[實用新型]一種新型低壓化學(xué)氣相沉淀高真空系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201920715037.0 | 申請日: | 2019-05-19 |
| 公開(公告)號: | CN210065917U | 公開(公告)日: | 2020-02-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉洋 | 申請(專利權(quán))人: | 青島華旗科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/44 | 分類號: | C23C16/44 |
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| 地址: | 266000 山東*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 真空管道 機臺 機組骨架 羅茨泵 本實用新型 壓力調(diào)節(jié)閥 集灰板 上端面 干泵 冷阱 進氣口 高真空系統(tǒng) 安裝螺桿 抽氣法蘭 環(huán)形側(cè)面 灰塵清理 新型低壓 一端連接 中部位置 出氣口 工藝片 螺桿式 條形板 下端面 沉淀 潔凈 生長 | ||
本實用新型提供一種新型低壓化學(xué)氣相沉淀高真空系統(tǒng),包括機組骨架和機臺,所述機組骨架內(nèi)安裝螺桿式干泵,且機組骨架上端面安裝羅茨泵,所述羅茨泵通過管道與螺桿式干泵相連接,且羅茨泵上安裝真空管道一,所述真空管道一另一端安裝壓力調(diào)節(jié)閥,所述壓力調(diào)節(jié)閥另一端安裝快抽閥,所述快抽閥另一端安裝真空管道二,所述真空管道二另一端連接冷阱出氣口,且真空管道二環(huán)形側(cè)面上安裝慢抽閥,所述冷阱進氣口安裝抽氣法蘭,所述機臺下端面中部位置安裝U型條,且機臺下側(cè)設(shè)置集灰板,所述集灰板上端面中間位置安裝條形板,與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實用新型具有如下的有益效果:給工藝片的生長提供更好更潔凈的本底,機臺下側(cè)灰塵清理便捷。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型是一種新型低壓化學(xué)氣相沉淀高真空系統(tǒng),屬于低壓化學(xué)氣相沉淀工藝設(shè)備領(lǐng)域。
背景技術(shù)
低壓化學(xué)氣相沉積(LPCVD)系統(tǒng)用于集成電路、分立器件、MEMS等不同尺寸晶圓的薄膜沉積及摻雜等工藝。
目前,國內(nèi)廠家生產(chǎn)的同類產(chǎn)品中,通用型設(shè)備的極限真空度大多在0.8Pa-1Pa左右的范圍,工作真空度在1Pa-133Pa,真空腔室內(nèi)的本底真空會直接影響到工藝片的生長環(huán)境,特別是會影響工藝片的顆粒度等指標(biāo),工作真空度的局限也導(dǎo)致產(chǎn)品性能得不到進一步的提升,同時集聚在機臺下側(cè)地面上的灰塵,因空間狹小較難清理。
實用新型內(nèi)容
針對現(xiàn)有技術(shù)存在的不足,本實用新型目的是提供一種新型低壓化學(xué)氣相沉淀高真空系統(tǒng),以解決上述背景技術(shù)中提出真空腔室內(nèi)的本底真空會直接影響到工藝片的生長環(huán)境,特別是會影響工藝片的顆粒度等指標(biāo),工作真空度的局限也導(dǎo)致產(chǎn)品性能得不到進一步的提升,同時集聚在機臺下側(cè)地面上的灰塵,因空間狹小較難清理的問題,本實用新型給工藝片的生長提供更好更潔凈的本底,機臺下側(cè)灰塵清理便捷。
為了實現(xiàn)上述目的,本實用新型是通過如下的技術(shù)方案來實現(xiàn):一種新型低壓化學(xué)氣相沉淀高真空系統(tǒng),包括機組骨架和機臺,所述機組骨架內(nèi)安裝螺桿式干泵,且機組骨架上端面安裝羅茨泵,所述羅茨泵通過管道與螺桿式干泵相連接,且羅茨泵上安裝真空管道一,所述真空管道一另一端安裝壓力調(diào)節(jié)閥,所述壓力調(diào)節(jié)閥另一端安裝快抽閥,所述快抽閥另一端安裝真空管道二,所述真空管道二另一端連接冷阱出氣口,且真空管道二環(huán)形側(cè)面上安裝慢抽閥,所述慢抽閥另一端與真空管道一相連接,所述機臺內(nèi)部安裝真空工藝腔,所述冷阱進氣口安裝抽氣法蘭,所述抽氣法蘭與真空工藝腔固定連接,所述機臺下端面中部位置安裝U型條,且機臺下側(cè)設(shè)置集灰板,所述集灰板上端面中間位置安裝條形板,所述條形板上端安插在U型條內(nèi),所述集灰板下端面通過膠水粘貼海綿墊。
進一步地,所述慢抽閥為一種氣動隔膜閥。
進一步地,所述U型條左右兩端面上側(cè)邊緣處均等距安裝多組固定耳一,所述固定耳一通過螺絲與機臺固定連接。
進一步地,所述條形板左右兩端面下側(cè)邊緣處均等距安裝多組固定耳二,所述固定耳二通過螺絲與集灰板固定連接。
進一步地,所述真空管道一遠離羅茨泵的一端安裝真空規(guī)管,所述真空規(guī)管設(shè)置在壓力調(diào)節(jié)閥上側(cè)。
本實用新型的有益效果:本實用新型采用螺桿式干泵加羅茨泵的方式進行抽真空工作,將真空工藝腔的極限真空度提高到<1.0×10-1Pa,給工藝片的生長提供了更好更潔凈的本底,大大控制了工藝片的顆粒度問題,工作真空度達到0.1Pa-133Pa,使產(chǎn)品的性能指標(biāo)大大得到提升,通過將條形板安插在機臺上的U型條內(nèi),完成將集灰板鋪設(shè)在機臺下側(cè)地面上,同時集灰板上的海綿墊與地面接觸,進而利用集灰板遮擋機臺下側(cè)地面,繼而灰塵集聚在集灰板上,將集灰板從機臺下側(cè)抽出后,實現(xiàn)便捷清理機臺下側(cè)灰塵的目的。
附圖說明
通過閱讀參照以下附圖對非限制性實施例所作的詳細(xì)描述,本實用新型的其它特征、目的和優(yōu)點將會變得更明顯:
圖1為本實用新型一種新型低壓化學(xué)氣相沉淀高真空系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖;
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





