[實用新型]一種高效散熱的等離子弧割炬有效
| 申請號: | 201920715564.1 | 申請日: | 2019-05-16 |
| 公開(公告)號: | CN210024078U | 公開(公告)日: | 2020-02-07 |
| 發明(設計)人: | 潘宇鋒 | 申請(專利權)人: | 常州九圣焊割設備股份有限公司 |
| 主分類號: | B23K10/00 | 分類號: | B23K10/00;H05H1/34 |
| 代理公司: | 32328 常州智慧騰達專利代理事務所(普通合伙) | 代理人: | 曹軍 |
| 地址: | 213000 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 噴嘴 絕緣件 內套管 電極底座 冷卻氣室 電極 保護罩 本實用新型 氣體分配室 外部 離子氣流 套管組件 保護氣 導氣槽 分配器 割炬 等離子弧割炬 高效散熱 散熱效果 外部大氣 上端套 下端套 上端 圍設 連通 收容 | ||
本實用新型公開一種高效散熱的等離子弧割炬,其包括割炬本體、套管組件及保護罩,割炬本體包括絕緣件、收容于絕緣件內的電極底座、設于電極底座下端的電極以及套設在電極的外部的分配器及噴嘴,絕緣件與電極底座之間設置有導氣槽,噴嘴與電極之間設置有離子氣流室,套管組件包括內套管,內套管的上端套設在絕緣件的下端的外部,內套管的下端套設在噴嘴的上端的外部,內套管與絕緣件之間設置有冷卻氣室,保護罩套設在噴嘴的外部,保護罩與噴嘴之間設置有保護氣室,內套管、絕緣件、分配器及噴嘴圍設形成氣體分配室,氣體分配室與導氣槽、離子氣流室、保護氣室及冷卻氣室均連通。本實用新型的氣體經由冷卻氣室流入至外部大氣中,提升了散熱效果。
技術領域
本實用新型涉及等離子焊割技術領域,特別地,涉及一種高效散熱的等離子弧割炬。
背景技術
割炬時氣焊的重要工具,工作時,割炬產生等離子弧射向工件表面,等離子弧內部粒子對工件表面產生巨大的沖擊力,釋放出大量能量從而使工件材料局部融化并汽化,從而形成切口,以實現切割功能。等離子弧割炬在工作過程中會產生大量的熱量,目前散熱的方式通常是在噴口外部套設一個具有通孔的保護罩,熱量經由該通孔排出,但是,其僅能夠對弧柱周圍的熱量起到一定的散熱效果,無法對其他位置起到良好的散熱效果,長時間工作會降低割炬的使用壽命。
實用新型內容
本實用新型所要解決的技術問題是:為了克服現有技術中存在的上述問題,現提供一種高效散熱的等離子弧割炬。
本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是:一種高效散熱的等離子弧割炬,包括割炬本體、套管組件及保護罩,所述割炬本體包括絕緣件、收容于所述絕緣件內的電極底座、設于所述電極底座下端的電極以及套設在所述電極的外部的分配器及噴嘴,所述分配器位于所述絕緣件與所述噴嘴之間,所述絕緣件與所述電極底座之間設置有導氣槽,所述噴嘴與所述電極之間設置有離子氣流室,所述套管組件包括內套管,所述內套管的上端套設在所述絕緣件的下端的外部,所述內套管的下端套設在所述噴嘴的上端的外部,所述內套管與所述絕緣件之間設置有冷卻氣室,所述保護罩套設在所述噴嘴的外部,所述保護罩與所述噴嘴之間設置有保護氣室,所述內套管、絕緣件、分配器及噴嘴圍設形成氣體分配室,所述氣體分配室與所述導氣槽、所述離子氣流室、所述保護氣室及所述冷卻氣室均連通。
進一步地,所述割炬本體還包括套設在所述絕緣件外部的割炬底座,所述絕緣件的下端伸出至所述割炬底座的外部,所述冷卻氣室由所述絕緣件的外壁與所述內套管的內壁之間的空間構成,所述割炬底座的側壁上開設有與所述冷卻氣室連通的進氣口及與外部大氣連通的出氣口,所述絕緣件的外壁與所述割炬底座的內壁之間的空間構成出氣室,所述出氣室與所述進氣口及所述出氣口均連通。
進一步地,所述電極底座的外壁與所述絕緣件的外壁相貼合,所述導氣槽開設在所述電極底座的外壁上。
進一步地,所述離子氣流室由所述噴嘴的內壁及所述電極的外壁之間的空間構成,所述分配器上開設有分配孔,所述分配孔與所述氣體分配室及所述離子氣流室均連通。
進一步地,所述電極的外壁上沿所述電極的徑向向外延伸形成有第二抵持緣,所述分配器的內壁上沿所述分配器的徑向向內延伸形成有第三抵持緣,所述第三抵持緣位于所述第二抵持緣的下方并與所述第二抵持緣相抵持,所述噴嘴的上端面上沿所述噴嘴的軸向向下凹陷形成有限位凹槽,所述分配器的下端與所述限位凹槽的槽壁相抵持。
進一步地,所述內套管與所述割炬底座螺紋連接,所述內套管的下端的內壁上沿所述內套管的徑向向內延伸形成第一凸緣,所述噴嘴的上端的外壁上沿所述噴嘴的徑向向外延伸形成第二凸緣,所述第一凸緣上端面與所述第二凸緣的下端面相抵持,所述第一凸緣上開設有通氣孔,所述通氣孔與所述氣體分配室及所述保護氣室均連通。
進一步地,所述保護氣室由所述保護罩的內壁與所述噴嘴的外壁之間的空間構成,所述噴嘴的底部開設有與所述離子氣流室連通的噴口,所述保護罩的底部開設有與所述保護氣室連通的出氣孔,所述出氣孔與所述噴口連通。
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