[實(shí)用新型]化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201920839291.1 | 申請(qǐng)日: | 2019-06-03 |
| 公開(公告)號(hào): | CN210104068U | 公開(公告)日: | 2020-02-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 胡丹;朱劉;余明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廣東先導(dǎo)先進(jìn)材料股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C16/34 | 分類號(hào): | C23C16/34;C23C16/44 |
| 代理公司: | 北京五洲洋和知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11387 | 代理人: | 張婷婷;張向琨 |
| 地址: | 511500 廣東省清*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 化學(xué) 沉積 系統(tǒng) | ||
本實(shí)用新型提供了一種化學(xué)氣相沉積系統(tǒng),其包括沉積室、加熱室、模具以及加熱裝置。沉積室具有第一反應(yīng)腔;第二反應(yīng)腔;進(jìn)氣口,連通于第一反應(yīng)腔和第二反應(yīng)腔;出氣口,連通于第一反應(yīng)腔和第二反應(yīng)腔。加熱室位于沉積室的周向外側(cè)。模具設(shè)置于沉積室的第一反應(yīng)腔和第二反應(yīng)腔內(nèi)。加熱裝置設(shè)置于加熱室內(nèi)。由于第一反應(yīng)腔和第二反應(yīng)腔均可接收原料且在加熱裝置的作用下均能到達(dá)原料發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的溫度,因此在第一反應(yīng)腔和第二反應(yīng)腔內(nèi)的原料均可發(fā)生化學(xué)反應(yīng)、反應(yīng)后的目的生成物聚集在模具上以形成產(chǎn)品,從而提高了產(chǎn)品的生產(chǎn)效率、降低了生產(chǎn)成本。基于沉積室的雙層結(jié)構(gòu),本申請(qǐng)尤其適用于大批量生產(chǎn),擴(kuò)大了化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)的應(yīng)用范圍。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及化學(xué)氣相沉積技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)。
背景技術(shù)
由于熱解氮化硼制品具有優(yōu)越的物理性能(純度高達(dá)99.99%,表面致密、氣密性好;耐高溫,耐酸、堿、鹽及有機(jī)試劑,且高溫與絕大多數(shù)熔融金屬、半導(dǎo)體等材料不浸潤(rùn)、不反應(yīng);抗熱震性好,熱導(dǎo)性好,熱膨脹系數(shù)低;電阻高、介電強(qiáng)度高、介電常數(shù)小、磁損耗角正切低;良好的透微波和紅外線性能)、且在力學(xué)、熱學(xué)、電學(xué)等等性能上有著明顯的各向異性,因此其被廣泛的應(yīng)用作半導(dǎo)體單晶及Ⅲ-Ⅴ族化合物合成用的坩堝、基座。近年來(lái),隨著半導(dǎo)體材料的蓬勃發(fā)展,熱解氮化硼制品的需求量日漸增多。
熱解氮化硼屬于特種陶瓷材料,化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(也稱化學(xué)氣相沉積爐)是制備其的主要設(shè)備,且用化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)制備的熱解氮化硼制品的純度高、密度高、強(qiáng)度高、成品率高。
目前,化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)制備的熱解氮化硼制品的數(shù)量取決于系統(tǒng)內(nèi)放置的模具數(shù)量,由于現(xiàn)有的制備熱解氮化硼的化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)一般只具有一個(gè)沉積腔室,放置模具的位置也只有一層,因而限制了生產(chǎn)熱解氮化硼制品的數(shù)量,從而大大的增加了熱解氮化硼制品的生產(chǎn)成本(尤其是當(dāng)需要大批量工業(yè)化生產(chǎn)時(shí))。
實(shí)用新型內(nèi)容
鑒于背景技術(shù)中存在的問(wèn)題,本實(shí)用新型的目的在于提供一種化學(xué)氣相沉積系統(tǒng),其提高了產(chǎn)品的生產(chǎn)效率、降低了生產(chǎn)成本,擴(kuò)大了化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)的應(yīng)用范圍。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供了一種化學(xué)氣相沉積系統(tǒng),其包括沉積室、加熱室、模具以及加熱裝置。沉積室具有:第一反應(yīng)腔;第二反應(yīng)腔,在上下方向上位于第一反應(yīng)腔上方;進(jìn)氣口,連通于第一反應(yīng)腔和第二反應(yīng)腔;以及出氣口,連通于第一反應(yīng)腔和第二反應(yīng)腔。加熱室位于沉積室的周向外側(cè)。模具分別設(shè)置于沉積室的第一反應(yīng)腔和第二反應(yīng)腔內(nèi)。加熱裝置設(shè)置于加熱室內(nèi),用于為沉積室的第一反應(yīng)腔和第二反應(yīng)腔提供熱源。
沉積室包括:第一上壁;第一下壁,與第一上壁沿上下方向間隔設(shè)置;第一側(cè)壁,沿上下方向延伸并連接于第一上壁和第一下壁;以及分隔壁,在上下方向上位于第一上壁與第一下壁之間并連接于第一側(cè)壁。分隔壁與第一下壁、第一側(cè)壁一起形成第一反應(yīng)腔,分隔壁與第一上壁、第一側(cè)壁一起形成第二反應(yīng)腔。
加熱室包括:第二上壁,位于第一上壁周向外側(cè)并連接于第一上壁;第二下壁,位于第一下壁周向外側(cè)并連接于第一下壁;以及第二側(cè)壁,位于第一側(cè)壁周向外側(cè)、沿上下方向延伸并連接于第二上壁和第二下壁。加熱裝置設(shè)置于第一側(cè)壁與第二上壁、第二下壁、第二側(cè)壁一起圍成的腔體內(nèi)。
沉積室還具有:通孔,沿上下方向貫穿設(shè)置于分隔壁,以使第一反應(yīng)腔連通于第二反應(yīng)腔。
進(jìn)氣口設(shè)置于第一上壁,出氣口設(shè)置于第一下壁。或者,進(jìn)氣口設(shè)置于第一下壁,出氣口設(shè)置于第一上壁。
分隔壁為密封結(jié)構(gòu)。進(jìn)氣口包括:第一進(jìn)氣口,設(shè)置于第一下壁;以及第二進(jìn)氣口,設(shè)置于第一上壁。出氣口包括:第一出氣口,設(shè)置于第一側(cè)壁處于第一下壁與分隔壁之間的部分;以及第二出氣口,設(shè)置于第一側(cè)壁處于第一上壁與分隔壁之間的部分。第一進(jìn)氣口和第一出氣口連通于第一反應(yīng)腔,第二進(jìn)氣口和第二出氣口連通于第二反應(yīng)腔。
加熱室設(shè)置有排氣孔。第一出氣口和第二出氣口連通于加熱室。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過(guò)氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過(guò)浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無(wú)機(jī)材料為特征的
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