[實用新型]一種真空濺射鍍膜機(jī)的進(jìn)氣系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201920799435.5
• 申請日: 2019-05-30
• 公開（公告）號: CN210176937U
• 公開（公告）日: 2020-03-24
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張德軍
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市創(chuàng)基真空科技有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型涉及一種真空濺射鍍膜機(jī)的進(jìn)氣系統(tǒng)，其包括進(jìn)氣箱體，所述進(jìn)氣箱體上連接有進(jìn)氣管道，所述進(jìn)氣管道與進(jìn)氣箱體連通；所述進(jìn)氣箱體內(nèi)設(shè)有擋板，所述擋板的三條邊與進(jìn)氣箱體內(nèi)壁連接，另一條邊靠近進(jìn)氣箱體內(nèi)壁，與進(jìn)氣箱體內(nèi)壁之間形成進(jìn)氣間隙；所述進(jìn)氣箱體底部沿其軸向開設(shè)有至少兩個進(jìn)氣孔。本實用新型具有進(jìn)氣均勻，鍍膜效果更好，模具表面膜厚更均勻，平整的效果。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及真空濺射鍍膜機(jī)的技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種真空濺射鍍膜機(jī)的進(jìn)氣系統(tǒng)。

背景技術(shù)

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件表面而形成薄膜的一種方法。真空鍍膜廣泛應(yīng)用在在模具的保護(hù)上，鍍膜可協(xié)助模具散熱、延長模具使用壽命、增加脫膜性與成型率、提升產(chǎn)品良率等。

真空鍍膜方法包括陰極濺射鍍膜法，這種方法是將作為膜的靶材放在陰極上，將需鍍膜的基體放在陰極對面，把惰性氣體如氬氣通入已抽空的室內(nèi)，保持壓強(qiáng)約1.33～13.3P導(dǎo)向殼體，然后將陰極接上2000V的直流電源，激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。參考授權(quán)公告號為CN204769364U的實用新型專利，由于批量生產(chǎn)的要求，傳統(tǒng)的陰極濺射鍍膜機(jī)真空室內(nèi)放置有多個模具，模具上安裝有進(jìn)氣管道，氣體從進(jìn)氣管道一端的進(jìn)氣口通入真空室，從而對模具進(jìn)行鍍膜。

上述中的現(xiàn)有技術(shù)方案存在以下缺陷：氣體從單一進(jìn)氣口進(jìn)入真空室，無法均勻分散在靶材附近，很容易導(dǎo)致模具上膜鍍得不均勻，甚至導(dǎo)致模具遠(yuǎn)離進(jìn)氣口的部分的膜厚未達(dá)到要求，無法很好的保護(hù)模具以及改善模具特性，影響模具質(zhì)量。

實用新型內(nèi)容

本實用新型的目的是提供一種真空濺射鍍膜機(jī)的進(jìn)氣系統(tǒng)，其具有進(jìn)氣均勻，鍍膜效果更好，模具表面膜厚更均勻，平整的效果。

本實用新型的上述實用新型目的是通過以下技術(shù)方案得以實現(xiàn)的：

一種真空濺射鍍膜機(jī)的進(jìn)氣系統(tǒng)，包括進(jìn)氣箱體，所述進(jìn)氣箱體上連接有進(jìn)氣管道，所述進(jìn)氣管道與進(jìn)氣箱體連通；所述進(jìn)氣箱體內(nèi)設(shè)有擋板，所述擋板的三條邊與進(jìn)氣箱體內(nèi)壁連接，另一條邊靠近進(jìn)氣箱體內(nèi)壁，與進(jìn)氣箱體內(nèi)壁之間形成進(jìn)氣間隙；所述進(jìn)氣箱體底部沿其軸向開設(shè)有至少兩個進(jìn)氣孔。

通過采用上述技術(shù)方案，入射離子從進(jìn)氣管道進(jìn)入進(jìn)氣箱體，由于入射離子具有較高的動能，快速在進(jìn)氣箱體內(nèi)擴(kuò)散，入射離子在進(jìn)氣箱體內(nèi)壁經(jīng)過不斷碰撞與反射，以不同的角度從進(jìn)氣孔射出，更利于加快入射離子的快速擴(kuò)散，更快更均勻的撞擊多個靶材，利于提高模具表面鍍膜的均勻度，鍍膜效果更好，提高模具品質(zhì)。入射離子與靶材撞擊的角度對濺射率有非常大的影響，便于根據(jù)實際情況，如靶材的材料，入射離子的原子量大小，更靈活的調(diào)整入射離子與靶材的撞擊角度，提高濺射率，在保證質(zhì)量的同時，提高薄膜的濺射速率。

本實用新型進(jìn)一步設(shè)置為：所述擋板遠(yuǎn)離進(jìn)氣管道的一面逐層設(shè)有若干個下一擋板，相鄰兩個擋板與進(jìn)氣箱體內(nèi)壁之間形成的進(jìn)氣間隙分別設(shè)于進(jìn)氣箱體相對的兩側(cè)。

通過采用上述技術(shù)方案，入射離子的動能是比較大的，如果直接從進(jìn)口進(jìn)入真空室，很容易產(chǎn)生壓差，不同靶材之間濺射出的原子數(shù)量和角度差別比較大，非常容易造成鍍膜的不均勻；入射離子通過進(jìn)氣間隙在擋板之間流通，且進(jìn)氣間隙交錯設(shè)置，擋板越多，入射離子碰撞與反射的路程越長，空間越大，入射離子從進(jìn)氣孔進(jìn)入真空室的角度、速度更多樣化，利于入射離子更均勻的撞擊靶材。再加上入射離子的布朗運(yùn)動，充滿整個真空室，鍍膜更加均勻。本實用新型通過多個擋板逐層設(shè)置擋板并控制進(jìn)氣間隙的位置，既能達(dá)到更好的效果，又利于大大縮短進(jìn)氣系統(tǒng)占用的體積。

本實用新型進(jìn)一步設(shè)置為：所述進(jìn)氣箱體內(nèi)從上到下分別設(shè)有第一擋板、第二擋板與第三擋板；所述第一擋板與箱體內(nèi)壁之間形成第一進(jìn)氣間隙，所述第二擋板與箱體內(nèi)壁之間形成第二進(jìn)氣間隙，所述第三擋板與箱體內(nèi)壁之間形成第三進(jìn)氣間隙，所述第一進(jìn)氣間隙與第三進(jìn)氣間隙設(shè)于進(jìn)氣箱體同一側(cè)，所述第一進(jìn)氣間隙與第二進(jìn)氣間隙分別設(shè)于進(jìn)氣箱體兩側(cè)。