[實(shí)用新型]一種掩膜版有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201920954687.0 | 申請(qǐng)日: | 2019-06-24 |
| 公開(公告)號(hào): | CN210856314U | 公開(公告)日: | 2020-06-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王恩霞;呂孝鵬;李偉麗;劉明星;甘帥燕 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 昆山國(guó)顯光電有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/04 | 分類號(hào): | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司: | 北京遠(yuǎn)智匯知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11659 | 代理人: | 張海英 |
| 地址: | 215300 江蘇省*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 掩膜版 | ||
本實(shí)用新型實(shí)施例公開了一種掩膜版。該掩膜版包括:基礎(chǔ)掩膜版和用于支撐所述基礎(chǔ)掩膜版的多個(gè)支撐條;所述基礎(chǔ)掩膜版包括多個(gè)蒸鍍開口區(qū),每一所述蒸鍍開口區(qū)包括多個(gè)蒸鍍開口;每一所述支撐條包括主體部和多個(gè)凸出部,所述主體部與所述基礎(chǔ)掩膜版的蒸鍍開口區(qū)之外的區(qū)域?qū)?yīng),每一所述凸出部與所述基礎(chǔ)掩膜版的一個(gè)蒸鍍開口區(qū)相對(duì)應(yīng),且所述凸出部在所述基礎(chǔ)掩膜版的垂直投影與所述蒸鍍開口區(qū)至少部分交疊。本實(shí)用新型實(shí)施例降低了顯示屏的制作成本。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型實(shí)施例涉及顯示技術(shù),尤其涉及一種掩膜版。
背景技術(shù)
隨著顯示技術(shù)的發(fā)展,人們對(duì)顯示裝置的屏占比要求越來(lái)越高,因此各種各樣的具有不規(guī)則形狀的顯示屏的顯示裝置,如水滴屏以及劉海屏等顯示裝置應(yīng)運(yùn)而生。
然而現(xiàn)有的不規(guī)則形狀的顯示屏制作成本較高,因此如何降低顯示屏的制作成本成為業(yè)界亟待解決的問(wèn)題。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型提供一種掩膜版,以降低顯示屏的制作成本。
本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種掩膜版,包括:
基礎(chǔ)掩膜版和用于支撐所述基礎(chǔ)掩膜版的多個(gè)支撐條;所述基礎(chǔ)掩膜版包括多個(gè)蒸鍍開口區(qū),每一所述蒸鍍開口區(qū)包括多個(gè)蒸鍍開口;每一所述支撐條包括主體部和多個(gè)凸出部,所述主體部與所述基礎(chǔ)掩膜版的蒸鍍開口區(qū)之外的區(qū)域?qū)?yīng),每一所述凸出部與所述基礎(chǔ)掩膜版的一個(gè)蒸鍍開口區(qū)相對(duì)應(yīng),且所述凸出部在所述基礎(chǔ)掩膜版的垂直投影與所述蒸鍍開口區(qū)至少部分交疊。
可選的,所述蒸鍍開口區(qū)的形狀為矩形或圓形。
可選的,所述凸出部在所述蒸鍍開口區(qū)的垂直投影的形狀為三角形、多邊形、圓形、半圓形或橢圓形。
可選的,所述基礎(chǔ)掩膜版包括多個(gè)掩膜條,每一所述掩膜條包括多個(gè)蒸鍍開口區(qū),所述多個(gè)掩膜條沿第一方向延伸且沿第二方向依次排列;
掩膜版還包括多個(gè)遮擋條,所述遮擋條沿所述第一方向延伸,且沿第二方向依次排列;所述遮擋條用于遮擋相鄰兩個(gè)所述掩膜條之間的縫隙,其中,所述第一方向和所述第二方向相互交叉;
所述遮擋條與所述掩膜條的交疊位置連接在一起。
可選的,所述掩膜條與所述遮擋條的連接位置設(shè)置有第一凹槽,連接材料設(shè)置于所述第一凹槽內(nèi);和/或,所述遮擋條與所述基礎(chǔ)掩膜版的連接位置設(shè)置有第二凹槽,連接材料設(shè)置于所述第二凹槽內(nèi)。
可選的,所述第一凹槽的深度大于或等于所述掩膜條的厚度的0.1倍,且小于或等于所述掩膜條的厚度的0.5倍;
所述第二凹槽的深度大于或等于所述遮擋條的厚度的0.1倍,且小于或等于所述遮擋條的厚度的0.5倍。
可選的,多個(gè)所述支撐條沿第二方向延伸且沿第一方向依次排列,且所述支撐條設(shè)置于所述遮擋條遠(yuǎn)離所述掩膜條的一側(cè);
所述支撐條與所述遮擋條的交疊位置連接在一起。
可選的,所述支撐條與所述遮擋條的連接位置設(shè)置有第三凹槽,連接材料設(shè)置于所述第三凹槽內(nèi);和/或,所述遮擋條與所述支撐條的連接位置設(shè)置有第四凹槽,連接材料設(shè)置于所述第四凹槽內(nèi)。
可選的,所述第三凹槽的深度大于或等于所述支撐條的厚度的0.1倍,且小于或等于所述支撐條的厚度的0.5倍;
所述第四凹槽的深度大于或等于所述遮擋條的厚度的0.1倍,且小于或等于所述遮擋條的厚度的0.5倍。
可選的,該掩膜版還包括:
框架,所述支撐條、所述遮擋條以及所述掩膜條均固定于所述框架上,且所述金屬框架設(shè)置于所述支撐條遠(yuǎn)離所述遮擋條的一側(cè)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于昆山國(guó)顯光電有限公司,未經(jīng)昆山國(guó)顯光電有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201920954687.0/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種自動(dòng)門的驅(qū)動(dòng)裝置
- 下一篇:骰子投擲盒
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





