[實用新型]圖形化掩膜層、存儲器

有效

• 申請號: 201920860918.1
• 申請日: 2019-06-10
• 公開（公告）號: CN209785878U
• 公開（公告）日: 2019-12-13
• 發明（設計）人: 周震
• 申請（專利權）人: 長鑫存儲技術有限公司
• 主分類號: H01L21/027
• 分類號: H01L21/027;H01L21/8239
• 代理公司: 31294 上海盈盛知識產權代理事務所(普通合伙)
• 代理人: 孫佳胤;董琳

1.一種圖形化掩膜層，其特征在于，包括：

若干陣列分布的子掩膜圖形；

位于所述子掩膜圖形側壁表面的側墻。

2.根據權利要求1所述的圖形化掩膜層，其特征在于，所述子掩膜圖形平行排列。

3.根據權利要求1所述的圖形化掩膜層，其特征在于，各子掩膜圖形的形狀、尺寸均相同。

4.根據權利要求1所述的圖形化掩膜層，其特征在于，所述子掩膜圖形所在區域外圍的邊緣區域的輪廓至少包括部分曲線。

5.根據權利要求4所述的圖形化掩膜層，其特征在于，所述曲線的弧度大于一預設值。

6.一種存儲器，其特征在于，包括：

襯底，所述襯底內形成有多個陣列排列的有源區；

所述有源區以權利要求1至5中任一項所述的圖形化掩膜層為掩膜對所述襯底刻蝕而成。