[實用新型]一種修整頭有效
| 申請號: | 201920994764.5 | 申請日: | 2019-06-28 |
| 公開(公告)號: | CN210588808U | 公開(公告)日: | 2020-05-22 |
| 發明(設計)人: | 許振杰;王春龍 | 申請(專利權)人: | 華海清科股份有限公司 |
| 主分類號: | B24B53/02 | 分類號: | B24B53/02;B24B53/12;B24B49/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 300350 天津市津南*** | 國省代碼: | 天津;12 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 修整 | ||
本實用新型公開了一種修整頭,包括修整組件和用于承載修整組件的基座組件,所述修整組件可相對于基座組件旋轉并豎直移動以修整拋光墊;并且,所述修整頭中設置有傳感器以監測修整組件相對于基座組件的豎直位置。本申請提供的修整頭用于化學機械拋光設備中拋光墊的修整活化,其結構合理,內部設置傳感器實時監測修整組件相對于基座組件的豎直位置,實時獲取修整組件底面距離拋光墊的距離,以保證良好的修整效果。
技術領域
本實用新型屬于化學機械拋光技術領域,具體而言,涉及一種修整頭。
背景技術
化學機械拋光是一種可接受的基板全局拋光的方法。這種拋光方法通常將基板吸合在承載頭的下部,基板具有沉積層的一面抵接于旋轉的拋光墊上,承載頭在驅動部件的帶動下與拋光墊同向旋轉并給予基板向下的載荷;同時,拋光液供給于拋光墊的上表面并分布在基板與拋光墊之間,在化學及機械的綜合作用下使基板完成全局拋光。
為了達到期望的拋光結果,拋光墊的表面必須定期修整,以移除累積在拋光墊上的拋光副產物,保證拋光墊具有良好的拋光特性。
修整盤設置于修整頭下部,修整頭下降并與旋轉中的拋光表面接觸,修整頭在驅動裝置作用下自轉以與拋光墊相對旋轉,同時,修整頭在拋光墊的表面沿徑向移動,以完成拋光墊的修整作業。修整盤在移動過程中,修整盤距離拋光墊的距離以及修整盤作用在拋光墊上的載荷都會影響修整盤的修整效果。
因此,亟需設計一種修整頭,定期對拋光墊修整,以保證基板的拋光效果。
實用新型內容
本實用新型旨在至少一定程度上解決現有技術中存在的技術問題之一。為此,本實用新型公開了一種修整頭,包括修整組件和用于承載修整組件的基座組件,所述修整組件可相對于基座組件旋轉并豎直移動以修整拋光墊;并且,所述修整頭中設置有傳感器以監測修整組件相對于基座組件的豎直位置。
優選地,所述傳感器為非接觸式位置傳感器。
優選地,所述修整組件的連接軸的上部具有定位環,并且所述傳感器為固定連接至所述基座組件的磁性開關,所述磁性開關位于所述定位環圓周外側以測量其豎直方向的移動。
優選地,所述傳感器的數量至少兩個,其設置于基座組件豎直方向的不同位置。
優選地,所述基座組件包括同心地套設于所述連接軸的外側的承載盤,所述承載盤上具有至少兩個用于設置所述傳感器的凹槽。
優選地,所述凹槽沿承載盤的中軸線均勻對稱分布。
優選地,所述基座組件包括基座、上旋轉套及下旋轉套,所述上旋轉套與下旋轉套連接為一體并同心設置于基座內,所述傳感器設置在上旋轉套與下旋轉套之間的豎向空間內。
優選地,所述上旋轉套及下旋轉套為磁導率低的金屬材料。
優選地,所述上旋轉套及下旋轉套為復合材料。
優選地,所述上旋轉套及下旋轉套為被玻璃填充的聚苯硫醚(PPS)或被玻璃填充的聚醚醚酮(PEEK)。
本申請公開的修整頭,其有益效果:修整頭的內部設置傳感器,以實時監測修整組件相對于基座組件的豎直位置,定期對拋光墊修整,以保證基板的拋光效果。
附圖說明
通過結合以下附圖所作的詳細描述,本實用新型的優點將變得更清楚和更容易理解,這些附圖只是示意性的,并不限制本實用新型的保護范圍,其中:
圖1是根據本實用新型所述修整頭一個實施例的結構示意圖;
圖2是根據本實用新型所述修整頭另一實施例的結構示意圖;
圖3是本實用新型之承載盤的結構示意圖;
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于華海清科股份有限公司,未經華海清科股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201920994764.5/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種輥軋機的冷卻裝置
- 下一篇:油管擴孔成型固定工裝





