[實用新型]一種半導(dǎo)體設(shè)備蝕刻裝置霧化器部件專用清洗支架有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201920953913.3 | 申請日： | 2019-06-24 |
| 公開（公告）號： | CN210160126U | 公開（公告）日： | 2020-03-20 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 朱光宇;賀賢漢;李泓波;張正偉;王松朋;陳智慧 | 申請（專利權(quán)）人： | 富樂德科技發(fā)展（大連）有限公司 |
| 主分類號： | B08B13/00 | 分類號： | B08B13/00 |
| 代理公司： | 大連智高專利事務(wù)所(特殊普通合伙) 21235 | 代理人： | 蓋小靜 |
| 地址： | 116600 遼寧省大連市保稅區(qū)*** | 國省代碼： | 遼寧;21 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 半導(dǎo)體設(shè)備 蝕刻 裝置 霧化器 部件 專用 清洗 支架 | ||
1.一種半導(dǎo)體設(shè)備蝕刻裝置霧化器部件專用清洗支架，其特征在于，包括支架A和支架B；所述支架A包括底板A(11)和支撐板A(12)，支撐板A(12)一側(cè)與底板A(11)垂直連接，支撐板A(12)另一側(cè)設(shè)置有V型槽A(15)，V型槽A(15)與定位槽A(13)相連，定位槽A(13)兩側(cè)分別設(shè)置卡槽A(14)；所述支架B的底板B(1)上依次垂直設(shè)置支撐板B(2)、支撐板C(5)和支撐板D(9)，支撐板B(2)一側(cè)設(shè)有V型槽B(4)，支撐板B(2)上還設(shè)有定位孔(3)，支撐板C(5)一側(cè)設(shè)置有V型槽C(8)，V型槽C(8)與定位槽B(7)相連，定位槽B(7)兩側(cè)分別設(shè)置卡槽B(6)，支撐板D(9)一側(cè)設(shè)有V型槽D(10)，當支架A和支架B相連時，支撐板A(12)一面與支撐板C(5)一面貼合，定位槽A(13)和定位槽B(7)相通，卡槽B(6)和對應(yīng)的卡槽A(14)通過鍵連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種半導(dǎo)體設(shè)備蝕刻裝置霧化器部件專用清洗支架，其特征在于，所述底板B(1)上設(shè)置有用于安裝支撐板B(2)、支撐板C(5)和支撐板D(9)的安裝槽，支撐板B(2)、支撐板C(5)和支撐板D(9)通過螺栓與底板B(1)安裝；底板A(11)上設(shè)置有用于安裝支撐板A(12)的安裝槽，底板A(11)與支撐板A(12)通過螺栓安裝。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種半導(dǎo)體設(shè)備蝕刻裝置霧化器部件專用清洗支架，其特征在于，所述V型槽C(8)和V型槽D(10)的斜面位置相對應(yīng)。
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