料裝置，所述入料裝置通過所述進料口將鍍膜基板傳送至所述容納槽內；

與所述出料口連通的出料裝置，所述出料裝置用于對鍍膜后的基板進行傳輸和清洗。

10.根據權利要求9所述的化學浴鍍膜系統，其特征在于，所述出料裝置包括：

傳輸輥，用于接收出料口傳輸出的基板，并將所述基板沿所述傳輸輥的傳輸方向將所述基板進行傳送；

水刀，設置在所述傳輸輥的上方和/或下方，用于對所述基板進行清洗；

風刀，設置在所述傳輸輥的上方和/或下方，用于對經過所述水刀清洗后的基板進行干燥。