[實用新型]反應(yīng)離子刻蝕機及其氣體分配裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201920972362.5
• 申請日: 2019-06-26
• 公開（公告）號: CN209880536U
• 公開（公告）日: 2019-12-31
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 譚志明
• 申請（專利權(quán)）人: 華智科技(國際)有限公司
• 主分類號: H01J37/305
• 分類號: H01J37/305;H01J37/30
• 代理公司: 44281 深圳鼎合誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 胥強;郭燕

一種氣體分配裝置及反應(yīng)離子刻蝕機，該氣體分配裝置的底座具有氣體分配槽，氣體可從進(jìn)氣孔進(jìn)入到氣體分配槽。覆蓋在氣體分配槽上敞開一側(cè)的網(wǎng)片對氣體形成阻力，令氣體不能輕易從氣體分配槽敞開一側(cè)噴出，逼迫大部分氣體分流到氣體分配槽內(nèi)，流向氣體分配槽的各處。由于氣體不斷涌入，流入的氣體流量比流出的大，因此由氣體分配槽與網(wǎng)片形成的增壓室內(nèi)氣壓上升，并使得增壓室內(nèi)氣體逐漸形成相同壓強，保證氣體均勻分布。增壓室內(nèi)氣體壓強上升至一定程度，可從網(wǎng)片的網(wǎng)狀孔隙內(nèi)排出，均勻的進(jìn)入到排氣板的出氣孔中，然后再均勻的排入至反應(yīng)腔內(nèi)，提高刻蝕的均勻性。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請涉及一種反應(yīng)離子刻蝕裝置，具體涉及一種應(yīng)用于反應(yīng)離子刻蝕工藝的氣體分配結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù)

反應(yīng)離子刻蝕機是微電子工藝制造技術(shù)中的重要刻蝕設(shè)備，隨著半導(dǎo)體制造技術(shù)的蓬勃發(fā)展，反應(yīng)離子刻蝕機在國內(nèi)科研單位和高等院校的相關(guān)專業(yè)實驗室中逐漸成為不可或缺的設(shè)備。目前國內(nèi)這方面所使用的反應(yīng)離子刻蝕機主要還是由外國進(jìn)口，雖能提供所需的基本刻蝕性能但價格昂貴，而國產(chǎn)設(shè)備由于設(shè)計所限，關(guān)鍵刻蝕參數(shù)如選擇比、均勻性和刻蝕速率等，往往達(dá)不到最佳的匹配狀態(tài)，因此較難提供高階的刻蝕表現(xiàn)。

從設(shè)計的角度講，反應(yīng)離子刻蝕機的氣體分配板(GDP)是決定刻蝕機性能的一個重要元素，它影響著氣體注入、等離子產(chǎn)生和刻蝕的均勻性。傳統(tǒng)氣體分配板利用密集型氣孔來分配氣體到反應(yīng)腔，雖然密集型氣孔覆蓋著反應(yīng)腔大部分的面積，但大部傳統(tǒng)的氣體分配板都沒有采用特別的設(shè)計令分配板內(nèi)氣體均勻分布，或者是增壓的效果不夠，從而令刻蝕的均勻性下降。

發(fā)明內(nèi)容

本申請?zhí)峁┮环N新型的氣體分配裝置以及采用了這種氣體分配裝置的反應(yīng)離子刻蝕機。

本申請一種實施例中提供了一種反應(yīng)離子刻蝕機的氣體分配裝置，包括：

底座，所述底座具有進(jìn)氣孔和與所述進(jìn)氣孔連通的氣體分配槽，所述氣體分配槽平鋪設(shè)置在所述底座的內(nèi)側(cè)，用以分流經(jīng)所述進(jìn)氣孔進(jìn)入的氣體；

至少一個具有網(wǎng)狀孔隙的網(wǎng)片，所述網(wǎng)片覆蓋在所述氣體分配槽上敞開的一側(cè)，并與所述氣體分配槽形成增壓室，所述網(wǎng)片在所述氣體分配槽上敞開的一側(cè)形成阻力，使進(jìn)入所述氣體分配槽內(nèi)的氣體優(yōu)先在氣體分配槽內(nèi)流動；

以及排氣板，所述排氣板封蓋在網(wǎng)片的外側(cè)，所述排氣板具有出氣孔，所述增壓室內(nèi)的氣體經(jīng)所述出氣孔進(jìn)入到反應(yīng)腔內(nèi)。

一種實施例中，所述氣體分配槽包括至少兩個呈同心圓狀分布的圓形槽，所述圓形槽之間連通。

一種實施例中，所述氣體分配槽包括連接槽，所述圓形槽通過所述連接槽連通，所述連接槽包括主連接槽，所述主連接槽貫穿所有圓形槽，所述進(jìn)氣孔貫通設(shè)置在所述主連接槽的槽壁上。

一種實施例中，所述連接槽還包括次連接槽，所述次連接槽將至少部分圓形槽連通。

一種實施例中，所述進(jìn)氣孔位于所述主連接槽和最外層圓形槽的交界處，所述次連接槽將除最外層圓形槽外的其他圓形槽連通，所有連接槽之間間隔相同角度。

一種實施例中，所述進(jìn)氣孔從所述底座的外側(cè)貫通延伸至底座的內(nèi)側(cè)，并開設(shè)在所述氣體分配槽的槽壁上。

一種實施例中，所述底座的內(nèi)側(cè)具有凹陷腔，所述氣體分配槽設(shè)置在凹陷腔的底壁上，所述網(wǎng)片安裝在所述凹陷腔內(nèi)，所述排氣板覆蓋在凹陷腔上。

一種實施例中，所述網(wǎng)片為金屬網(wǎng)片，其數(shù)量為三片，并層疊設(shè)置在凹陷腔內(nèi)，相鄰金屬網(wǎng)片的網(wǎng)狀孔隙錯開設(shè)置。

一種實施例中，還包括蓋板，所述蓋板中部內(nèi)空，所述蓋板的四周與所述底座固定連接，所述蓋板位于排氣板的外側(cè)，并將所述排氣板固定在所述底座上。