[實用新型]一種高效散熱的等離子弧割炬

有效

• 申請號: 201920715564.1
• 申請日: 2019-05-16
• 公開（公告）號: CN210024078U
• 公開（公告）日: 2020-02-07
• 發明（設計）人: 潘宇鋒
• 申請（專利權）人: 常州九圣焊割設備股份有限公司
• 主分類號: B23K10/00
• 分類號: B23K10/00;H05H1/34
• 代理公司: 32328 常州智慧騰達專利代理事務所(普通合伙)
• 代理人: 曹軍

1.一種高效散熱的等離子弧割炬，其特征在于：包括割炬本體、套管組件及保護罩，所述割炬本體包括絕緣件、收容于所述絕緣件內的電極底座、設于所述電極底座下端的電極以及套設在所述電極的外部的分配器及噴嘴，所述分配器位于所述絕緣件與所述噴嘴之間，所述絕緣件與所述電極底座之間設置有導氣槽，所述噴嘴與所述電極之間設置有離子氣流室，所述套管組件包括內套管，所述內套管的上端套設在所述絕緣件的下端的外部，所述內套管的下端套設在所述噴嘴的上端的外部，所述內套管與所述絕緣件之間設置有冷卻氣室，所述保護罩套設在所述噴嘴的外部，所述保護罩與所述噴嘴之間設置有保護氣室，所述內套管、絕緣件、分配器及噴嘴圍設形成氣體分配室，所述氣體分配室與所述導氣槽、所述離子氣流室、所述保護氣室及所述冷卻氣室均連通。

2.如權利要求1所述的高效散熱的等離子弧割炬，其特征在于：所述割炬本體還包括套設在所述絕緣件外部的割炬底座，所述絕緣件的下端伸出至所述割炬底座的外部，所述冷卻氣室由所述絕緣件的外壁與所述內套管的內壁之間的空間構成，所述割炬底座的側壁上開設有與所述冷卻氣室連通的進氣口及與外部大氣連通的出氣口，所述絕緣件的外壁與所述割炬底座的內壁之間的空間構成出氣室，所述出氣室與所述進氣口及所述出氣口均連通。

3.如權利要求1所述的高效散熱的等離子弧割炬，其特征在于：所述電極底座的外壁與所述絕緣件的外壁相貼合，所述導氣槽開設在所述電極底座的外壁上。

4.如權利要求1所述的高效散熱的等離子弧割炬，其特征在于：所述離子氣流室由所述噴嘴的內壁及所述電極的外壁之間的空間構成，所述分配器上開設有分配孔，所述分配孔與所述氣體分配室及所述離子氣流室均連通。

5.如權利要求4所述的高效散熱的等離子弧割炬，其特征在于：所述電極的外壁上沿所述電極的徑向向外延伸形成有第二抵持緣，所述分配器的內壁上沿所述分配器的徑向向內延伸形成有第三抵持緣，所述第三抵持緣位于所述第二抵持緣的下方并與所述第二抵持緣相抵持，所述噴嘴的上端面上沿所述噴嘴的軸向向下凹陷形成有限位凹槽，所述分配器的下端與所述限位凹槽的槽壁相抵持。

6.如權利要求2所述的高效散熱的等離子弧割炬，其特征在于：所述內套管與所述割炬底座螺紋連接，所述內套管的下端的內壁上沿所述內套管的徑向向內延伸形成第一凸緣，所述噴嘴的上端的外壁上沿所述噴嘴的徑向向外延伸形成第二凸緣，所述第一凸緣上端面與所述第二凸緣的下端面相抵持，所述第一凸緣上開設有通氣孔，所述通氣孔與所述氣體分配室及所述保護氣室均連通。

7.如權利要求6所述的高效散熱的等離子弧割炬，其特征在于：所述保護氣室由所述保護罩的內壁與所述噴嘴的外壁之間的空間構成，所述噴嘴的底部開設有與所述離子氣流室連通的噴口，所述保護罩的底部開設有與所述保護氣室連通的出氣孔，所述出氣孔與所述噴口連通。

8.如權利要求1所述的高效散熱的等離子弧割炬，其特征在于：所述套管組件還包括套設在內套管外部的絕緣套以及套設在所述絕緣套下端的外部的外套管，所述保護罩壓接在所述外套管的外部。

9.如權利要求1所述的高效散熱的等離子弧割炬，其特征在于：所述割炬本體還包括通氣管，所述通氣管的下端伸入至所述電極的空腔內，所述通氣管的外壁與所述電極的內壁之間的空間構成第一冷卻氣腔，所述通氣管的外壁與所述電極底座的內壁之間的空間構成第二冷卻氣腔，所述電極底座的側壁上開設有與所述導氣槽連通的通氣口，所述第二冷卻氣腔與所述第一冷卻氣腔及所述通氣口均連通。

10.如權利要求9所述的高效散熱的等離子弧割炬，其特征在于：所述電極的內底壁的中心處沿所述電極的軸向向上延伸形成有凸起，所述凸起的頂部伸入至所述通氣管內。