[實用新型]吸波裝置及電磁加熱設備

有效

• 申請號: 201920971853.8
• 申請日: 2019-06-26
• 公開（公告）號: CN210431944U
• 公開（公告）日: 2020-04-28
• 發明（設計）人: 趙克芝;陳勁鋒;戚龍;丘守慶;陳劍;賴明亮;黃永豹;程高明;劉國富
• 申請（專利權）人: 深圳市鑫匯科股份有限公司
• 主分類號: H05B6/12
• 分類號: H05B6/12;H05B6/68;H05B6/36;H05K9/00
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 任星宇

本實用新型涉及一種吸波裝置。應用于電磁加熱設備，所述吸波裝置包括：吸波介質，具有導電性并用于與所述電磁加熱設備的控制電路板電性連接，對于所述電磁加熱設備的線圈盤附近的電磁干擾輻射，所述吸波介質能夠將所述電磁干擾輻射的信號反饋至所述控制電路板，所述控制電路板根據反饋的所述信號控制所述吸波介質消除所述電磁干擾輻射；及支撐介質，由絕緣材料制成并與所述吸波介質連接，所述支撐介質用于支撐所述吸波介質。因此，吸波介質與控制電路板共同作用可以有效消除電磁干擾輻射，提高整個吸波裝置消除電磁干擾輻射的能力。支撐介質對吸波介質起到保護作用，有利于提高吸波介質的使用壽命。

技術領域

本實用新型涉及電磁技術領域，特別是涉及一種吸波裝置及包含該吸波裝置的電磁加熱設備。

背景技術

電磁加熱技術在電磁爐、電磁灶和電飯鍋等電磁加熱設備中有著極為廣泛的應用，電磁加熱也稱電磁感應加熱，其通過線圈產生交變磁場，當容器位于交變磁場中時，容器表面將切割交變磁場的磁力線而在容器底部產生交變的電流(即渦流)，渦流使容器底部的載流子高速無規則運動，載流子與原子互相碰撞、摩擦而產生熱能，從而起到加熱的效果。

電磁加熱技術需要遵循EMI(Electromagnetic Interference，電磁干擾)技術標準，故電磁加熱設備對周邊環境產生的電磁干擾不能超過規定值，同時電磁加熱設備也對周邊環境中存在的電磁干擾具有一定的抗擾度。為使電磁加熱設備盡量符合EMI技術標準，傳統通常采用“增加電容，加大電感”的解決方案，但是該解決方案存在成本較高且仍然難以滿足EMI技術標準。

實用新型內容

本實用新型解決的一個技術問題是如何提高吸波裝置抵消電磁干擾輻射的能力。

一種吸波裝置，應用于電磁加熱設備，所述吸波裝置包括：

吸波介質，具有導電性并用于與所述電磁加熱設備的控制電路板電性連接，對于所述電磁加熱設備的線圈盤附近的電磁干擾輻射，所述吸波介質能夠將所述電磁干擾輻射的信號反饋至所述控制電路板，所述控制電路板根據反饋的所述信號控制所述吸波介質消除所述電磁干擾輻射；及

支撐介質，由絕緣材料制成并與所述吸波介質連接，所述支撐介質用于支撐所述吸波介質。

在其中一個實施例中，所述支撐介質的數量為一個，所述吸波介質貼附在所述支撐介質的表面上；或者，所述支撐介質的數量為兩個，兩個所述支撐介質層疊設置，所述吸波介質夾置在兩個所述支撐介質之間；或者，所述支撐介質包括1至10個，其中，多個所述支撐介質相互層疊設置。

在其中一個實施例中，所述吸波介質所處的平面與所述支撐介質所處的平面兩者平行或相交成設定角度。

在其中一個實施例中，所述吸波介質在所述線圈盤上具有投影面積，所述線圈盤上的諧振線圈具有覆蓋面積，所述投影面積大于或等于所述覆蓋面積的一半。

在其中一個實施例中，所述支撐介質包括PCB板，所述吸波介質包括貼附在所述PCB板上的銅箔；或者，所述吸波介質包括由沖裁、噴涂、印刷、或電鍍工藝形成在所述支撐介質表面的導電層。

在其中一個實施例中，所述吸波介質包括導線，所述導線彎曲成層狀結構并貼覆在所述支撐介質的表面上；或者，所述導線來回往復穿透所述支撐介質的兩個相對表面而形成層狀結構。

在其中一個實施例中，所述導線包括單股線材或繞制在一起的多股線材，所述線材包括鋁材料、銅材料或合金材料。

在其中一個實施例中，所述支撐介質設置在所述線圈盤上。

在其中一個實施例中，還包括與所述吸波介質連接的連接導體，所述連接導體與所述控制電路板焊接、鉚接、螺接或插接。

一種電磁加熱設備，包括上述任一項所述的吸波裝置。