[實用新型]一種適用于磁控濺射儀的靶與基之間間距自動調(diào)節(jié)裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201920984915.9
• 申請日: 2019-06-27
• 公開（公告）號: CN210886202U
• 公開（公告）日: 2020-06-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 馬毅;黃先偉;宋宇軒;俞越翎;張?zhí)┤A
• 申請（專利權(quán)）人: 浙江工業(yè)大學(xué)
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/56
• 代理公司: 杭州浙科專利事務(wù)所(普通合伙) 33213
• 代理人: 吳秉中

1.一種適用于磁控濺射儀的靶與基之間間距自動調(diào)節(jié)裝置，其特征在于，包括靶材試驗臺及設(shè)置在靶材試驗臺下方的試驗臺自動升降裝置，所述試驗臺自動升降裝置包括試驗臺（3）、樣品架、基體、直線電機（28）、直線電機輸出軸（29）、第一鉸接座（1）、第二鉸接座（2）、第一銷軸（32）、第二銷軸（34）、第二連桿（33）、第三連桿（35）及第一滾輪（31），所述試驗臺（3）底部設(shè)置有第一滑槽（27），所述第二鉸接座（2）及第一滑槽（27）分別設(shè)置在試驗臺（3）底部兩側(cè)靠近端部位置處，所述第一滾輪（31）配合設(shè)置在第一滑槽（27）內(nèi)，且能在第一滑槽（27）內(nèi)滑動；所述第三連桿（35）一端與第一滾輪（31）活動連接，另一端與第一鉸接座（1）相連，所述第二連桿（33）的一端與第二鉸接座（2）相連，另一端通過第一銷軸（32）與直線電機輸出軸（29）相連，所述第二連桿（33）與第三連桿（35）中部通過第二銷軸（34）活動連接。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適用于磁控濺射儀的靶與基之間間距自動調(diào)節(jié)裝置，其特征在于，所述靶材試驗臺包括冷卻水箱（11）、設(shè)置在冷卻水箱（11）上的靶材架、設(shè)置在靶材架上的靶材，所述靶材架內(nèi)部設(shè)有冷卻水管，并通過冷卻水管與冷卻水箱（11）相連通。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適用于磁控濺射儀的靶與基之間間距自動調(diào)節(jié)裝置，其特征在于，所述靶材試驗臺上設(shè)有轉(zhuǎn)動裝置，所述轉(zhuǎn)動裝置包括電機（16）及設(shè)置在電機（16）的電機軸上的第一連桿（13），所述第一連桿（13）與靶材試驗臺固定連接。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種適用于磁控濺射儀的靶與基之間間距自動調(diào)節(jié)裝置，其特征在于，所述冷卻水箱（11）下端設(shè)有排水口，所述排水口上設(shè)有排水口密封蓋（20），所述冷卻水箱（11）上方設(shè)有進水口（18），所述進水口（18）上設(shè)有進水口密封蓋（17）。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種適用于磁控濺射儀的靶與基之間間距自動調(diào)節(jié)裝置，其特征在于，所述靶材架設(shè)有兩個包括第一靶材架（9）及第二靶材架（22），所述第一靶材架（9）及第二靶材架（22）對稱設(shè)置在冷卻水箱（11）底部，所述第一靶材架（9）內(nèi)部設(shè)置有第一冷卻水管（10），第一冷卻水管（10）與冷卻水箱（11）相連，所述第一靶材架（9）上固定連接有第一靶材（8）；所述第二靶材架（22）內(nèi)部設(shè)置有第二冷卻水管（21），第二冷卻水管（21）與冷卻水箱（11）相連，第二靶材架（22）上方固定連接有第二靶材（23）。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種適用于磁控濺射儀的靶與基之間間距自動調(diào)節(jié)裝置，其特征在于，所述冷卻水箱（11）內(nèi)的冷卻介質(zhì)采用去離子水（19）。