[實(shí)用新型]吸波裝置及電磁加熱設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201920971853.8
• 申請日: 2019-06-26
• 公開（公告）號: CN210431944U
• 公開（公告）日: 2020-04-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 趙克芝;陳勁鋒;戚龍;丘守慶;陳劍;賴明亮;黃永豹;程高明;劉國富
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市鑫匯科股份有限公司
• 主分類號: H05B6/12
• 分類號: H05B6/12;H05B6/68;H05B6/36;H05K9/00
• 代理公司: 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224
• 代理人: 任星宇

1.一種吸波裝置，其特征在于，應(yīng)用于電磁加熱設(shè)備，所述吸波裝置包括：

吸波介質(zhì)，具有導(dǎo)電性并用于與所述電磁加熱設(shè)備的控制電路板電性連接，對于所述電磁加熱設(shè)備的線圈盤附近的電磁干擾輻射，所述吸波介質(zhì)能夠?qū)⑺鲭姶鸥蓴_輻射的信號反饋至所述控制電路板，所述控制電路板根據(jù)反饋的所述信號控制所述吸波介質(zhì)消除所述電磁干擾輻射；及

支撐介質(zhì)，由絕緣材料制成并與所述吸波介質(zhì)連接，所述支撐介質(zhì)用于支撐所述吸波介質(zhì)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸波裝置，其特征在于，所述支撐介質(zhì)的數(shù)量為一個，所述吸波介質(zhì)貼附在所述支撐介質(zhì)的表面上；或者，所述支撐介質(zhì)的數(shù)量為兩個，兩個所述支撐介質(zhì)層疊設(shè)置，所述吸波介質(zhì)夾置在兩個所述支撐介質(zhì)之間；或者，所述支撐介質(zhì)包括1至10個，其中，多個所述支撐介質(zhì)相互層疊設(shè)置。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸波裝置，其特征在于，所述吸波介質(zhì)所處的平面與所述支撐介質(zhì)所處的平面兩者平行或相交成設(shè)定角度。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸波裝置，其特征在于，所述吸波介質(zhì)在所述線圈盤上具有投影面積，所述線圈盤上的諧振線圈具有覆蓋面積，所述投影面積大于或等于所述覆蓋面積的一半。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸波裝置，其特征在于，所述支撐介質(zhì)包括PCB板，所述吸波介質(zhì)包括貼附在所述PCB板上的銅箔；或者，所述吸波介質(zhì)包括由沖裁、噴涂、印刷、或電鍍工藝形成在所述支撐介質(zhì)表面的導(dǎo)電層。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸波裝置，其特征在于，所述吸波介質(zhì)包括導(dǎo)線，所述導(dǎo)線彎曲成層狀結(jié)構(gòu)并貼覆在所述支撐介質(zhì)的表面上；或者，所述導(dǎo)線來回往復(fù)穿透所述支撐介質(zhì)的兩個相對表面而形成層狀結(jié)構(gòu)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的吸波裝置，其特征在于，所述導(dǎo)線包括單股線材或繞制在一起的多股線材，所述線材包括鋁材料、銅材料或合金材料。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸波裝置，其特征在于，所述支撐介質(zhì)設(shè)置在所述線圈盤上。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸波裝置，其特征在于，還包括與所述吸波介質(zhì)連接的連接導(dǎo)體，所述連接導(dǎo)體與所述控制電路板焊接、鉚接、螺接或插接。

10.一種電磁加熱設(shè)備，其特征在于，包括權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的吸波裝置。