[實用新型]反應(yīng)離子刻蝕機及其氣體分配裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201920972362.5
• 申請日: 2019-06-26
• 公開（公告）號: CN209880536U
• 公開（公告）日: 2019-12-31
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 譚志明
• 申請（專利權(quán)）人: 華智科技(國際)有限公司
• 主分類號: H01J37/305
• 分類號: H01J37/305;H01J37/30
• 代理公司: 44281 深圳鼎合誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 胥強;郭燕

1.一種反應(yīng)離子刻蝕機的氣體分配裝置,其特征在于，包括：

底座，所述底座具有進氣孔和與所述進氣孔連通的氣體分配槽，所述氣體分配槽平鋪設(shè)置在所述底座的內(nèi)側(cè)，用以分流經(jīng)所述進氣孔進入的氣體；

至少一個具有網(wǎng)狀孔隙的網(wǎng)片，所述網(wǎng)片覆蓋在所述氣體分配槽上敞開的一側(cè)，并與所述氣體分配槽形成增壓室，所述網(wǎng)片在所述氣體分配槽上敞開的一側(cè)形成阻力，使進入所述氣體分配槽內(nèi)的氣體優(yōu)先在氣體分配槽內(nèi)流動；

以及排氣板，所述排氣板封蓋在網(wǎng)片的外側(cè)，所述排氣板具有出氣孔，所述增壓室內(nèi)的氣體經(jīng)所述出氣孔進入到反應(yīng)腔內(nèi)。

2.如權(quán)利要求1所述的氣體分配裝置，其特征在于，所述氣體分配槽包括至少兩個呈同心圓狀分布的圓形槽，所述圓形槽之間連通。

3.如權(quán)利要求2所述的氣體分配裝置，其特征在于，所述氣體分配槽包括連接槽，所述圓形槽通過所述連接槽連通，所述連接槽包括主連接槽，所述主連接槽貫穿所有圓形槽，所述進氣孔貫通設(shè)置在所述主連接槽的槽壁上。

4.如權(quán)利要求3所述的氣體分配裝置，其特征在于，所述連接槽還包括次連接槽，所述次連接槽將至少部分圓形槽連通。

5.如權(quán)利要求4所述的氣體分配裝置，其特征在于，所述進氣孔位于所述主連接槽和最外層圓形槽的交界處，所述次連接槽將除最外層圓形槽外的其他圓形槽連通，所有連接槽之間間隔相同角度。

6.如權(quán)利要求1所述的氣體分配裝置，其特征在于，所述進氣孔從所述底座的外側(cè)貫通延伸至底座的內(nèi)側(cè)，并開設(shè)在所述氣體分配槽的槽壁上。

7.如權(quán)利要求1所述的氣體分配裝置，其特征在于，所述底座的內(nèi)側(cè)具有凹陷腔，所述氣體分配槽設(shè)置在凹陷腔的底壁上，所述網(wǎng)片安裝在所述凹陷腔內(nèi)，所述排氣板覆蓋在凹陷腔上。

8.如權(quán)利要求7所述的氣體分配裝置，其特征在于，所述網(wǎng)片為金屬網(wǎng)片，其數(shù)量為三片，并層疊設(shè)置在凹陷腔內(nèi)，相鄰金屬網(wǎng)片的網(wǎng)狀孔隙錯開設(shè)置。

9.如權(quán)利要求7所述的氣體分配裝置，其特征在于，還包括蓋板，所述蓋板中部內(nèi)空，所述蓋板的四周與所述底座固定連接，所述蓋板位于排氣板的外側(cè)，并將所述排氣板固定在所述底座上。

10.一種反應(yīng)離子刻蝕機,包括用以提供氣體的配氣裝置和進行刻蝕反應(yīng)的反應(yīng)腔，其特征在于，還包括如權(quán)利要求1-9任一項所述的氣體分配裝置，所述氣體分配裝置的進氣孔與所述配氣裝置連通，所述氣體分配裝置的出氣孔與所述反應(yīng)腔連通。