[實用新型]凹面陣列的石墨烯-金屬異質(zhì)結(jié)光電探測器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201920946522.9 | 申請日: | 2019-06-21 |
| 公開(公告)號: | CN210272383U | 公開(公告)日: | 2020-04-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李全福;張祺;朱小虎;彭慧玲;劉衛(wèi)華;宋輝;李廷會;劉林生;汪海船;黃瑞 | 申請(專利權(quán))人: | 廣西師范大學(xué) |
| 主分類號: | H01L31/0236 | 分類號: | H01L31/0236;H01L31/11 |
| 代理公司: | 北京中濟(jì)緯天專利代理有限公司 11429 | 代理人: | 石燕妮 |
| 地址: | 541004 廣西壯*** | 國省代碼: | 廣西;45 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 凹面 陣列 石墨 金屬 異質(zhì)結(jié) 光電 探測器 | ||
本實用新型公開了一種能夠增加了受光面,增加石墨烯對光的吸收,避免轉(zhuǎn)移過程對石墨烯造成的破壞的凹面陣列的石墨烯?金屬異質(zhì)結(jié)光電探測器。該凹面陣列的石墨烯?金屬異質(zhì)結(jié)光電探測器,包括襯底;所述襯底上由下至上依次設(shè)置有絕緣層、生長層、石墨烯層;所述襯底上設(shè)置有陣列分布的向下凹陷的凹槽;所述絕緣層上設(shè)置有與凹槽匹配的第一凸面;所述生長層上設(shè)置有第二凸面;所述石墨烯層上設(shè)置有第三凸面;所述石墨烯層的第三凸面的內(nèi)凹槽內(nèi)壁上設(shè)置有增透層;所述石墨烯層上第三凸面內(nèi)凹槽的兩側(cè)分別設(shè)置有波浪形叉指的高功函電極和低功函電極。采用該凹面陣列的石墨烯?金屬異質(zhì)結(jié)光電探測器,具有體積小,集成度高,識別范圍廣等特點。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及通訊和傳感器領(lǐng)域,尤其是一種凹面陣列的石墨烯-金屬異質(zhì)結(jié)光電探測器。
背景技術(shù)
眾所周知的:光電探測器的原理是由輻射引起被照射材料電導(dǎo)率發(fā)生改變。光電探測器在軍事和國民經(jīng)濟(jì)的各個領(lǐng)域有廣泛用途。在可見光或近紅外波段主要用于射線測量和探測、工業(yè)自動控制、光度計量等;在紅外波段主要用于導(dǎo)彈制導(dǎo)、紅外熱成像、紅外遙感等方面。
現(xiàn)在的石墨烯光電探測器的主流結(jié)構(gòu)都是平面結(jié)構(gòu),因此受光面較小,石墨烯對光的吸收較少,并且一般的石墨烯光電探測器都是將制備好的石墨烯轉(zhuǎn)移到探測器基底上,因此轉(zhuǎn)移過程石墨烯容易造成的破壞。
實用新型內(nèi)容
本實用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種能夠增加了受光面,增加石墨烯對光的吸收,避免轉(zhuǎn)移過程對石墨烯造成的破壞的凹面陣列的石墨烯-金屬異質(zhì)結(jié)光電探測器。
本實用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:凹面陣列的石墨烯-金屬異質(zhì)結(jié)光電探測器,包括襯底;所述襯底上由下至上依次設(shè)置有絕緣層、生長層、石墨烯層;
所述襯底上設(shè)置有一個或者陣列分布的向下凹陷的凹槽;所述絕緣層上設(shè)置有向下凸起,且與凹槽匹配的第一凸面;所述凹槽與第一凸面一一對應(yīng);
所述生長層上設(shè)置有向下凸起,且與第一凸面的內(nèi)凹槽匹配的第二凸面;所述第一凸面的內(nèi)凹槽與第二凸面一一對應(yīng);
所述石墨烯層上設(shè)置有向下凸起,且與第二凸面的內(nèi)凹槽匹配的第三凸面;所述第二凸面的內(nèi)凹槽與第三凸面一一對應(yīng);
所述石墨烯層的第三凸面的內(nèi)凹槽內(nèi)壁上設(shè)置有增透層;所述石墨烯層上第三凸面內(nèi)凹槽的兩側(cè)分別設(shè)置有波浪形叉指的高功函電極和低功函電極。
具體的,所述襯底上設(shè)置有3X3陣列分布的向下凹陷的凹槽。
進(jìn)一步的,所述絕緣層采用二氧化硅薄膜。
優(yōu)選的,所述凹槽為半球形凹槽。
優(yōu)選的,所述生長層采用先沉積Cu或Au或Ag或Mo或Gr,厚度為30至70納米,再沉積Ni,厚度為30至70納米的生長層;或者所述生長層位直接沉積的一層30至70納米的三氧化二鋁。
進(jìn)一步的,所述石墨烯層采用CVD法直接在生長層上生長的石墨烯薄膜;且石墨烯薄膜的層數(shù)為1~10層。
優(yōu)選的,所述增透層采用厚度為30~100納米的二氧化硅薄膜。
具體的,所述低功函電極采用鈦(Ti)、鉑(Pt)、錳(Mn)、鋰(Li)、或鋁(Al);厚度為50~100納米。
具體的,所述高功函電極采用金(Au)、銀(Ag)、鎳(Ni)或鈀(Pd),厚度為50~100納米。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





