[實(shí)用新型]一種適用于磁控濺射儀的靶與基之間間距自動(dòng)調(diào)節(jié)裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201920984915.9
• 申請(qǐng)日: 2019-06-27
• 公開（公告）號(hào): CN210886202U
• 公開（公告）日: 2020-06-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 馬毅;黃先偉;宋宇軒;俞越翎;張?zhí)┤A
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 浙江工業(yè)大學(xué)
• 主分類號(hào): C23C14/35
• 分類號(hào): C23C14/35;C23C14/56
• 代理公司: 杭州浙科專利事務(wù)所(普通合伙) 33213
• 代理人: 吳秉中

本實(shí)用新型公開了一種適用于磁控濺射儀的靶與基之間間距自動(dòng)調(diào)節(jié)裝置，其特征在于，包括靶材試驗(yàn)臺(tái)及設(shè)置在靶材試驗(yàn)臺(tái)下方的試驗(yàn)臺(tái)自動(dòng)升降裝置，所述試驗(yàn)臺(tái)自動(dòng)升降裝置包括試驗(yàn)臺(tái)、樣品架、基體、直線電機(jī)、直線電機(jī)輸出軸、第一鉸接座、第二鉸接座、第一銷軸、第二銷軸、第二連桿、第三連桿及第一滾輪，所述試驗(yàn)臺(tái)底部設(shè)置有第一滑槽，所述第二鉸接座及第一滑槽分別設(shè)置在試驗(yàn)臺(tái)底部?jī)蓚?cè)靠近端部位置處，所述第一滾輪配合設(shè)置在第一滑槽內(nèi)，且能在第一滑槽內(nèi)滑動(dòng)；本實(shí)用新型的有益效果是：該自動(dòng)調(diào)節(jié)裝置設(shè)計(jì)巧妙，結(jié)構(gòu)合理，自動(dòng)化程度高且使用方便，能夠自動(dòng)升降攜帶基體的試驗(yàn)臺(tái)，調(diào)節(jié)鍍膜的間距。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及鍍膜領(lǐng)域，具體涉及一種適用于磁控濺射儀的靶與基之間間距自動(dòng)調(diào)節(jié)裝置。

背景技術(shù)

具備優(yōu)異力學(xué)性能的納米薄膜在石油、化工、制藥等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。磁控濺射儀是一種先進(jìn)、普及、成熟的鍍膜儀器，適用于制備金屬?gòu)?qiáng)化膜、半導(dǎo)體太陽(yáng)能薄膜、磁性器件薄膜甚至陶瓷薄膜。通過磁控濺射鍍膜，成膜速度快，薄膜質(zhì)量高，膜-基結(jié)合力強(qiáng)，薄膜成分、結(jié)構(gòu)均勻。磁控濺射儀在鍍膜時(shí)，其靶材與基體的距離會(huì)嚴(yán)重影響成膜質(zhì)量。目前，靶材與基體的距離只能通過手柄手動(dòng)調(diào)節(jié)，具有很大誤差，且試驗(yàn)臺(tái)較重，轉(zhuǎn)動(dòng)手柄費(fèi)時(shí)費(fèi)力。因此，如何開發(fā)適用于磁控濺射儀的自動(dòng)升降試驗(yàn)平臺(tái)，能夠精確的調(diào)整基體與靶材的間距，已經(jīng)成為優(yōu)質(zhì)薄膜研發(fā)領(lǐng)域的關(guān)鍵性難題。

實(shí)用新型內(nèi)容

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述問題，本實(shí)用新型的目的在于提供一種適用于磁控濺射儀的靶與基之間間距自動(dòng)調(diào)節(jié)裝置，以使得磁控濺射儀在鍍膜過程中，可以自動(dòng)精確的調(diào)整基體與靶材的間距，提高成膜質(zhì)量。

本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下：

一種適用于磁控濺射儀的靶與基之間間距自動(dòng)調(diào)節(jié)裝置，其特征在于，包括靶材試驗(yàn)臺(tái)及設(shè)置在靶材試驗(yàn)臺(tái)下方的試驗(yàn)臺(tái)自動(dòng)升降裝置，所述試驗(yàn)臺(tái)自動(dòng)升降裝置包括試驗(yàn)臺(tái)、樣品架、基體、直線電機(jī)、直線電機(jī)輸出軸、第一鉸接座、第二鉸接座、第一銷軸、第二銷軸、第二連桿、第三連桿及第一滾輪，所述試驗(yàn)臺(tái)底部設(shè)置有第一滑槽，所述第二鉸接座及第一滑槽分別設(shè)置在試驗(yàn)臺(tái)底部?jī)蓚?cè)靠近端部位置處，所述第一滾輪配合設(shè)置在第一滑槽內(nèi)，且能在第一滑槽內(nèi)滑動(dòng)；所述第三連桿一端與第一滾輪活動(dòng)連接，另一端與第一鉸接座相連，所述第二連桿的一端與第二鉸接座相連，另一端通過第一銷軸與直線電機(jī)輸出軸相連，所述第二連桿與第三連桿中部通過第二銷軸活動(dòng)連接。

所述的一種適用于磁控濺射儀的靶與基之間間距自動(dòng)調(diào)節(jié)裝置，其特征在于，所述靶材試驗(yàn)臺(tái)包括冷卻水箱、設(shè)置在冷卻水箱上的靶材架、設(shè)置在靶材架上的靶材，所述靶材架內(nèi)部設(shè)有冷卻水管，并通過冷卻水管與冷卻水箱相連通。

所述的一種適用于磁控濺射儀的靶與基之間間距自動(dòng)調(diào)節(jié)裝置，其特征在于，所述靶材試驗(yàn)臺(tái)上設(shè)有轉(zhuǎn)動(dòng)裝置，所述轉(zhuǎn)動(dòng)裝置包括電機(jī)及設(shè)置在電機(jī)的電機(jī)軸上的第一連桿，所述第一連桿與靶材試驗(yàn)臺(tái)固定連接。

所述的一種適用于磁控濺射儀的靶與基之間間距自動(dòng)調(diào)節(jié)裝置，其特征在于，所述冷卻水箱下端設(shè)有排水口，所述排水口上設(shè)有排水口密封蓋，所述冷卻水箱上方設(shè)有進(jìn)水口，所述進(jìn)水口上設(shè)有進(jìn)水口密封蓋。

所述的一種適用于磁控濺射儀的靶與基之間間距自動(dòng)調(diào)節(jié)裝置，其特征在于，所述靶材架設(shè)有兩個(gè)包括第一靶材架及第二靶材架，所述第一靶材架及第二靶材架對(duì)稱設(shè)置在冷卻水箱底部，所述第一靶材架內(nèi)部設(shè)置有第一冷卻水管，第一冷卻水管與冷卻水箱相連，所述第一靶材架上固定連接有第一靶材；所述第二靶材架內(nèi)部設(shè)置有第二冷卻水管，第二冷卻水管與冷卻水箱相連，第二靶材架上方固定連接有第二靶材。

所述的一種適用于磁控濺射儀的靶與基之間間距自動(dòng)調(diào)節(jié)裝置，其特征在于，所述冷卻水箱內(nèi)的冷卻介質(zhì)采用去離子水。

本實(shí)用新型的有益效果是：

1）該自動(dòng)調(diào)節(jié)裝置設(shè)計(jì)巧妙，結(jié)構(gòu)合理，自動(dòng)化程度高且使用方便，能夠自動(dòng)升降攜帶基體的試驗(yàn)臺(tái)，調(diào)節(jié)鍍膜的間距。