[實用新型]用于化學(xué)氣相沉積裝置中生長碳納米管陣列的石英舟結(jié)構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201920872455.0 | 申請日： | 2019-06-11 |
| 公開（公告）號： | CN210796614U | 公開（公告）日： | 2020-06-19 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 汪小知;張亮;沈龍;胡海洋 | 申請（專利權(quán)）人： | 杭州英希捷科技有限責(zé)任公司 |
| 主分類號： | C23C16/448 | 分類號： | C23C16/448;C23C16/26;C01B32/16 |
| 代理公司： | 杭州求是專利事務(wù)所有限公司 33200 | 代理人： | 林超 |
| 地址： | 311215 浙江省杭州市蕭山經(jīng)濟*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 化學(xué) 沉積 裝置 生長 納米 陣列 石英 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種用于化學(xué)氣相沉積裝置中生長碳納米管陣列的石英舟結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述的石英舟結(jié)構(gòu)包括石英舟主體(1)和在石英舟主體(1)表面的多個卡槽(2)，卡槽中用來放置生長碳納米管陣列的基底；卡槽為布置于石英舟主體(1)上表面的截面為U形的條形槽，條形槽的兩端非封閉，多個卡槽相平行間隔布置且位于石英舟主體(1)上表面的中部；
所述的石英舟主體(1)為上端開口的方形殼體結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于化學(xué)氣相沉積裝置中生長碳納米管陣列的石英舟結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述的石英舟主體(1)表面布置有三個卡槽。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種用于化學(xué)氣相沉積裝置中生長碳納米管陣列的石英舟結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述的石英舟主體(1)的長10厘米，寬4厘米，高1厘米，外壁寬0.4厘米。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于化學(xué)氣相沉積裝置中生長碳納米管陣列的石英舟結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述的卡槽(2)長7厘米，高度低于1厘米，單個卡槽的槽寬為0.1-0.2厘米。
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C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆，例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
