[實用新型]一種真空濺射鍍膜機的進氣系統

有效

• 申請號: 201920799435.5
• 申請日: 2019-05-30
• 公開（公告）號: CN210176937U
• 公開（公告）日: 2020-03-24
• 發明（設計）人: 張德軍
• 申請（專利權）人: 深圳市創基真空科技有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種真空濺射鍍膜機的進氣系統，其特征在于：包括進氣箱體（1），所述進氣箱體（1）上連接有進氣管道（3），所述進氣管道（3）與進氣箱體（1）連通；所述進氣箱體（1）內設有擋板，所述擋板的三條邊與進氣箱體（1）內壁連接，另一條邊靠近進氣箱體（1）內壁，與進氣箱體（1）內壁之間形成進氣間隙；所述進氣箱體（1）底部沿其軸向開設有至少兩個進氣孔（10）。

2.根據權利要求1所述的一種真空濺射鍍膜機的進氣系統，其特征在于：所述擋板遠離進氣管道（3）的一面逐層設有若干個下一擋板，相鄰兩個擋板與進氣箱體（1）內壁之間形成的進氣間隙分別設于進氣箱體（1）相對的兩側。

3.根據權利要求2所述的一種真空濺射鍍膜機的進氣系統，其特征在于：所述進氣箱體（1）內從上到下分別設有第一擋板（4）、第二擋板（6）與第三擋板（7）；所述第一擋板（4）與箱體內壁之間形成第一進氣間隙（5），所述第二擋板（6）與箱體內壁之間形成第二進氣間隙（8），所述第三擋板（7）與箱體內壁之間形成第三進氣間隙（9），所述第一進氣間隙（5）與第三進氣間隙（9）設于進氣箱體（1）同一側，所述第一進氣間隙（5）與第二進氣間隙（8）分別設于進氣箱體（1）兩側。

4.根據權利要求3所述的一種真空濺射鍍膜機的進氣系統，其特征在于：所述進氣孔（10）均勻設置在進氣箱體（1）底部。

5.根據權利要求1所述的一種真空濺射鍍膜機的進氣系統，其特征在于：所述進氣箱體（1）底部連接有導向殼體（11），所述導向殼體（11）底部均勻開設有若干個導氣孔（15），所述導氣孔（15）的數量大于進氣孔（10）的數量。

6.根據權利要求5所述的一種真空濺射鍍膜機的進氣系統，其特征在于：所有所述導氣孔（15）覆蓋的面積大于所有進氣孔（10）覆蓋的面積。

7.根據權利要求6所述的一種真空濺射鍍膜機的進氣系統，其特征在于：所述進氣孔（10）與導氣孔（15）均為錐臺狀。

8.根據權利要求1所述的一種真空濺射鍍膜機的進氣系統，其特征在于：所述真空濺射鍍膜機包括真空室（16），模具（17）安裝于真空室（16）內，所述真空室（16）內環繞模具（17）設有若干個靶材（18）；所述進氣箱體（1）設于真空室（16）頂壁或側壁，所述進氣孔（10）與真空室（16）連通。