[實用新型]片式元件及其表面處理系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201920845276.8
• 申請日: 2019-06-04
• 公開（公告）號: CN210432096U
• 公開（公告）日: 2020-04-28
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 徐立陽
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市鴻信順電子材料有限公司
• 主分類號: H05K3/34
• 分類號: H05K3/34;H05K13/04
• 代理公司: 深圳大域知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44479
• 代理人: 肖華

本實用新型公開了一種片式元件及其表面處理系統(tǒng)，用于解決片式元件在回流焊工藝中容易出現(xiàn)位移、墓碑、跳片現(xiàn)象的技術(shù)問題。本片式元件包括元件本體，以及附著在所述元件本體的、用于與線路板上的焊盤焊接的金屬復(fù)合層，從內(nèi)到外所述金屬復(fù)合層依次包括銀或銅層、鎳鍍層及錫鍍層，所述錫鍍層的表面具有保護(hù)膜層，所述保護(hù)膜層的氣化溫度低于所述回流焊工藝的溫度。所述表面處理系統(tǒng)包括用于成膜前處理的化學(xué)清洗設(shè)備、第一沖洗設(shè)備及第一浸泡設(shè)備；成膜設(shè)備；用于成膜后處理的第二沖洗設(shè)備、漂洗設(shè)備、第二浸泡設(shè)備及烘干設(shè)備。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及片式元件及片式元件的表面處理系統(tǒng)，更具體地說，是一種可防止回流焊時產(chǎn)生位移、墓碑及跳片現(xiàn)象的片式元件，以及用于片式元件的、以防止片式元件在回流焊工藝中產(chǎn)生位移、墓碑及跳片現(xiàn)象的表面處理系統(tǒng)。

背景技術(shù)

常見的片式元件包括電容、電阻、電感等。片式元件的尺寸規(guī)格從0805型或者更大尺寸規(guī)格逐漸發(fā)展到0603型、0402型、0201型、01005型…，逐漸向小型化發(fā)展。

小型化的片式元件在回流焊時有時會出現(xiàn)位移、墓碑、跳片等現(xiàn)象，造成焊性不良。經(jīng)過研究發(fā)現(xiàn)，造成上述焊性不良的原因是片式元件端頭的錫鍍層受到了污染、氧化或者有劃擦傷，導(dǎo)致在回流焊工藝中潤濕力不平衡。

在上述研究的基礎(chǔ)上，實用新型了一種表面處理工藝及表面處理系統(tǒng)，通過該表面處理工藝及表面處理系統(tǒng)改變片式元件的構(gòu)造，可以避免片式元件在回流焊工藝中出現(xiàn)位移、墓碑、跳片等現(xiàn)象。基于此提出了本專利申請。

實用新型內(nèi)容

本實用新型的第一目的是提供一種片式元件，以解決片式元件在回流焊工藝中容易出現(xiàn)位移、墓碑、跳片現(xiàn)象的技術(shù)問題。

本實用新型的第二目的是提供一種表面處理系統(tǒng)，以解決片式元件在回流焊工藝中容易出現(xiàn)位移、墓碑、跳片現(xiàn)象的技術(shù)問題。

為達(dá)上述第一目的，本實用新型提供的一種片式元件包括元件本體，以及附著在所述元件本體的、用于與線路板上的焊盤焊接的金屬復(fù)合層，從內(nèi)到外所述金屬復(fù)合層依次包括銀或銅層、鎳鍍層及錫鍍層，其中，所述錫鍍層的表面具有保護(hù)膜層，所述保護(hù)膜層的氣化溫度低于所述回流焊工藝的溫度。

優(yōu)選地，所述保護(hù)膜層的氣化溫度介于100攝氏度至230攝氏度之間。

為達(dá)上述第二目的，本實用新型提供的一種表面處理系統(tǒng)用于處理片式元件，防止片式元件在回流焊工藝中產(chǎn)生位移、墓碑及跳片現(xiàn)象，所述表面處理系統(tǒng)包括：用于對片式元件化學(xué)清洗、以修復(fù)其錫鍍層的化學(xué)清洗設(shè)備；用于對化學(xué)清洗后的片式元件進(jìn)行水沖洗處理的第一沖洗設(shè)備；用于對水沖洗后的片式元件進(jìn)行水浸泡的第一浸泡設(shè)備；用于對水浸泡后的片式元件熱浸鍍成膜的成膜設(shè)備；用于對成膜后的片式元件進(jìn)行水沖洗的第二沖洗設(shè)備；用于對成膜并沖洗后的片式元件進(jìn)行水漂洗的漂洗設(shè)備；用于對水漂洗后的片式元件進(jìn)行酒精浸泡的第二浸泡設(shè)備；以及用于對酒精浸泡后的片式元件進(jìn)行烘干的烘干設(shè)備。

優(yōu)選地，所述化學(xué)清洗設(shè)備為超聲清洗機(jī)。

優(yōu)選地，所述成膜設(shè)備為超聲清洗機(jī)。

優(yōu)選地，所述烘干設(shè)備的工作溫度介于70攝氏度至120攝氏度之間可調(diào)。

優(yōu)選地，所述第一沖洗設(shè)備、所述第一浸泡設(shè)備、所述第二沖洗設(shè)備和所述漂洗設(shè)備均包括水槽。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型至少具有以下有益效果：

由于錫鍍層表面具有保護(hù)膜層，能夠防止錫鍍層氧化和污染，從而能夠避免因錫鍍層氧化和污染而導(dǎo)致片式元件在回流焊工藝中出現(xiàn)位移、墓碑、跳片現(xiàn)象。

保護(hù)膜層的氣化溫度低于回流焊工藝溫度，在回流焊工藝中，該保護(hù)膜層氣化使片式元件端頭的潤濕力更平衡，進(jìn)一步可以促進(jìn)片式元件在回流焊工藝中不易出現(xiàn)位移、墓碑、跳片現(xiàn)象。