[實(shí)用新型]片式元件及其表面處理系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201920845276.8
• 申請(qǐng)日: 2019-06-04
• 公開（公告）號(hào): CN210432096U
• 公開（公告）日: 2020-04-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 徐立陽(yáng)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳市鴻信順電子材料有限公司
• 主分類號(hào): H05K3/34
• 分類號(hào): H05K3/34;H05K13/04
• 代理公司: 深圳大域知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44479
• 代理人: 肖華

1.一種片式元件，所述片式元件可防止在回流焊工藝中產(chǎn)生位移、墓碑及跳片現(xiàn)象，所述片式元件包括元件本體，以及附著在所述元件本體的、用于與線路板上的焊盤焊接的金屬?gòu)?fù)合層，從內(nèi)到外所述金屬?gòu)?fù)合層依次包括銀或銅層、鎳鍍層及錫鍍層，其特征在于，所述錫鍍層的表面具有保護(hù)膜層，所述保護(hù)膜層的氣化溫度低于所述回流焊工藝的溫度。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的片式元件，其特征在于，所述保護(hù)膜層的氣化溫度介于100攝氏度至230攝氏度之間。

3.一種表面處理系統(tǒng)，用于處理片式元件，防止片式元件在回流焊工藝中產(chǎn)生位移、墓碑及跳片現(xiàn)象，其特征在于，所述表面處理系統(tǒng)包括：

用于對(duì)片式元件化學(xué)清洗、以修復(fù)其錫鍍層的化學(xué)清洗設(shè)備；

用于對(duì)化學(xué)清洗后的片式元件進(jìn)行水沖洗處理的第一沖洗設(shè)備；

用于對(duì)水沖洗后的片式元件進(jìn)行水浸泡的第一浸泡設(shè)備；

用于對(duì)水浸泡后的片式元件熱浸鍍成膜的成膜設(shè)備；

用于對(duì)成膜后的片式元件進(jìn)行水沖洗的第二沖洗設(shè)備；

用于對(duì)成膜并沖洗后的片式元件進(jìn)行水漂洗的漂洗設(shè)備；

用于對(duì)水漂洗后的片式元件進(jìn)行酒精浸泡的第二浸泡設(shè)備；以及

用于對(duì)酒精浸泡后的片式元件進(jìn)行烘干的烘干設(shè)備。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的表面處理系統(tǒng)，其特征在于，所述化學(xué)清洗設(shè)備為超聲清洗機(jī)。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的表面處理系統(tǒng)，其特征在于，所述成膜設(shè)備為超聲清洗機(jī)。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的表面處理系統(tǒng)，其特征在于，所述烘干設(shè)備的工作溫度介于70攝氏度至120攝氏度之間可調(diào)。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的表面處理系統(tǒng)，其特征在于，所述第一沖洗設(shè)備、所述第一浸泡設(shè)備、所述第二沖洗設(shè)備和所述漂洗設(shè)備均包括水槽。