[實用新型]一種微尺度ITO電極的加工裝置

有效

• 申請號: 201920888976.5
• 申請日: 2019-06-13
• 公開（公告）號: CN209766123U
• 公開（公告）日: 2019-12-10
• 發明（設計）人: 王賽杰;殷藝;陳良;馬蕊;劉連坤;武森;劉志堅
• 申請（專利權）人: 大連海事大學
• 主分類號: H01B13/00
• 分類號: H01B13/00;H01B13/30
• 代理公司: 21212 大連東方專利代理有限責任公司
• 代理人: 姜威威;李洪福

本實用新型公開了一種微尺度ITO電極的加工裝置，屬于微電極加工技術領域，該刻蝕裝置包括凈化模塊、干燥模塊、等離子清洗模塊和刻蝕進程監測電路模塊。清除ITO玻璃片表面有機物的有機物清除凈化單元與清除ITO玻璃片和PDMS片表面的無機物的無機物清除凈化單元；干燥模塊將ITO玻璃片與PDMS片進行干燥處理；ITO玻璃與PDMS片經過等離子清洗模塊處理之后鍵合得到微流控芯片；刻蝕進程監測電路模塊用于監控和顯示微流控芯片是否完成ITO玻璃的刻蝕，該裝置能夠實現在ITO玻璃片上刻蝕最小寬度為1微米的高精度電極；通過LED燈珠亮滅實時監控刻蝕進程，避免刻蝕不足和刻蝕過度等問題。

技術領域

本實用新型涉及微電極加工技術領域尤其涉及一種微尺度ITO電極的加工裝置。

背景技術

ITO導電玻璃因具有良好導電性、高透光性、易加工等優點，在智能手機、平板電腦、大屏觸控等領域具有廣泛的應用。根據具體要求對ITO玻璃進行刻蝕是生產和研究中幾乎無法避免的重要一環，而刻蝕工藝的精度水平又往往限制著ITO玻璃的應用范圍和使用效果，因而ITO玻璃的精密刻蝕技術成為當前研究的熱點之一。

ITO玻璃的刻蝕方法主要分為兩種，即干法刻蝕和濕法刻蝕。干法刻蝕主要使用激光作為工具，該方法刻蝕效率較高，能夠在較短時間內刻蝕大量具有較為復雜的圖案ITO玻璃。但是該方法的不足之處在于對激光光源的要求較高，從而增加刻蝕成本。并且由于光散射效應，當刻蝕寬度小于100微米的電極時，對激光發射器提的要求大大提高。因此，受制于激光雕刻機的刻蝕精度和引進成本，該刻蝕方法在ITO精密刻蝕領域難以推廣。濕法刻蝕主要使用酸溶液利用化學反應刻蝕掉導電玻璃表面的錫摻雜氧化銦薄膜。該方法在玻璃刻蝕技術領域應用最為廣泛，技術也最為成熟，但是該方法普遍存在刻蝕液的浪費及廢液污染問題，并且濕法刻蝕的最小線寬普遍大于50微米，而線寬小于50微米時電極呈現出明顯的鋸齒狀邊緣，精度極低，該方法主要用于工業生產，難以滿足實驗室等對線寬和精度要求較高的場合。

實用新型內容

目前濕法刻蝕存在刻蝕液的浪費及廢液污染問題，并且濕法刻蝕的精度普遍不高，刻蝕高精度電極所需要的步驟往往較為繁瑣，并且對操作人員的要求較高，實用新型公開了一種微尺度ITO電極的加工裝置，包括凈化模塊、干燥模塊、刻蝕進程監測電路模塊和等離子清洗模塊，

所述凈化模塊包括用于清除ITO玻璃片表面有機物的有機物清除凈化單元與清除ITO玻璃片和PDMS片表面的無機物的無機物清除凈化單元；

所述干燥模塊將所述凈化模塊清除凈化后得到的ITO玻璃片與PDMS片進行干燥處理；

所述等離子清洗模塊將表面潔凈干燥的ITO玻璃和PDMS片進行等離子清洗處理；

其中ITO玻璃與PDMS片鍵合得到微流控芯片；

所述刻蝕進程監測電路模塊用于監控和顯示微流控芯片是否完成ITO玻璃的刻蝕。

所述干燥模塊包括風干單元和烘干單元，所述風干單元包括用馬達驅動的風扇、軟管和噴嘴，所述軟管的一端通過殼體上出風口延伸至殼體的外部，軟管的另一端的放置在所述風扇正面的底部；所述噴嘴和所述軟管的另一端相連接；

所述烘干單元包括加熱板、調節加熱板溫度的溫度調節器、顯示加熱板表面溫度的溫度顯示器和固定壓片夾，所述溫度調節器與所述加熱板和所述溫度顯示器相連接，所述壓片夾通過螺栓固定在加熱板上。

進一步地，所述有機物清除凈化單元采用可移動丙酮溶液浸泡容器，所述無機物清除凈化單元采用超聲波清洗裝置；

進一步地，該裝置，還包括外殼體，所述凈化模塊、干燥模塊、等離子清洗模塊和刻蝕進程監測電路模塊安裝在所述外殼體的內部；