[實用新型]一種掩膜版

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201920954687.0
• 申請日: 2019-06-24
• 公開（公告）號: CN210856314U
• 公開（公告）日: 2020-06-26
• 發(fā)明（設計）人: 王恩霞;呂孝鵬;李偉麗;劉明星;甘帥燕
• 申請（專利權）人: 昆山國顯光電有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 北京遠智匯知識產(chǎn)權代理有限公司 11659
• 代理人: 張海英

1.一種掩膜版，其特征在于，包括：

基礎掩膜版和用于支撐所述基礎掩膜版的多個支撐條；所述基礎掩膜版包括多個蒸鍍開口區(qū)，每一所述蒸鍍開口區(qū)包括多個蒸鍍開口；每一所述支撐條包括主體部和多個凸出部，所述主體部與所述基礎掩膜版的蒸鍍開口區(qū)之外的區(qū)域?qū)恳凰鐾钩霾颗c所述基礎掩膜版的一個蒸鍍開口區(qū)相對應，且所述凸出部在所述基礎掩膜版的垂直投影與所述蒸鍍開口區(qū)至少部分交疊。

2.根據(jù)權利要求1所述的掩膜版，其特征在于：

所述蒸鍍開口區(qū)的形狀為矩形或圓形。

3.根據(jù)權利要求1所述的掩膜版，其特征在于：

所述凸出部在所述蒸鍍開口區(qū)的垂直投影的形狀為三角形、多邊形、圓形、半圓形或橢圓形。

4.根據(jù)權利要求1所述的掩膜版，其特征在于：

所述基礎掩膜版包括多個掩膜條，每一所述掩膜條包括多個蒸鍍開口區(qū)，所述多個掩膜條沿第一方向延伸且沿第二方向依次排列；

掩膜版還包括多個遮擋條，所述遮擋條沿所述第一方向延伸，且沿第二方向依次排列；所述遮擋條用于遮擋相鄰兩個所述掩膜條之間的縫隙，其中，所述第一方向和所述第二方向相互交叉；

所述遮擋條與所述掩膜條的交疊位置連接在一起。

5.根據(jù)權利要求4所述的掩膜版，其特征在于：

所述掩膜條與所述遮擋條的連接位置設置有第一凹槽，連接材料設置于所述第一凹槽內(nèi)；和/或，所述遮擋條與所述基礎掩膜版的連接位置設置有第二凹槽，連接材料設置于所述第二凹槽內(nèi)。

6.根據(jù)權利要求5所述的掩膜版，其特征在于：

所述第一凹槽的深度大于或等于所述掩膜條的厚度的0.1倍，且小于或等于所述掩膜條的厚度的0.5倍；

所述第二凹槽的深度大于或等于所述遮擋條的厚度的0.1倍，且小于或等于所述遮擋條的厚度的0.5倍。

7.根據(jù)權利要求4所述的掩膜版，其特征在于:

多個所述支撐條沿第二方向延伸且沿第一方向依次排列,且所述支撐條設置于所述遮擋條遠離所述掩膜條的一側(cè)；

所述支撐條與所述遮擋條的交疊位置連接在一起。

8.根據(jù)權利要求7所述的掩膜版，其特征在于：

所述支撐條與所述遮擋條的連接位置設置有第三凹槽，連接材料設置于所述第三凹槽內(nèi)；和/或，所述遮擋條與所述支撐條的連接位置設置有第四凹槽，連接材料設置于所述第四凹槽內(nèi)。

9.根據(jù)權利要求8所述的掩膜版，其特征在于：

所述第三凹槽的深度大于或等于所述支撐條的厚度的0.1倍，且小于或等于所述支撐條的厚度的0.5倍；

所述第四凹槽的深度大于或等于所述遮擋條的厚度的0.1倍，且小于或等于所述遮擋條的厚度的0.5倍。

10.根據(jù)權利要求7所述的掩膜版，其特征在于，還包括：

金屬框架，所述支撐條、所述遮擋條以及所述掩膜條均固定于所述金屬框架上，且所述金屬框架設置于所述支撐條遠離所述遮擋條的一側(cè)。