[實(shí)用新型]一種交接裝置、半導(dǎo)體設(shè)備以及半導(dǎo)體生產(chǎn)線有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201920917080.5 | 申請(qǐng)日: | 2019-06-18 |
| 公開(公告)號(hào): | CN209804622U | 公開(公告)日: | 2019-12-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉凱;董洪波;王剛 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/677 | 分類號(hào): | H01L21/677;H01L21/268;H01L21/324 |
| 代理公司: | 11332 北京品源專利代理有限公司 | 代理人: | 胡彬 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體生產(chǎn)線 半導(dǎo)體設(shè)備 本實(shí)用新型 交接裝置 處理面 轉(zhuǎn)動(dòng) 集成電路裝備 朝上放置 朝下放置 翻轉(zhuǎn)裝置 放置工位 節(jié)省空間 帶動(dòng)片 制造 | ||
1.一種交接裝置,包括本體(1)以及片叉(2),所述本體(1)能帶動(dòng)所述片叉(2)運(yùn)動(dòng),所述片叉(2)被配置為吸附工件,其特征在于,所述片叉(2)能相對(duì)所述本體(1)轉(zhuǎn)動(dòng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的交接裝置,其特征在于,所述片叉(2)的轉(zhuǎn)軸與待放置工位的上表面平行。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的交接裝置,其特征在于,所述片叉(2)上設(shè)置有吸附組件,所述吸附組件被配置為吸附所述工件,所述吸附組件的吸附面與所述工件的表面相貼合。
4.一種半導(dǎo)體設(shè)備,其特征在于,包括如權(quán)利要求1所述交接裝置(100)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的半導(dǎo)體設(shè)備,其特征在于,所述工件包括沿豎直方向設(shè)置的鍵合層(203)和硅片層(204),至少部分所述硅片層(204)從所述鍵合層(203)的一側(cè)伸出,所述半導(dǎo)體設(shè)備還包括:
旋轉(zhuǎn)臺(tái)(300),被配置為放置所述工件;以及
檢測(cè)裝置(400),設(shè)置于所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)(300)的上方,且被配置為采集所述硅片層(204)的邊緣信息。
6.一種半導(dǎo)體生產(chǎn)線,其特征在于,包括如權(quán)利要求4或5所述的半導(dǎo)體設(shè)備。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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