[實用新型]化學氣相沉積系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201920839291.1 | 申請日: | 2019-06-03 |
| 公開(公告)號: | CN210104068U | 公開(公告)日: | 2020-02-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 胡丹;朱劉;余明 | 申請(專利權(quán))人: | 廣東先導(dǎo)先進材料股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/34 | 分類號: | C23C16/34;C23C16/44 |
| 代理公司: | 北京五洲洋和知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11387 | 代理人: | 張婷婷;張向琨 |
| 地址: | 511500 廣東省清*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 化學 沉積 系統(tǒng) | ||
1.一種化學氣相沉積系統(tǒng),其特征在于,
化學氣相沉積系統(tǒng)包括沉積室(1)、加熱室(2)、模具(3)以及加熱裝置(4);
沉積室(1)具有:第一反應(yīng)腔(11);第二反應(yīng)腔(12),在上下方向(Z)上位于第一反應(yīng)腔(11)上方;進氣口(13),連通于第一反應(yīng)腔(11)和第二反應(yīng)腔(12);以及出氣口(14),連通于第一反應(yīng)腔(11)和第二反應(yīng)腔(12);
加熱室(2)位于沉積室(1)的周向外側(cè);
模具(3)分別設(shè)置于沉積室(1)的第一反應(yīng)腔(11)和第二反應(yīng)腔(12)內(nèi);
加熱裝置(4)設(shè)置于加熱室(2)內(nèi),用于為沉積室(1)的第一反應(yīng)腔(11)和第二反應(yīng)腔(12)提供熱源。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學氣相沉積系統(tǒng),其特征在于,
沉積室(1)包括:第一上壁(1A);第一下壁(1B),與第一上壁(1A)沿上下方向(Z)間隔設(shè)置;第一側(cè)壁(1C),沿上下方向(Z)延伸并連接于第一上壁(1A)和第一下壁(1B);以及分隔壁(1D),在上下方向(Z)上位于第一上壁(1A)與第一下壁(1B)之間并連接于第一側(cè)壁(1C);
分隔壁(1D)與第一下壁(1B)、第一側(cè)壁(1C)一起形成第一反應(yīng)腔(11),分隔壁(1D)與第一上壁(1A)、第一側(cè)壁(1C)一起形成第二反應(yīng)腔(12)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的化學氣相沉積系統(tǒng),其特征在于,
加熱室(2)包括:第二上壁(2A),位于第一上壁(1A)周向外側(cè)并連接于第一上壁(1A);第二下壁(2B),位于第一下壁(1B)周向外側(cè)并連接于第一下壁(1B);以及第二側(cè)壁(2C),位于第一側(cè)壁(1C)周向外側(cè)、沿上下方向(Z)延伸并連接于第二上壁(2A)和第二下壁(2B);
加熱裝置(4)設(shè)置于第一側(cè)壁(1C)與第二上壁(2A)、第二下壁(2B)、第二側(cè)壁(2C)一起圍成的腔體內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的化學氣相沉積系統(tǒng),其特征在于,沉積室(1)還具有:通孔(15),沿上下方向(Z)貫穿設(shè)置于分隔壁(1D),以使第一反應(yīng)腔(11)連通于第二反應(yīng)腔(12)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的化學氣相沉積系統(tǒng),其特征在于,
進氣口(13)設(shè)置于第一上壁(1A),出氣口(14)設(shè)置于第一下壁(1B);
或者,進氣口(13)設(shè)置于第一下壁(1B),出氣口(14)設(shè)置于第一上壁(1A)。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的化學氣相沉積系統(tǒng),其特征在于,
分隔壁(1D)為密封結(jié)構(gòu);
進氣口(13)包括:第一進氣口(13A),設(shè)置于第一下壁(1B);以及第二進氣口(13B),設(shè)置于第一上壁(1A);
出氣口(14)包括:第一出氣口(14A),設(shè)置于第一側(cè)壁(1C)處于第一下壁(1B)與分隔壁(1D)之間的部分;以及第二出氣口(14B),設(shè)置于第一側(cè)壁(1C)處于第一上壁(1A)與分隔壁(1D)之間的部分;
第一進氣口(13A)和第一出氣口(14A)連通于第一反應(yīng)腔(11),第二進氣口(13B)和第二出氣口(14B)連通于第二反應(yīng)腔(12)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的化學氣相沉積系統(tǒng),其特征在于,
加熱室(2)設(shè)置有排氣孔(2D);
第一出氣口(14A)和第二出氣口(14B)連通于加熱室(2)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學氣相沉積系統(tǒng),其特征在于,
化學氣相沉積系統(tǒng)還包括保溫結(jié)構(gòu)(5);
保溫結(jié)構(gòu)(5)設(shè)置于第一反應(yīng)腔(11)和第二反應(yīng)腔(12)內(nèi);和/或
保溫結(jié)構(gòu)(5)設(shè)置于加熱室(2)內(nèi)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的化學氣相沉積系統(tǒng),其特征在于,
設(shè)置于第一反應(yīng)腔(11)中的模具(3)支撐在保溫結(jié)構(gòu)(5)上方;
設(shè)置于第二反應(yīng)腔(12)中的模具(3)懸掛在保溫結(jié)構(gòu)(5)下方。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學氣相沉積系統(tǒng),其特征在于,
設(shè)置于第一反應(yīng)腔(11)中的模具(3)在數(shù)量上為一個或多個;
設(shè)置于第二反應(yīng)腔(12)中的模具(3)在數(shù)量上為一個或多個。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





